专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]螺旋传送器-CN201580069875.X有效
  • W·鲍克 - 安巴福莱克斯国际有限公司
  • 2015-12-24 - 2020-04-17 - B65G21/18
  • 4);以及无端点连环式传送构件,其用来将产品(G)运输通过传送路径(2),其中,在传送路径(2)的中心部分中,沿离开中心轴线(3)的径向方向观察,传送构件(8)设置有用来支撑产品(G)的向上指向的支撑表面(13),其中,沿离开中心轴线(3)的径向方向的支撑表面(13)的宽度小于中心轴线(3)和支撑表面(13)之间的距离的10%,并且在支撑表面(13)的相对两侧,传送路径(2)在支撑表面(13)的高度水平没有障碍物
  • 螺旋传送
  • [发明专利]用于电梯皮带的终端-CN201580069565.8有效
  • R.J.埃里克森 - 奥的斯电梯公司
  • 2015-12-18 - 2021-05-11 - B66B7/08
  • 一种用于电梯皮带(16)的终端组件(28)包括终端主体(40)和固定楔形件(48),所述固定楔形件(48)紧固到所述终端主体(40)并且具有多个固定楔形件表面(52)。移动楔形件(56)位于所述终端主体(40)中并且具有与所述固定楔形件表面(52)相互作用的多个移动楔形件表面(60)。当在所述移动楔形件(56)与所述终端主体(40)之间将电梯皮带(16)插入到所述终端主体(40)中并且向所述电梯皮带(16)施加拉力负荷时,推动所述移动楔形件表面(60)相对于所述固定楔形件表面(52)
  • 用于电梯皮带终端
  • [发明专利]一种提高铝板加工精度的工艺方法及装置-CN202110098838.9有效
  • 聂来兵 - 广东雅励新材料股份有限公司
  • 2021-01-25 - 2021-10-01 - B23P15/00
  • 本发明公开了一种提高铝板加工精度的工艺方法及装置,包括:将铝板夹持固定在加工装置上,测量放置后的铝板的水平度,对铝板进行加工定位,启动加工装置并进行切削加工,对铝板的加工表面进行去屑清理,对铝板的加工边缘进行整边去毛刺,加工装置更换刀具并对板材表面进行研磨精加工处理,清理铝板加工研磨后表面的浮沫,卸下铝板,在铝板表面进行保护膜的覆膜,储存铝板;夹持铝板减少相对位移所造成的加工误差,提高了加工的精度;清理废屑,避免废屑对加工过程造成影响,对铝板进行研磨,进一步提高了铝板的表面精度和质量。
  • 一种提高加工精度工艺方法装置
  • [发明专利]螺丝油渍清除装置-CN202080022054.1有效
  • 龚柱 - 泉州睿郎机电技术有限公司
  • 2020-10-29 - 2022-02-22 - B08B1/00
  • 一种螺丝油渍清除装置,其包括矩形箱体(1),矩形箱体的侧表面设置辊轮驱动装置,矩形箱体的侧表面设置控制器(2),矩形箱体的内表面设置螺丝油渍清除装置,矩形箱体的内表面下端设置油渍收集装置。螺丝油渍清除装置通过电机(8)的旋转带动传送带(6)旋转,摆动杆(14)可以对螺丝(0)起到固定的作用,传送带的旋转带动螺丝做环形运动,使螺丝移动到清理刷(22)的位置,达到清除螺丝外表面的效果。不同的辊轮(17,19)带动不同的清理刷进行旋转,利用从动轮(18,20)大小不同使清理刷之间具有一定的相对速度,达到使螺丝进行自转和增加接触面的效果。
  • 螺丝油渍清除装置
  • [发明专利]多平面微阵列-CN202011576866.9有效
  • M.S.鲍恩;M.格瑞奇;S.S.洪;J.A.穆恩;M.萧 - 亿明达股份有限公司
  • 2017-03-28 - 2022-08-30 - B01L3/00
  • 一种阵列,包括固体载体,所述固体载体具有沿着其外表面的多个轮廓。轮廓的第一子集沿着固体载体的外表面定位以形成第一特征图案,并且轮廓的第二子集沿着外表面定位以形成第二特征图案。第一子集的轮廓与第二子集的轮廓沿着外表面并置,由此第一图案和第二图案沿着外表面形成交错图案。第一图案的特征出现在第一高度z1处,第二图案的特征出现在第二高度z2处。第一图案的特征被配置为将分析物附接在相对于附接到第二图案的特征的分析物的不同高度处。
  • 平面阵列

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