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[发明专利]黄斑裂孔内界膜移植手术器械-CN201611010511.7在审
发明人：陈亦棋;沈丽君;赵士鑫;吴素兰;王君 -专利权人：温州医科大学附属眼视光医院
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： A61F9/007 文献下载
摘要：本发明公开了一种黄斑裂孔内界膜移植手术器械，其包括手柄；操作杆，所述操作杆与所述手柄首尾相连；弯折片，所述弯折片设置在所述操作杆端部，与所述操作杆成一夹角设置。本发明中的黄斑裂孔内界膜填塞手术器械，医生使用时可方便地将内界膜填充至黄斑裂孔内。即使内界膜大于裂孔，弯折片可自裂孔伸入黄斑下方，将内界膜填塞至黄斑以下，并将内界膜铺平。
黄斑裂孔内界膜移植手术器械

[实用新型]黄斑裂孔内界膜移植手术器械-CN201621231460.6有效
发明人：陈亦棋;沈丽君;赵士鑫;吴素兰;王君 -专利权人：温州医科大学附属眼视光医院
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： A61F9/007 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种黄斑裂孔内界膜移植手术器械，其包括手柄；操作杆，所述操作杆与所述手柄首尾相连；弯折片，所述弯折片设置在所述操作杆端部，与所述操作杆成一夹角设置。本实用新型中的黄斑裂孔内界膜填塞手术器械，医生使用时可方便地将内界膜填充至黄斑裂孔内。即使内界膜大于裂孔，弯折片可自裂孔伸入黄斑下方，将内界膜填塞至黄斑以下，并将内界膜铺平。
黄斑裂孔内界膜移植手术器械

[实用新型]内界膜镊-CN202022811275.7有效
发明人：殷杰;曹彬;万文倩;朱健 -专利权人：江苏地韵医疗科技有限公司
申请日： 2020-11-28 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： A61F9/007 文献下载
摘要：本实用新型公开了内界膜镊，包括镊子主体与保护罩，所述镊子主体的内侧开设有防滑槽，所述镊子主体的一端固定连接有镊头，所述镊头的一端设置有镊杆，所述镊杆的一端固定连接有一号镊夹与二号镊夹，所述一号镊夹与二号镊夹的外表面固定连接有灭菌层本实用新型所述的内界膜镊，采用医用级铝材制备，可重复灭菌，头部可更换，节省材料，更加环保，设有可拆保护罩，便于进行运输，具有消毒的作用，防止出现感染的情况，带来更好的使用前景。
内界膜镊

[发明专利]表面被覆切削工具-CN201580003733.3有效
发明人：阿侬萨克·帕索斯;金冈秀明;出谷隆典;今村晋也 -专利权人：住友电工硬质合金株式会社
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： B23B27/14 文献下载
摘要：根据本发明的表面被覆切削工具设置有基材、以及形成于所述基材上的覆膜，所述覆膜包括α‑Al₂O₃层，所述α‑Al₂O₃层包含多个α‑Al₂O₃的晶粒并且示出(001)取向，所述晶粒的粒界包括CSL粒界和一般粒界，并且CSL粒界中的Σ3晶界的长度超过Σ3‑29晶界长度的80％，并且为全部粒界的总长的10％以上50％以下，其中所述全部粒界的总长为所述Σ3‑29晶界的长度和所述一般粒界的长度的总和。
表面被覆切削工具

[发明专利]半导体装置、半导体装置的制造方法、半导体制造检查装置和检查装置-CN200910007501.1有效
发明人：加藤隆彦;中野广;赤星晴夫;高田裕二;须藤敬己;藤原彻男;菅野至;庄野友陵;广濑幸范 -专利权人：株式会社瑞萨科技
申请日： 2009-02-11 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： H01L23/532 文献下载
摘要：在该半导体装置中，通过确定阻挡膜和籽膜，且使晶界∑值27以下的对应(CSL)晶界占该Cu布线的全部晶界的比例(频度)为60％以上，能够把表面缺陷降低到能实用的现状级别的1/10以下。或者，在该半导体装置中，通过确定该阻挡膜和籽膜，且使晶界∑值3的对应(CSL)晶界占该Cu布线的全部晶界的比例(频度)为40％以上，能够得到同样的降低表面缺陷的效果。
半导体装置制造方法检查

[发明专利]用于移动机器人的流体致动器系统和方法-CN202180030806.3在审
发明人： J·周;L·帕克;T·A·斯威夫特 -专利权人：漫游机械人技术公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： A61H3/00 文献下载
摘要：所述可充胀致动器包括：不透流体的构件，所述不透流体的构件至少部分地通过膜材料来限定流体室；以及第一界面和第二界面，所述第一界面和所述第二界面各自限定侧壁，所述膜材料联接到所述第一界面和所述第二界面的所述侧壁
用于移动机器人流体致动器系统方法

[发明专利]一种极紫外波段超宽带多层膜的制备方法-CN201911222937.2在审
发明人：郭涛;喻波;金春水 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-12-03 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本申请公开了一种极紫外波段超宽带多层膜的制备方法，包括：制备不同周期厚度的Mo/Si周期性多层膜；得到第一界面扩散层的平均厚度及第二界面扩散层的平均厚度，并得到Mo膜层厚度、Si膜层厚度与基底公转速度的关系式；根据指标要求利用四层模型进行膜系设计，得到Mo、Si膜层厚度序列；根据Mo、Si膜层厚度序列及关系式制备极紫外波段超宽带多层膜。本申请公开的上述技术方案，将Mo膜层与Si膜层接触所形成的第一界面扩散层和第二界面扩散层分别视为单独的一层，并采用四层模型进行极紫外波段超宽带多层膜膜系设计及制备，从而提高极紫外波段超宽带多层膜的控制精度，以解决超宽带多层膜的实际制备反射率偏离设计值的问题。
一种紫外波段宽带多层制备方法

[发明专利]光学信息记录媒体及其制造方法和记录再现方法-CN03107671.8无效
发明人：北浦英树;西原孝史;坂上嘉孝;児岛理惠;山田升 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-03-17 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明的光学信息记录媒体，其特征在于，至少设置一层信息层，所述信息层从激光入射侧按顺序包含第1保护膜、第1界面膜、通过激光的照射其光学特性会可逆变化的记录膜、第2界面膜、第2保护膜及反射膜，第1界面膜包含从Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W及Si中至少选择一个元素的氧化物，第2界面膜包含碳或从Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W及Si中至少选择一个元素的碳化物。
光学信息记录媒体及其制造方法再现

[发明专利]光盘-CN200480020450.1无效
发明人：樋口政广 -专利权人：三洋电机株式会社;三洋码必刻媒体株式会社;福野最夫;草深孝也;儿玉康弘;前纳良昭;樋口政广
申请日： 2004-05-28 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：光盘10具有使用透明并在自然界中分解的塑料的基板12，在该基板12的信号记录面20上覆盖有反射膜14。该反射膜14由在自然界中分解的材料或自然界中存在的材料中的任意一种构成。上述印刷使用在自然界中分解的材料或自然界中存在的材料中的任意一种。
光盘

[实用新型]一种无损伤内界膜硅胶刷-CN202222483571.8有效
发明人：张营春;张莹 -专利权人：张营春
申请日： 2022-09-20 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： A61F9/007 文献下载
摘要：本实用新型提供一种无损伤内界膜硅胶刷，属于内界膜起瓣技术领域，以解决内界膜不易起瓣且易出现损伤视网膜组织的现象，传统内界膜起瓣装置多为一次性使用，加重了患者的经济负担；包括套管；所述套管内部滑动设置有滑动柱且滑动柱前端外侧设置有起瓣机构；应用硅胶可接受环氧乙烷灭菌的特点，可重复对硅胶刷进行灭菌使用；硅胶本身具有摩擦力，将硅胶刷设计成波浪状以增加摩擦力，更容易起瓣；再者，硅胶在增加摩擦力的同时，其不具有锋利性，大大降低了内界膜下视网膜组织损伤的几率
一种损伤内界膜硅胶

[实用新型]显示组件-CN201621491039.9有效
发明人：陈一鸣;江扬;何超辉;练文东;李烨 -专利权人：深圳市柔宇科技有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： H01L23/14 文献下载
摘要：一种显示组件，包括基板、柔性显示面板、第一界面层和膜材，所述第一界面层位于所述基板上朝向所述柔性显示面板的一侧，所述膜材位于所述基板和柔性显示面板之间或者位于所述柔性显示面板上背离所述基板的一侧。该显示组件中，通过第一界面层的设置，增加了膜材与基板的界面粘合力，使得膜材不易于从基板或柔性显示面板脱落，并减少膜材起翘的情况。
显示组件

[发明专利]一种高分子复合界媒制备工艺及其使用方法-CN202110399058.8有效
发明人：王璐娜;王露伟 -专利权人：淮北市硕华机械设备有限公司
申请日： 2021-04-14 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C09D125/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分子复合界媒制备工艺及其使用方法，属于界媒制备领域，一种高分子复合界媒制备工艺，通过成膜磁球的加入，面在制备过程中，通过磁性材料引导成膜磁球在混合乳液内沉浮，在沉浮过程中可以有效切割气泡，使形成的高分子复合界媒内空气含量较低，进而有效提高其质量，并最终可以在混合乳液表面相互吸附形成磁链网，磁链网可以作为高分子复合界媒上的一层屏障，有效拦截外界的空气的水汽渗入到本高分子复合界媒内，从而有效保护其不易被氧化，进而有效延长其使用寿命，在使用时，成膜磁球可以在界媒层部分表面形成隔膜层，减小整个界媒层与外界的接触面积，从而降低基体的干燥速度，降低开裂率，提高使用效果。
一种高分子复合制备工艺及其使用方法

[发明专利]形成多晶硅膜的方法、薄膜晶体管和显示装置-CN201310348944.3在审
发明人：孙榕德;李基龙;徐晋旭;郑珉在;李卓泳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-08-12 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：提供了一种形成多晶硅膜的方法、一种薄膜晶体管和显示装置。该形成多晶硅膜的方法包括：在基底上形成非晶硅膜；使金属催化剂吸附在非晶硅膜上；通过热处理使非晶硅膜结晶，以形成包括晶粒内部区域和残留有金属催化剂的晶界的多晶硅膜；提供对晶粒内部区域和晶界具有不同的氧化选择性的蚀刻剂；通过蚀刻剂蚀刻多晶硅膜的表面以去除残留在晶界上的金属催化剂。
形成多晶方法薄膜晶体管显示装置

[发明专利]人造角膜后界膜-CN201680018119.9有效
发明人：安吉拉·古特穆思 -专利权人：弗劳恩霍夫应用研究促进协会
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： A61K45/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备角膜内皮组织的方法和手段，并且提供一种结构化人造构造物，其实现了从人或动物体外的分离细胞新生成角膜内皮。
人造角膜后界膜

[发明专利]电解铜电镀用含磷铜阳极、其制造方法及电解铜电镀方法-CN201180005807.9有效
发明人：中矢清隆;喜多晃一;熊谷训;加藤直树;渡边真美 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-01-07 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C25D17/10 文献下载
摘要：通过对电镀用含磷铜实施加工而施加加工应变后，进行再结晶化热处理，可具有将阳极表面的铜晶粒的晶界的全部晶界长度L换算为每1mm2单位面积的单位全部晶界长度LN与将特殊晶界的全部特殊晶界长度Lσ换算为每1mm2单位面积的单位全部特殊晶界长度LσN的特殊晶界长度比率LσN/LN为0.4以上的晶界组织，在电解铜电镀初期均匀地形成黑膜，防止黑膜的脱落，从而减少电镀不良。
电解铜电镀用含磷铜阳极制造方法

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