专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种有机电致发光器件和显示装置-CN202110740721.6有效
  • 蔡明瀚;段炼;李国孟;李飞霞;刘俊;李梦真;王宏宇 - 昆山国显光电有限公司;清华大学
  • 2021-06-30 - 2023-04-18 - H10K50/11
  • 本发明提供一种有机电致发光器件和显示装置,有机电致发光器件包括阳极功能、第一电子阻挡、第二电子阻挡、发光以及阴极功能,阳极功能的表面包括邻接的第一区域和第二区域,第一电子阻挡设置于第一区域,第二电子阻挡设置于第二区域和第一阻挡远离阳极功能的表面,发光设置于第二阻挡远离阳极功能的表面;第一电子阻挡包括并列设置的红光电子阻挡和绿光电子阻挡,第二电子阻挡为蓝光电子阻挡;红光电子阻挡中的红光电子阻挡材料的HOMO能级和绿光电子阻挡中的绿光电子阻挡材料的HOMO能级均浅于蓝光电子阻挡中的蓝光电子阻挡材料的HOMO能级。
  • 一种有机电致发光器件显示装置
  • [发明专利]具有调制掺杂电子阻挡结构的深紫外LED及制备方法-CN202111463623.9在审
  • 张骏;陈云;张毅;岳金顺 - 苏州紫灿科技有限公司
  • 2021-12-02 - 2022-03-18 - H01L33/14
  • 本发明公开了一种具有调制掺杂电子阻挡结构的深紫外LED及其制备方法,该具有调制掺杂电子阻挡结构的深紫外LED包括依次层叠设置的蓝宝石衬底、AlN本征、n型AlGaN电子注入、量子阱有源、调制掺杂电子阻挡和p型AlGaN空穴注入,调制掺杂电子阻挡包括交替排布的若干第一阻挡和第二阻挡;第一阻挡和第二阻挡均含Mg掺杂,且第一阻挡的Mg掺杂浓度大于第二阻挡的Mg掺杂浓度;或者第一阻挡和第二阻挡均不含Mg掺杂,在第一阻挡与第二阻挡的界面处进行Mg掺杂。本发明通过对电子阻挡进行调制掺杂,提高了Mg掺杂效率,有效防止Mg向有源区扩散,提高了深紫外LED的发光效率。
  • 具有调制掺杂电子阻挡结构深紫led制备方法
  • [发明专利]一种具有电子阻挡能力的半导体发光元件-CN201811527526.X在审
  • 李建华;李全杰;刘向英 - 西安智盛锐芯半导体科技有限公司
  • 2018-12-13 - 2020-06-23 - H01L33/06
  • 本发明涉及一种具有电子阻挡能力的半导体发光元件,包括:衬底层;缓冲,位于所述衬底层上;N型半导体,位于所述缓冲上;N型掺杂,位于所述N型半导体上;量子阱发光,位于所述N型掺杂上;电子阻挡,位于所述量子阱发光上,所述电子阻挡包括依次层叠于量子阱发光上的第一电子阻挡、第二电子阻挡和第三电子阻挡;P型掺杂,位于所述电子阻挡上;P型半导体,位于所述P型掺杂上。本发明通过在量子阱发光依次层叠第一电子阻挡、第二电子阻挡和第三电子阻挡,从而能够有效阻止多于的电子从量子阱发光跃迁至P型半导体,改善发光二极管的发光效率。
  • 一种具有电子阻挡能力半导体发光元件
  • [发明专利]一种有机电致发光器件-CN202110021354.4在审
  • 李萌;高文正;黄金华;刘嵩 - 固安鼎材科技有限公司
  • 2021-01-08 - 2022-07-15 - H01L51/50
  • 本发明涉及一种有机电致发光器件,所述有机电致发光器件包括衬底基板、位于所述衬底基板上的阳极和阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光和有机功能;所述有机功能包括电子阻挡,所述电子阻挡包括第一电子阻挡材料和第二电子阻挡材料,所述第一电子阻挡材料与第二电子阻挡材料不同;所述第一电子阻挡材料具有式(1)所示的结构,所述第二电子阻挡材料具有式(2)所示的结构。本发明采用式(1)所示化合物与式(2)所示化合物共同作为电子阻挡材料配合使用,能够发挥出优于其本身的作用,两种材料协同作用,能够进一步提高器件的发光效率,降低驱动电压,同时延长使用寿命。
  • 一种有机电致发光器件
  • [发明专利]一种具有阶梯型电子阻挡结构的深紫外LED及制备方法-CN202011191645.X在审
  • 张骏;岳金顺;梁仁瓅 - 苏州紫灿科技有限公司
  • 2020-10-30 - 2021-02-19 - H01L33/14
  • 本发明公开了一种具有阶梯型电子阻挡结构的深紫外LED及其制备方法,该具有阶梯型电子阻挡结构的深紫外LED由下至上依次包括蓝宝石衬底、AlN本征、n型AlGaN电子注入、量子阱有源、阶梯型电子阻挡、p型AlGaN空穴注入和p型GaN接触。沿量子阱有源到p型AlGaN空穴注入的方向上,阶梯型电子阻挡依次包括第一AlGaN阻挡、GaN阻挡和第二AlGaN阻挡,第一AlGaN阻挡的Al组分含量百分数大于量子阱有源中势垒的Al组分含量百分数,且第二AlGaN阻挡的Al组分含量百分数大于或等于第一AlGaN阻挡的Al组分含量百分数。本发明通过引入阶梯型电子阻挡结构,提升了电子阻挡的等效势垒高度,缓解了电子溢流效应,从而提高了深紫外LED的发光效率。
  • 一种具有阶梯电子阻挡结构深紫led制备方法
  • [发明专利]一种发光二极管的外延片及制备方法-CN201710336067.6在审
  • 邢振远;李彤;王世俊;吴燕;薛亚芝 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2017-05-12 - 2017-11-07 - H01L33/14
  • 本发明公开了一种发光二极管的外延片及制备方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括衬底以及依次层叠在衬底上的N型、有源、第一电子阻挡、第二电子阻挡和P型,第一电子阻挡为AlxGa(1‑x)InP,第二电子阻挡为AlyIn(1‑y)P,第一电子阻挡中的Al的组分从靠近有源一侧向远离有源一侧逐渐增加,由于第一电子阻挡中的Al的组分从靠近有源一侧向远离有源一侧逐渐增加,因此第一电子阻挡的禁带宽度逐渐提高,使得第一电子阻挡的禁带宽度与有源的禁带宽度的差值增大,增强对电子的限制作用,第二电子阻挡也可以对电子进行阻挡,减少电子进入到P型中的数量,从而提高了发光效率。
  • 一种发光二极管外延制备方法
  • [发明专利]氮化物半导体发光元件-CN202210792526.2在审
  • 松仓勇介;希利尔·贝诺 - 日机装株式会社
  • 2022-07-05 - 2023-01-10 - H01L33/14
  • 氮化物半导体发光元件具备:活性,其具备至少1个阱;p型半导体,其位于活性的一侧;以及电子阻挡叠体,其位于活性与p型半导体之间。电子阻挡叠体具有:第1电子阻挡;以及第2电子阻挡,其位于比第1电子阻挡靠p型半导体侧的位置,并且Al组成比小于第1电子阻挡的Al组成比。在将活性中的阱的总数设为N,第1电子阻挡的膜厚设为膜厚d[nm],第2电子阻挡的Al组成比设为Al组成比x[%]时,第1电子阻挡的膜厚d满足0.1N+0.9≤d≤0.2N+2.0的关系,且第2电子阻挡的Al组成比x满足10N+40≤x≤10N+60的关系。
  • 氮化物半导体发光元件
  • [发明专利]一种远紫外LED器件及其制备方法-CN202210870699.1在审
  • 张骏;张毅;陈景文;岳金顺 - 苏州紫灿科技有限公司
  • 2022-07-22 - 2022-11-01 - H01L33/14
  • 本发明公开了一种远紫外LED器件及其制备方法,该远紫外LED器件包括依次层叠布置的蓝宝石衬底、AlN本征、n型AlGaN电子注入、电流扩展、多量子阱有源、第一调制掺杂电子阻挡、第二调制掺杂电子阻挡、p型AlGaN空穴注入和p型GaN接触;第一调制掺杂电子阻挡与第二调制掺杂电子阻挡均为Mg掺杂的AlGaN单层结构,且第一调制掺杂电子阻挡的掺杂浓度小于第二调制掺杂电子阻挡的掺杂浓度。本发明通过引入第一调制掺杂电子阻挡与第二调制掺杂电子阻挡,提升了对电子阻挡能力,能够显著改善远紫外LED的光谱杂峰,提升器件在220nm~240nm波段的发光效果。
  • 一种紫外led器件及其制备方法
  • [发明专利]氮化物半导体发光元件-CN201680055494.0有效
  • 朝田耕司;冈部德太郎 - 日亚化学工业株式会社
  • 2016-09-21 - 2020-09-04 - H01L33/32
  • 本发明的氮化物半导体发光元件具备n侧、p侧和活性,所述活性设置于所述n侧与所述p侧之间,且具有阱及势垒,所述阱包含Al、Ga和N,所述势垒包含Al、Ga和N且Al的含量大于所述阱;在活性与p侧之间具有电子阻挡结构电子阻挡结构具有:第1电子阻挡,其带隙大于势垒;第2电子阻挡,其设置于p侧与第1电子阻挡之间,具有大于势垒且小于第1电子阻挡的带隙;以及中间层,其设置于第1电子阻挡与第2电子阻挡之间,且带隙小于第2电子阻挡
  • 氮化物半导体发光元件

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