|
钻瓜专利网为您找到相关结果 3574802个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]光掩模和光掩模的制造方法-CN201910348874.9有效
-
山口昇
-
HOYA株式会社
-
2013-10-12
-
2022-06-07
-
G03F1/76
- 光掩模和光掩模的制造方法。光掩模在透明基板上具有用于形成第1薄膜图案的第1转印用图案,该光掩模的制造方法具有以下工序:准备光掩模坯体的工序,该光掩模坯体是在透明基板上依次形成了半透光膜和遮光膜而得到的;以及第1转印用图案形成工序,使用光刻工序,根据半透光膜和遮光膜形成第1转印用图案,其中,第1转印用图案具有如下形状,该形状用于通过曝光形成电子器件中的第1薄膜图案,并且包含曝光时使用的曝光装置无法分辨的线宽的标记图案,所述形状是为了形成电子器件中的第2薄膜图案而能够通过追加加工去除由标记图案划定的第1转印用图案的一部分的形状。
- 光掩模制造方法
|