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- [发明专利]研磨液组合物-CN02118591.3有效
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大岛良晓
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花王株式会社
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2002-04-26
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2002-12-11
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C09K3/14
- 含有磨料、氧化剂、作为研磨促进剂的有机膦酸及水的研磨液组合物,包括用该研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的基板制造方法,用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的方法,包括用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的减少被研磨基板微小擦伤的方法,以及用上述研磨液组合物促进磁盘用基板的研磨的方法。上述研磨液组合物适合研磨记忆硬盘驱动器所用的要求有高表面质量的磁盘用基板。
- 研磨组合
- [发明专利]硅基板的分析方法-CN201980024689.2有效
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吴佳红;川端克彦;池内满政;李晟在
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铠侠股份有限公司;埃耶士株式会社
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2019-04-08
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2023-08-15
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G01N27/626
- 本发明提供一种硅基板的分析方法，可以ICP‑MS高精度地分析形成有膜厚较厚的氮化膜的硅基板中的微量金属等杂质。本发明的分析方法使用硅基板用分析装置，该硅基板用分析装置具备：分析扫描端口、分析液采取机构及进行感应偶合等离子体分析的分析机构；前述分析扫描端口具有：载入端口、基板搬送机器人、对准器、干燥室、气相分解腔室、分析台及基板分析用喷嘴，其中，将形成有氮化膜的硅基板通过基板分析用喷嘴以氢氟酸与过氧化氢水的混合液的回收液扫掠硅基板表面并回收，之后将回收液吐出至硅基板表面并加热干燥，吐出强酸溶液或强碱溶液并加热干燥，以分析液扫掠硅基板表面并回收，且将分析液以ICP‑MS进行分析。
- 硅基板分析方法
- [发明专利]基板分析方法及基板分析装置-CN201980086331.2在审
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川端克彦;李晟在;林匠马
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埃耶士株式会社
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2019-11-06
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2021-08-20
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H01L21/66
- 本发明提供一种可更简易且迅速地分析基板端部的分析技术。本发明的基板分析方法，是利用基板分析用的喷嘴的基板分析方法，该基板分析用的喷嘴从前端送出分析液，并且以所送出的分析液扫描基板表面之后利用抽吸分析液，该基板分析方法在与喷嘴的前端相对向的位置，配置用以承接被送出的分析液的液承接板，且将从前端送出的分析液保持在喷嘴的前端与液承接板之间，且在喷嘴的前端与液承接板之间，以可插入基板端部的方式对基板进行位置调整，并且使基板端部接触于保持在喷嘴的前端与液承接板之间的分析液，且在基板端部接触于分析液的状态下，使喷嘴及液承接板沿着基板的周缘同时地移动，以分析基板端部。
- 分析方法装置
- [发明专利]硅基板用分析装置-CN201680044341.6有效
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川端克彦;一之濑达也;林匠马
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埃耶士株式会社
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2016-08-16
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2019-02-19
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G01N27/62
- 本发明提供一种能够借由ICP‑MS将在成膜形成有膜厚较厚的氮化膜或氧化膜的硅基板中的微量金属等的杂质高精确度地分析的硅基板用分析装置。本发明的硅基板用分析装置具备承载端口、基板搬运机器人、对准器、干燥室、气相分解处理室、具有分析载物台及基板分析用喷嘴的分析扫描端口、分析液采集装置、进行感应耦合等离子分析的分析装置，其中，对于成膜形成有氮化膜或氧化膜的硅基板，借由基板分析用喷嘴以高浓度回收液扫净硅基板表面而回收，将回收后的高浓度回收液吐出至硅基板表面后，进行加热干燥，以分析液扫净硅基板表面而回收，借由ICP‑MS对分析液进行分析。
- 硅基板用分析装置
- [发明专利]液浸显微镜装置-CN200680039343.2无效
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柴田浩匡;小松学;内川敏男
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株式会社尼康
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2006-10-18
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2008-10-22
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G02B21/00
- 本发明的目的是提供一种能够不损害基板的品质而非破坏地进行基板的液浸观察的液浸显微镜装置。因此，本发明的液浸显微镜装置具备：支承机构(11～13)，支承作为观察对象的基板(10A)；液浸类的物镜(14)；第1供给机构(15、16)，将超纯水作为观察用的液体供给到物镜的前端与基板之间；第1除去机构(20～22)，在基板的观察后，将观察用的液体除去；第2供给机构(17～19)，将与由第1除去机构(20～22)除去的观察用的液体不同的清洗用的液体供给到基板中的与观察用的液体接触的区域中；和第2除去机构(20～22)，在基板的清洗后，将清洗用的液体除去。
- 显微镜装置
- [发明专利]研磨液组合物-CN200410004018.5有效
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末永宪一;大岛良晓;萩原敏也
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花王株式会社
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2004-02-05
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2004-08-11
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C09K3/14
- 一种记忆硬盘用基板用的研磨液组合物，包含在水基介质中的硅石微粒，其中所述硅石微粒满足用透射型电子显微镜(TEM)观察测定得到的该硅石微粒的数基平均粒径与数基标准偏差之间的特定关系，且其中在该硅石微粒的粒径60～120nm范围内累积体积频度与粒径之间满足一种特定关系；一种记忆硬盘用基板的微小起伏降低方法，包含用该研磨液组合物对记忆硬盘用基板进行研磨的步骤；一种记忆硬盘用基板的制造方法，包含用该研磨液组合物对镀Ni－P的记忆硬盘用基板进行研磨的步骤；该方法适合用于记忆硬盘用基板等精密部件用基板的制造。
- 研磨组合
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