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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]研磨液及研磨方法-CN202280004679.4在审
发明人： 小野裕;井上惠介;地主孝广 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种研磨液，其用于研磨包含钨材料的被研磨面，该研磨液含有磨粒、含铁化合物及氧化剂，磨粒包含二氧化硅粒子，磨粒的平均粒径为40～140nm，二氧化硅粒子的硅烷醇基密度为8.0个/nm2以下。一种研磨方法，使用该研磨液来研磨包含钨材料的被研磨面。
研磨方法

[发明专利]控制装置-CN201710653948.0有效
发明人：山崎玲治;小野裕 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2017-08-03 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H02P21/04 文献下载
摘要：本公开涉及控制装置。在电机的无传感器控制中，由于响应频率的特性，感应电压、磁极位置估计增益、电流控制增益和速度控制增益密切相关。本发明的目的是使得磁极位置估计系统的感应电压和频率特性能够被清楚地设计，并且能够理论和定量地设计无传感器控制所需的全部控制增益，以便解决不能建立设计这些参数的方法和必须以试错的方式调整参数的这样的问题。控制装置具有通过应用感应电压观测器来估计电机的估计感应电压和相位误差的估计器以及在估计感应电压和相位误差的基础上控制电机的控制器。
控制装置

[发明专利]控制设备-CN201710294023.1有效
发明人：清水裕司;广岛茜;小野裕 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H02P6/06 文献下载
摘要：本发明涉及控制设备。对于由具有载波频率fc的载波信号激励的分解器所检测的至少二相信号，所述控制设备包括：第一移相器，以在低于所述载波频率fc的频率f1处的极点，对分解器的第一相位信号进行移相；第二移相器，以在高于所述载波频率fc的频率f2处的极点，对所述分解器的第二相位信号进行移相；信号生成器，生成用于抵消载波信号中的误差分量的校正信号；以及合成器，对经移相的第一相位信号、经移相的第二相位信号、以及用于抵消所述误差分量的所述校正信号进行合成，以构建作为以所述分解器的转子的旋转角度来调制的所述载波信号的经相位调制信号。
控制设备

[发明专利]研磨液、分散体、研磨液的制造方法及研磨方法-CN202080019999.8在审
发明人：井上惠介;小野裕 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：一种CMP用研磨液，其含有包含二氧化硅的磨粒及液状介质，所述CMP用研磨液中，以研磨液的总量为基准，磨粒的含量为1.0质量％以上，且在通过离心分离法而获得的质量基准的粒度分布中，磨粒的D50为150nm以下，磨粒的D90为100nm以上，D90与D50的差为21nm以上。
研磨散体制造方法

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、固化物、半导体装置、抗蚀图案的形成方法及电路基材的制造方法-CN201580050226.5有效
发明人：加藤哲也;岩下健一;中村彰宏;中野昭夫;小野裕 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的感光性树脂组合物含有：具有酚性羟基的树脂；光敏性产酸剂；具有选自芳香环、杂环及脂环中的至少1种以及选自羟甲基及烷氧基烷基中的至少1种的化合物；以及具有2个以上的选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基氧基、氧杂环丁烷基烷基醚基、乙烯基醚基及羟基中的至少1种官能团的脂肪族化合物，所述光敏性产酸剂是含有具有选自四苯基硼酸盐骨架、碳数为1～20的烷基磺酸盐骨架、苯基磺酸盐骨架及10‑樟脑磺酸盐骨架中的至少1种骨架的阴离子的锍盐。
感光性树脂组合元件固化半导体装置图案形成方法电路基材制造

[发明专利]信号变换器和控制装置-CN201610550121.2有效
发明人：清水裕司;广岛茜;小野裕 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2016-07-13 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： G01D5/245 文献下载
摘要：本公开涉及信号变换器和控制装置。对于由被具有载波频率fc的载波信号激励的解角器检测的至少两相信号，一种信号变换器(100)包括：第一移相器(101)，所述第一移相器用在低于所述载波频率fc的频率f1处的极点使所述解角器的第一相位信号的相位移位；第二移相器(102)，所述第二移相器用在高于所述载波频率fc的频率f2处的极点使所述解角器的第二相位信号的相位移位；以及合成器(103)，所述合成器将移相的第一相位信号和移相的第二相位信号组合。
信号变换器控制装置

[发明专利]研磨液和研磨方法-CN201880010057.6在审
发明人： 小野裕;水谷真人 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2018-01-23 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种研磨液，其为用于研磨包含钨材料的被研磨面的研磨液，所述研磨液含有磨粒、末端具有阳离子性基团的聚合物、氧化剂、氧化金属溶解剂和水，上述聚合物具有来源于不饱和羧酸的结构单元，上述聚合物的重均分子量在20000以下，所述研磨液的pH小于5.0。
研磨液聚合物研磨氧化金属溶解剂阳离子性基团氧化剂不饱和羧酸重均分子量钨材料磨粒

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、固化物、半导体装置、抗蚀图案的形成方法及电路基材的制造方法-CN201580050284.8在审
发明人：加藤哲也;岩下健一;中村彰宏;中野昭夫;小野裕 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的感光性树脂组合物含有具有酚性羟基的树脂；光敏性产酸剂；具有选自芳香环、杂环及脂环中的至少1种及选自羟甲基及烷氧基烷基中的至少1种的化合物；具有2个以上的选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基氧基、氧杂环丁烷基烷基醚基、乙烯基醚基及羟基中的至少1种官能团的脂肪族化合物；以及具有选自蒽骨架、菲骨架、芘骨架、苝骨架、咔唑骨架、吩噻嗪骨架、呫吨酮骨架、噻吨酮骨架、吖啶骨架、苯基吡唑啉骨架、二苯乙烯基苯骨架及二苯乙烯基吡啶骨架中的至少1种骨架的化合物或者二苯甲酮化合物。
感光性树脂组合元件固化半导体装置图案形成方法电路基材制造

[发明专利]铜研磨用研磨液及使用了其的研磨方法-CN201180017611.1有效
发明人： 小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2011-06-06 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的铜研磨用研磨液含有第1有机酸成分、无机酸成分、氨基酸、保护膜形成剂、磨粒、氧化剂和水，所述第1有机酸成分是选自具有羟基的有机酸、该有机酸的盐及该有机酸的酸酐中的至少一种，所述无机酸成分是选自2价以上的无机酸及该无机酸的盐中的至少一种，以铜研磨用研磨液整体为基准计，无机酸成分以无机酸换算的含量为0.15质量%以上，氨基酸的含量为0.30质量%以上，保护膜形成剂的含量为0.10质量%以上，第1有机酸成分以有机酸换算的含量相对于保护膜形成剂的含量的比率为1.5以上。
研磨使用方法

[发明专利]铜研磨用研磨剂的应用-CN201210135608.6无效
发明人： 小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂应用

[发明专利]铜研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法-CN201210135053.5无效
发明人： 小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂使用方法

[发明专利]铜研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法-CN201080007580.7无效
发明人： 小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂使用方法

[发明专利]化学机械研磨用研磨液以及使用了该研磨液的基板的研磨方法-CN200980130440.6无效
发明人：南久贵;税所亮太;小野裕 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2009-07-23 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的化学机械研磨用研磨液含有1，2，4-三唑、磷酸类、氧化剂以及磨粒。本发明的研磨方法是以下研磨方法：其是一边向基板与研磨布之间供给化学机械研磨用研磨液，一边用上述研磨布研磨上述基板的基板的研磨方法，其中上述基板是具有钯层的基板，上述化学机械研磨用研磨液是含有1，2，4-三唑、磷酸类、氧化剂以及磨粒的化学机械研磨用研磨液。
化学机械研磨以及使用方法

[发明专利]显示装置-CN200880000361.9有效
发明人：小幡庆;堀井明宏;小野裕;平井基介;星光成 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-03-17 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本发明涉及一种显示装置，其中，沿发光的水平方向的视角宽于沿其垂直方向的视角，发射的光具有用偏光眼镜可看见的沿垂直方向的偏振成分，其能够提高显示亮度。亮度增强膜(33)沿水平方向延伸并具有沿与延伸方向正交的方向排列的多个脊(33a)，且沿延伸方向的折射率大于沿排列方向的折射率。相位差波片(34)改变进入波片(34)的光的偏振方向，使得由通过亮度增强膜(33)沿凸部(33a)的排列方向的偏振成分的偏振方向与第一偏振片20A的偏振轴(a)的方向所形成的角度变小。而且，第二偏振片(20B)具有穿过垂直方向的偏振成分的偏振轴(b)。
显示装置

[发明专利]金属用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法-CN200810212485.5有效
发明人：野村丰;寺崎裕树;小野裕;上方康雄 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2005-04-12 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种金属用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法，能够以高Cu研磨速度实现高平坦化，并减少研磨后残留在被研磨面的研磨粒子。该金属用研磨液包含研磨粒子及化学成分，由所述化学成分形成在作为该金属用研磨液的研磨对象的被研磨金属上的反应层或吸附层或它们的混合层的表面电位的电荷与所述研磨粒子的表面电位的电荷符号相同。
金属研磨以及使用方法

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