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[发明专利]宝石及其切割方法-CN202310149420.5在审
发明人：鲁文·帕金 -专利权人：艾伯特加德有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： A44C27/00 文献下载
摘要：宝石的表面通常分成以各种角度设置的多组互锁琢面。包括冠部的表面的琢面组通常包括星琢面、上主冠部琢面、上中间冠部琢面、下主冠部琢面、下中间冠部琢面和上腰围琢面。上腰围琢面大致邻接腰围的上边缘。包括亭部的表面的琢面组包括亭尖相邻琢面、下烛琢面、下主亭部琢面、上烛琢面、上主亭部琢面和下腰围琢面。下部腰围琢面大致邻接腰围的下部边缘。
宝石及其切割方法

[发明专利]宝石及其切割方法-CN201980033328.4有效
发明人：鲁文·帕金 -专利权人：艾伯特加德有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：宝石的表面通常分成以各种角度设置的多组互锁琢面。包括冠部的表面的琢面组通常包括星琢面、上主冠部琢面、上中间冠部琢面、下主冠部琢面、下中间冠部琢面和上腰围琢面。上腰围琢面大致邻接腰围的上边缘。包括亭部的表面的琢面组包括亭尖相邻琢面、下烛琢面、下主亭部琢面、上烛琢面、上主亭部琢面和下腰围琢面。下部腰围琢面大致邻接腰围的下部边缘。
宝石及其切割方法

[发明专利]照明器、光刻装置和调整曝光辐射的强度均一性的方法-CN202010709965.3在审
发明人：许哲彰;郑介任;陈立锐;简上杰;张晁祯;陈思妤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明器包括：第一琢面镜面，接收且反射曝光辐射；可调整屏蔽元件，安置于第一琢面镜面上，可调整屏蔽元件调整由第一琢面镜面反射的曝光辐射的强度均一性；以及第二琢面镜面，接收且反射由第一琢面镜面反射的曝光辐射
明器光刻装置调整曝光辐射强度均一方法

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080057980.9有效
发明人： K·范隐真申诺;J·范斯库特;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-19 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用包括多个可移动琢面以将辐射引导至光瞳琢面反射镜上的可选择位置的场反射镜设置照射模式。从一组预定照射模式选择基础照射模式并且可移动琢面被设置以实现该模式。为了调节成像参数，可移动琢面的一部分被设置到不同位置。确定哪些琢面设置到不同位置基于对将每个琢面设置到不同位置的效应的累加。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]辐射源-CN201480074178.9有效
发明人： M·F·A·厄尔林斯;N·A·J·M·克里曼斯;A·J·J·范迪杰西尔多克;R·M·霍夫斯特拉;O·F·J·努德曼;T·N·费姆;J·B·P·范斯库特;J-C·王;K·W·张 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-12-19 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。
辐射源

[发明专利]光刻设备以及器件制造方法-CN201080051846.8有效
发明人： J·范斯库特;克恩·万英根谢诺;G·德维里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-09-08 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解有缺陷的琢面反射镜的有害影响。
光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]琢面EUV光学器件-CN201580069251.8有效
发明人： D·C·布拉特;A·I·厄肖夫;I·V·福门科夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-11-10 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种诸如聚光反射镜之类的反射式EUV光学器件配置作为间隔开以在相邻琢面之间形成相应间隙的琢面阵列。间隙用作气体流过琢面的一个的入口以使得平行于光学器件表面而引入流体。琢面可以形成具有偏移以使得可以最小化EUV光学器件的反射面积的损失。气体促进从琢面的表面移除靶标材料。
euv 光学器件

[发明专利]一种从琢面看呈现双五角星图案的钻石及加工方法-CN201910698621.4在审
发明人：陈本凤 -专利权人：上海爱豪钻石有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：一种从琢面看呈现双五角星图案的钻石及加工方法，其中钻石包括冠部、腰部和底部，底部包括十个大棱形扒尖面、十个底足面和以扒尖点为中心均匀布置的五个小棱形扒尖面，且五个小棱形扒尖面与十个大棱形扒尖面的相交的棱首尾相连构成一个第一五角星图案；相对于第一五角星图案的每个角A各设有一个小底足面，五个小底足面在琢面上折射出一个面积小于第一五角星图案的第二五角星图案，且第一五角星图案的角A与扒尖点的连线，与第二五角星图案的角B与扒尖点的连线之间的夹角为本发明在切光镜下观察时，在钻石的琢面上呈现一大一小的双五角星效果，且第二五角星颜色暗于第一五角星图案，并与大五角星错位36度。
五角星图案五角星钻石底足尖点尖面大棱连线小棱均匀布置首尾相连夹角为冠部光镜腰部加工相交错位折射观察

[实用新型]一种从琢面看呈现双五角星图案的钻石-CN201921219325.3有效
发明人：陈本凤 -专利权人：上海爱豪钻石有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：一种从琢面看呈现双五角星图案的钻石，包括冠部、腰部和底部，底部包括十个大棱形扒尖面、十个底足面和以扒尖点为中心均匀布置的五个小棱形扒尖面，且五个小棱形扒尖面与十个大棱形扒尖面的相交的棱首尾相连构成一个第一五角星图案；相对于第一五角星图案的每个角A各设有一个小底足面，五个小底足面在琢面上折射出一个面积小于第一五角星图案的第二五角星图案，且第一五角星图案的角A与扒尖点的连线，与第二五角星图案的角B与扒尖点的连线之间的夹角为本实用新型在切光镜下观察时，在钻石的琢面上呈现一大一小的双五角星效果，钻石中的小五角星并与大五角星错位36度，且第二五角星颜色暗于第一五角星图案。
一种琢面看呈现五角星图案钻石

[发明专利]用于光学纤维连接的方法和设备-CN201680021973.0有效
发明人：吕中良;陈涛;F·J·贝里奥斯;张家宗 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2016-04-11 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： G02B6/26 文献下载
摘要：一种系统，包括：第一部件，包括透镜琢面；和第二部件，被光学耦合至第一部件，第二部件包括锥形琢面，锥形琢面和透镜琢面彼此间隔开以便在第一部件与第二部件之间建立倏逝波耦合。
用于光学纤维连接方法设备

[发明专利]用于多宝石珠宝件的多琢面宝石-CN201010624197.8有效
发明人：尼拉夫·莫迪 -专利权人：费尔斯通公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于多宝石珠宝件的多琢面宝石。一种具有冠部的宝石，所述冠部包括多琢面冠部表面和平坦的相对侧琢面。所述多琢面冠部表面从所述冠部的前部到所述冠部的后部是拱形的。
用于宝石珠宝多琢面

[发明专利]琢型的钻石及其琢型方法-CN200910180948.9有效
发明人：让·保罗·托尔科斯基 -专利权人：让·保罗·托尔科斯基
申请日： 2009-10-22 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： A44C17/00 文献下载
摘要：一种琢型的钻石及其琢型方法。所述琢型的钻石是凸多面体并且具有八十九个刻面，比传统的理想明亮式琢型多三十二个刻面，特别地，通过将传统的理想明亮式琢型钻石的八个风筝刻面中的每一个替代为两个三角刻面——台面转折刻面和腰部转折刻面而在冠部上添加八个额外的刻面，所述两个三角刻面具有公共的边缘——位于与台面平行的平面内的腰部转折，并且通过将传统的理想明亮式琢型的八个下主刻面中的每一个替代为在一点上彼此接触的四个刻面——下腰亭部、两个下星半部和下星亭部而在亭部添加所述三十二个额外刻面中的其他二十四个刻面，所述点即相遇点，并且亭部高度大致比相应传统的理想明亮式琢型中亭部高度大3％。
钻石及其方法

[发明专利]用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法-CN201210107106.2有效
发明人： G·C·德弗里斯;简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;F·J·J·杰森;N·A·J·M·范阿尔勒 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。
用于调节辐射光学设备光刻器件制造方法

[发明专利]一种平面光波导-CN201710327538.7在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：上海誉沛光电科技有限公司
申请日： 2017-05-11 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： G02B6/122 文献下载
摘要：第一表面用于出射经过光波导的光线，第二表面包括多个线性棱镜，每个线性棱镜特征包括第一琢面和第二琢面，其中所述第一琢面与第一表面为平行设置，是全内反射TIR表面，光线通过第一琢面在光波导内反射传播，第二琢面与第一表面之间存在一定夹角，光线在第二琢面反射后改变光线的传播方向，通过第一表面出射。
一种平面波导

[发明专利]光刻设备和制造器件的方法-CN201580038295.4有效
发明人：简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;S·比林;M·恩德林斯;M·M·埃斯卡兰特;T·格鲁纳;L·维施迈尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424)，其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50)，光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。
光刻设备制造器件方法

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