专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]利用矿冶炼萃取残液制取氟铝酸钠的工艺-CN200510071546.7无效
  • 罗岚;罗会秋;周浪;魏秀琴 - 南昌大学
  • 2005-05-24 - 2005-10-26 - C02F1/26
  • 一种利用矿冶炼萃取残液制取氟铝酸钠的工艺,其特征是用氨中和萃取残液至pH=7~8,沉淀分离仲酸铵和杂质;在母液中加硫酸调pH至5~6,并按化学反应计量比加入硫酸铝、硫酸钠,过滤、洗涤和烘干得氟铝酸钠,再在母液中加入NaOH或Ca(OH)2调节pH=9~10,蒸发结晶生成硫酸铵,将沉淀分离出的仲酸铵加水通氨溶解,过滤,分离杂质,然后蒸发结晶,烘干、烧,制得三氧化,本发明所采用的萃取残液回收工艺,工艺简单,易于操作,不但可以有效地回收氟铝酸钠,而且可得硫酸铵、三氧化副产品,提高萃取残液的处理效率和净化复用率,减少废水总体的排放量,增加资源利用率,提高冶金的经济效益。
  • 利用矿冶萃取制取氟铝酸钠工艺
  • [发明专利]矿冶炼萃取残液制取氟硅酸钠的工艺-CN200510071547.1无效
  • 罗岚;罗会秋;周浪;魏秀琴 - 南昌大学
  • 2005-05-24 - 2005-10-26 - C02F1/26
  • 一种从矿冶炼萃取残液制取氟硅酸钠的工艺,其特征是按化学计量比大于萃取残液中氟离子1.2倍的量,加石英砂,沉淀分离出酸;然后在母液中加NaOH或NaCl,加入的钠离子总量>1.1倍的氟离子量,生成氟硅酸钠,过滤、洗涤、烘干;在提取过氟硅酸钠的母液中继续加入NaOH至pH值为7~8,蒸发结晶生成硫酸钠;将沉淀分离出的酸浸入水中,通氨使pH值大于8,粗酸因生成仲酸铵而溶解,过滤分离石英,经蒸发结晶、烘干、烧得三氧化,本发明工艺简单,易于操作,不需要特殊的手段和设备,不但可以制取氟硅酸钠,而且可得到硫酸钠、三氧化副产品,提高了萃取残液的处理效率和净化复用率,减少废水排放量,提高冶金的经济效益
  • 矿冶萃取制取硅酸钠工艺
  • [发明专利]一种铪钛锆合金及其制备工艺-CN202211478201.3在审
  • 李培强;刘彦昌;胡革全;沈立华;袁红军 - 宁夏中色金航钛业有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-04-04 - C22C1/03
  • 本申请涉及一种铪钛锆合金及其制备工艺,取W粉、Ta粉和Nb粉,采用粉末冶金方法依次进行混粉、压制和真空烧结,再经过电子束炉至少两次熔炼制备得到Nb‑Ta‑W中间合金;在对Nb‑Ta‑W中间合金表面防氧化涂层处理,再对Nb‑Ta‑W中间合金热锻造,得到Nb‑Ta‑W中间合金方坯;采用极氩弧焊在Nb‑Ta‑W中间合金方坯的外侧面焊接Hf板、Ti板和Zr板,得到自耗电极;采用真空自耗熔炼法熔炼自耗电极至少三次。在保证铪钛锆合金化学成分均匀的同时,简化了制备工艺流程,提高了铪钛锆合金中低氧的控制能力以及能够精准控制铪钛锆合金中的成分,避免影响铪钛锆合金性质。
  • 一种铌铪钛锆钽钨合金及其制备工艺
  • [发明专利]钒、掺杂氧化薄膜的制备方法及应用-CN202210346611.6在审
  • 王朋;魏亚菊;吴越;吴小平;徐凌波;林萍;崔灿 - 浙江理工大学
  • 2022-03-31 - 2022-07-29 - H01L21/368
  • 本发明属于太阳能电池领域,具体涉及钒、掺杂氧化薄膜的制备方法及应用。制备方法包括:一、称取六氯化钨粉末,溶解于正丙醇,搅拌至溶液呈蓝色,获得六氯化溶液;二、称取五氧化二钒粉末、五氯化粉末或五氯化粉末,溶解于无水乙醇,搅拌30min至溶液澄清;三、向六氯化溶液中滴入五氧化二钒溶液、五氯化溶液或五氯化溶液,超声30min,获得含混合六氯化的混合溶液;四、将步骤三中的含混合六氯化的混合溶液均匀滴加到衬底表面,然后将衬底转移到匀胶机上旋涂,旋涂结束后将衬底转移到加热台低温退火,即可得到钒、掺杂氧化薄膜。本发明有效减少了氧化中的氧空位。
  • 掺杂氧化钨薄膜制备方法应用
  • [发明专利]溅射靶-CN201080025414.X有效
  • 福岛笃志;小田国博;仙田真一郎 - 吉坤日矿日石金属株式会社
  • 2010-08-04 - 2012-07-11 - C23C14/34
  • 本发明涉及一种溅射靶,其特征在于,含有1质量ppm以上且100质量ppm以下的作为必要成分,并且除和气体成分以外的纯度为99.998%以上。上述溅射靶,其特征在于,还含有0~100质量ppm(但是不包括0质量ppm)的钼和/或、钼、的合计含量为1质量ppm以上且150质量ppm以下,并且除、钼、和气体成分以外的纯度为99.998本发明可以得到具有均匀微细的组织、等离子体稳定、膜的均匀性优良的高纯度溅射靶。
  • 溅射

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