专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]吡啶并[1,5α]嘧啶、其制备和应用-CN96193780.7无效
  • R·比诺特;T·格罗特;H·贝尔;B·穆勒;K·奥伯多夫;H·萨特;E·阿莫曼;G·劳伦兹;S·斯特拉斯曼 - 巴斯福股份公司
  • 1996-04-26 - 1998-06-03 - C07D487/04
  • 、C1-C4-卤代烷基、C1-C4-烷氧基、C1-C4-卤代烷氧基、C1-C4-烷硫基或C1-C4-卤代烷硫基;R1和R3是氢、氰基、硝基、羟基、氨基、卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳基烷氧基、芳硫基、杂芳基、杂芳烷基、杂芳氧基、杂芳基烷氧基、杂芳硫基,或NRcRd、NRcNRdRe、CO-Rc、CO2-Rc、CO-NRcRd、O-CO-Rc、O-CO2-Rc、O-CO-NRcRd、NRc-CO-Rd、NRc-CO2Rd或NRc-CO-NRdRe;R2是氢、卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、芳基、芳氧基、杂芳基、杂芳氧基、CO-Rc、CO2-Rc或CRf=NORgR4是氢、氰基、硝基、亚硝基、卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳基烷氧基、芳硫基、杂芳基、杂芳烷基、杂芳氧基、杂芳基烷氧基、杂芳硫基、氰基、卤素、未取代或取代的烷基、烷氧基、烷硫基、链烯基、链烯氧基、链烯硫基、炔基、炔氧基、炔硫基、环烷基、环烷基氧基、环烷基硫基、杂环基、杂环基氧基、杂环基硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、杂芳基、杂芳基氧基或杂芳基硫基
  • 吡啶嘧啶制备应用
  • [发明专利]新型含硫的羟基-6-苯基菲啶及其作为PDE4抑制剂的用途-CN200580006802.2无效
  • B·施密德特;D·弗洛克茨;A·哈策尔曼;C·齐特;J·巴西;D·马克斯;H·-P·克利;U·考茨 - 奥坦纳医药公司
  • 2005-03-09 - 2007-03-28 - C07D221/12
  • 式I化合物,其中R1是羟基、1-4C-烷氧基、3-7C-环烷氧基、3-7C-环烷基氧基、2,2-二氟乙氧基、或完全或大部分被氟取代的1-4C-烷氧基,R2是羟基、1-4C-烷氧基、3-7C-环烷氧基、3-7C-环烷基氧基、2,2-二氟乙氧基、或完全或大部分被氟取代的1-4C-烷氧基,或其中R1和R2一起是1-2C-亚烷二氧基,R3是氢或1-4C-烷基,R31是氢或1-4C-烷基,或者,在根据本发明的第一种实施方案(实施方案a)中,R4是-O-R41,其中R41是氢、1-4C-烷基、1-4C-烷氧基-1-4C-烷基、羟基-2-4C-烷基、1-7C-烷基羰基、或完全或大部分被氟取代的1-4C-烷基,以及R5是氢或1-4C-烷基,或者,在根据本发明的第二种实施方案(实施方案b)中,R4是氢或1-4C-烷基,以及R5是-O-R51,其中R51是氢、1-4C-烷基、1-4C-烷氧基-1-4C-烷基、羟基-2-4C-烷基、1-7C-烷基羰基、或完全或大部分被氟取代的1-4C-烷基,R6是氢、卤素、1-4C-烷基或1-4C-烷氧基,R7是S(O) 2N(R8)(R9)、-A-N(R10)S(O)
  • 新型羟基苯基及其作为pde4抑制剂用途
  • [发明专利]苯乙酸衍生物及其制备和中间体以及含有它们的组合物-CN95191959.8无效
  • H·巴伊尔;H·萨特尔;R·穆勒;W·吉拉米诺斯;A·哈里斯;R·凯斯特恩;F·罗尔;E·阿米尔曼;G·罗恩茨 - 巴斯福股份公司
  • 1995-01-03 - 1997-02-19 - C07C327/04
  • 式I所示的苯乙酸衍生物及其盐,制备它们的方法和中间体,以及它们的用途,其中取代基和符号定义如下R1为氢或烷基;R2为氰基,硝基,三氟甲基,卤素,烷基或烷氧基;m为0,1或2,如果m为2,R2基团可以不同;R3为氢,氰基,硝基,羟基,氨基,卤素,烷基,卤代烷基,烷氧基,卤代烷氧基,烷硫基,烷氨基或双烷氨基;R4为氢,氰基,硝基,羟基,氨基,卤素,未取代或取代的烷基,烷氧基,烷硫基,烷氨基,双烷氨基,链烯基,链烯氧基,链烯硫基,链烯氨基,N-链烯基-N-烷基氨基,炔基,炔氧基,炔硫基,炔氨基,N-炔基-N-烷基氨基;未取代的或取代的环烷基,环烷氧基,环烷硫基,环烷氨基,N-环烷基-N-烷基氨基,环烯基,环烯氧基,环烯硫基,环烯氨基,N-环烯基-N-烷基氨基,杂环基,杂环氧基,杂环硫基,杂环氨基,N-杂环基-N-烷基氨基,芳基,芳氧基,芳硫基,芳氨基,N-芳基-N-烷基氨基,杂芳基,杂芳氧基,杂芳硫基,杂芳氨基,N-杂芳基-N-烷基氨基;R5为氢,未取代或取代的烷基,环烷基,链烯基,炔基,烷羰基,链烯羰基,炔羰基或烷基磺酰基,未取代或取代的芳基,芳羰基,芳基磺酰基,杂芳基,杂芳羰基或杂芳基磺酰基。
  • 苯乙酸衍生物及其制备中间体以及含有它们组合
  • [发明专利]吲哚衍生物-CN95197471.8无效
  • 贺登志朗;原田博史;广川美视;吉田直之;川岛和 - 大日本制药株式会社
  • 1995-11-27 - 2001-09-05 - C07D209/14
  • 本发明提供了下式吲哚衍生物或其盐$其中R#-[1]代表低级烷氧基,低级烷氧基羰基—低级烷氧基,羧基—低级烷氧基,低级烷氧基羰基,苯基—低级烷氧基,被羟基任选取代的低级烷基,二—低级烷基氨基磺酰基等,R#-[2]代表氢,卤素,低级烷氧基,低级烷氧基羰基—低级烷氧基,羧基—低级烷氧基等,R#-[3]代表氢或低级烷基,R#-[4]代表卤素或三氟甲基,R#-[5]代表烷基烷基
  • 吲哚衍生物
  • [发明专利]作为杀虫剂的二环胺-CN96194135.9无效
  • C·J·于尔查;R·萨蒙;T·刘易斯;C·R·A·戈德弗雷;M·S·克拉夫 - 曾尼卡有限公司
  • 1996-05-13 - 2001-06-06 - C07D451/02
  • R#+[1]代表式(A)基团,式(A)中W、X、Y和Z各代表或是CR或是氮原子,其条件是W、X、Y和Z中不多于二个代表氮原子,且其中每一存在的R独立地选自氢和卤原子和氰基、氨基、肼基、酰基氨基、羟基、烷基、羟基烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基、链烯基、链烯氧基、烷氧基烯基、炔基、羧酸酰基、烷氧基羰基、芳基和杂环基团,所述的基团包含最多达6个碳原子,且其中R#+[2]代表氢或氰基或选自下列的基团烷基、芳基、杂芳基、芳烷基、杂芳烷基、链烯基、芳基链烯基、炔基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷酰氧基羰基、芳烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环烷基、氨基甲酰基或二硫代羧基,所述的基团包含1至15个碳原子,所述的基团任选由一或多个选自下列的取代基取代卤素、氰基、羧基、羧酸酰基、氨基甲酰基、烷氧基羰基、烷氧基、亚烷基氧基、羟基、硝基、卤代烷基烷基、氨基、酰基氨基、亚氨酸基和膦酸基。
  • 作为杀虫剂二环胺
  • [发明专利]C5a受体拮抗剂-CN200680019441.X无效
  • 卡斯滕·施纳特鲍曼;迪尔克·沙恩;埃尔莎·洛卡尔迪;托马斯·波拉科弗斯基;乌韦·里希特;乌尔里希·赖内克;格尔德·胡梅尔 - 捷瑞尼股份公司
  • 2006-05-30 - 2008-05-28 - C07C275/40
  • 其具有下列结构:R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13,R14,R15,R16,R17,R18,R19,R20,R21和R22各自和独立地选自包含下列各项的组:H,烷基,取代的烷基,烯基,取代的烯基,炔基,取代的炔基,环烷基,取代的环烷基,杂环基,取代的杂环基,芳基,取代的芳基,杂芳基,取代的杂芳基,芳基烷基,取代的芳基烷基,杂芳基烷基,取代的杂芳基烷基,烷氧基,取代的烷氧基,芳基氧基,取代的芳基氧基,芳基烷基氧基,取代的芳基烷基氧基,酰氧基,取代的酰氧基,卤素,羟基,硝基,氰基,酰基,取代的酰基,巯基,烷硫基,取代的烷硫基,氨基,取代的氨基,烷基氨基,取代的烷基氨基,双烷基氨基,取代的双烷基氨基,环状氨基,取代的环状氨基,氨基甲酰基(-CONH2),取代的氨基甲酰基,羧基,氨基甲酸酯,烷氧羰基,取代的烷氧羰基,酰基氨基,取代的酰基氨基,氨磺酰(-SO2NH2),取代的氨磺酰,卤烷基,卤烷基氧基,-C(O)H,三烷基甲硅烷基和叠氮基。
  • c5a受体拮抗剂
  • [发明专利]吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物-CN95190760.3无效
  • 小路恭生;安田恒雄;井上诚;冈村隆志;桥本谨治;小原正之 - 株式会社大塚制药工场
  • 1995-06-05 - 1999-11-24 - C07D487/04
  • 其中R1是氢,可以有噻吩基、低级烷氧基、低级院硫基、氧基或羟基作为取代基的低级烷基,环烷基、噻吩基、呋喃基、低级链烯基、或是可以有选自低级烷基、低级烷氧基、苯硫基和卤素的1到3个取代基的苯基;R2是萘基,环烷基、呋喃基、噻吩基、可任选被卤素取代的吡啶基,可任选被卤素取代的苯氧基,或是可以有选自低级院基、低级烷氧基、卤素、硝基、卤素取代的低级烷基、卤素取代的低级烷氧基、低级烷氧羰基、羟基、苯基(低级)烷氧基、氨基、氰基、低级烷酰氧基、苯基和二(低级)烷氧基磷酰(低级)烷基的1到3个取代基的苯基;R3是氢、苯基或低级烷基R4是氢、低级烷基、低级烷氧羰基、苯基(低级)烷基,可任选被苯硫基取代的苯基,或是卤素;R5是氢或低级烷基;R6是氢,低级烷基,苯基(低级)烷基,或是有选自低级烷氧基、卤素取代的低级烷基和卤素的1到3个取代基的苯甲酰基R1和R5可以一起形成低级亚烷基Q是碳基或磺酰基;A是一个单键,低级亚烷基或低级亚烯基
  • 吡唑嘧啶衍生物
  • [发明专利]可聚合的组合物-CN97194359.1无效
  • C·C·杜德曼;A·F·库宁哈姆;M·库茨 - 希巴特殊化学控股公司
  • 1997-04-23 - 1999-05-26 - C08F2/50
  • 通式Ⅰ的化合物其中X为CH、C-CH3、C-Cl、C-O-C1-C8烷基或N;R为C1-C6烷基、苄基、CH2COOR3或基团(见上式);R1为C1-C8烷氧基、C1-C12烷基、卤素、NO2、苄氧基或苯氧基,其中苄氧基或苯氧基中的苯基环为未取代的或被C1-C12烷基、C1-C6烷氧基、卤素或CF3取代;R2为C1-C8烷氧基、C1-C12烷基、苄氧基或苯氧基,其中苄氧基或苯氧基中的苯基环为未取代的或被C1-C12烷基、C1-C6烷氧基、卤素或CF3取代;R3为氢、C1-C12烷基或苄基;Y为未取代的或C1-C6烷氧基取代的C1-C6烷基,或Y为C1-C6烷氧基、卤素、CF3、NO2、CF3O、苄氧基或苯氧基,其中在苄氧基或苯氧基中的苯基环为未取代的或被C1-C12烷基、C1-C6烷氧基、卤素或CF3取代,或若n为二且两个Y都为烷氧基,则这些烷氧基可形成与苯乙烯基残基的苯基稠合的二氧戊环或二烷;n为1至4,
  • 聚合组合

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