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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种用于提高半导体腔体铝溶射层使用寿命的溶射工艺-CN201811103122.8在审
发明人：何新玉;赵浩;王慧 -专利权人：芜湖通潮精密机械股份有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： C23C4/02 文献下载
摘要：本发明揭示了一种用于提高半导体腔体铝溶射层使用寿命的溶射工艺，溶射工艺包括以下步骤：1)预处理喷砂；2)清洗干燥；3)火焰溶射制备底溶射层；4)在底溶射层上利用电弧溶射制备工作层溶射层；5)清洗干燥，在1)预处理喷砂前，对部件待溶射的表面加工连续的V形槽，开槽深度为0.1～0.2mm。该工艺能够获得具有高粗糙度和高结合力的溶射层。
预处理半导体腔体清洗干燥使用寿命喷砂制备电弧表面加工高粗糙度高结合力工作层开槽

[发明专利]形成溶射层的高耐腐蚀耐磨损部件以及形成该高耐腐蚀耐磨损部件的溶射层形成用粉末-CN200980155901.5无效
发明人：岩永健吾;山崎裕司;平田浩郎 -专利权人：东洋钢钣株式会社
申请日： 2009-03-10 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： C23C4/06 文献下载
摘要：本发明提供一种耐腐蚀耐磨损部件以及溶射粉末，其在与会产生强腐蚀性气体的树脂相接触的金属部件表面上，形成具有耐腐蚀耐磨损性的溶射层。一种形成溶射层的高耐腐蚀耐磨损部件，其特征在于：通过在金属母材上溶射金属粉末，在金属母材表面上形成有溶射层，溶射层是正方晶Mo2(Ni、Cr)B2类、正方晶Mo2(Ni、Cr、V)B2类复合硼化物金属陶瓷另外，一种溶射层形成用粉末，其包含正方晶Mo2(Ni、Cr)B2类复合硼化物金属陶瓷，其中，B：4.0～6.5质量％、Mo：39.0～64.0质量％、Cr：7.5～20.0质量％、以及剩余：大于等于5质量
形成溶射层腐蚀耐磨部件以及粉末

[发明专利]一种半导体刻蚀腔体用梯度陶瓷溶射层的制备方法-CN201810266789.3在审
发明人：何新玉;贺贤汉 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明提供半导体刻蚀腔体用梯度陶瓷溶射层的制备方法，结合YF3和氧化钇材料各自的优缺点，使用等离子溶射在部件基体上制备一层氧化钇过渡层，然后在氧化钇过渡层上使用等离子溶射制备一层YF3耐腐蚀工作层。实现溶射层整体结合力达到8MPa以上，同时具有优异的耐高功率F系和Cl系等离子气体冲蚀性能，达到栅极特征线宽28nm以下制程工艺对刻蚀腔体使用寿命及particle的要求。
制备梯度陶瓷等离子过渡层刻蚀腔氧化钇半导体等离子气体氧化钇材料部件基体刻蚀腔体使用寿命栅极特征高功率工作层结合力耐腐蚀线宽制程

[发明专利]一种半导体清洗腔陶瓷溶射层的制备方法-CN201811097156.0在审
发明人：卢国云;贺贤汉 -专利权人：安徽富乐德科技发展有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： C23C4/11 文献下载
摘要：一种半导体清洗腔陶瓷溶射层的制备方法，包括如下步骤：步骤一，对半导体清洗腔进行喷砂处理；步骤二，对半导体清洗腔进行高压水洗；步骤三，酸刻蚀；将半导体清洗腔放置在HNO₃和HF混合而成的混合酸中蚀刻蚀刻掉部件表面棱角及疏松部位，混合酸中HNO₃和HF比例在10:1‑40:1范围内；步骤四，对半导体清洗腔进行干燥清洗；步骤五，将半导体清洗腔固定在一工装上；步骤六，使用六轴机械手夹持溶射喷枪对半导体清洗腔进行等离子溶射保证膜层吸附后溶射层不出现应力性脱落，避免溶射层脱落污染腔体。
半导体清洗蚀刻混合酸制备陶瓷半导体加工技术六轴机械手部件表面高压水洗喷砂处理疏松部位水洗干燥等离子酸刻蚀应力性工装棱角夹持膜层喷枪腔体吸附清洗污染保证

[发明专利]陶瓷表面铝溶射微弧氧化方法-CN201510005362.4在审
发明人：陈煜;贺贤汉;吴小杰 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2015-01-04 - 公布日： 2015-04-08 - 主分类号： C25D11/04 文献下载
摘要：本发明陶瓷表面铝溶射微弧氧化方法，包括如下步骤：第一步，对陶瓷基体进行喷砂增粗；第二步，对陶瓷基体进行清洗；第三步，对经过清洗的陶瓷基体进行铝溶射；第四步，对经过铝溶射的陶瓷基体进行微弧氧化。本发明陶瓷表面铝溶射微弧氧化方法将铝合金的微弧氧化技术应用到陶瓷表面的铝溶射，微弧氧化具有类似陶瓷的微观结构，具有较高的硬度、耐磨性。由于原先的溶射层具有较好的结合力，较高的粗糙度，表层微弧氧化之后可保持吸附depo物的粗糙度和结合力需求。
陶瓷表面铝溶射微弧氧化方法

[发明专利]一种改善溶射层的工艺-CN202211383888.2在审
发明人：唐建明;高志 -专利权人：爱发科商贸（上海）有限公司巢湖分公司
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C4/02 文献下载
摘要：本发明提供一种改善溶射层的工艺，包括如下步骤：S1.对防护板进行预处理，使用喷砂机进行喷砂处理，并保证表面粗糙度处理到3μm以上；S2.对经S1处理后的防护板进行表面溶射处理；S3.对经S2处理后的防护板再次进行喷砂处理，以消除溶射表面波峰易脱落的粒子。本发明通过对经溶射后的防护板再次进行喷砂处理，可有效去除防护板表面溶射层波峰上不安定因素，将波峰磨平，易避免在实际使用时，产生易脱落的粒子，从而可有效提高真空装置镀膜设备的产品良率。
一种改善溶射层工艺

[实用新型]氮化钛气相沉淀装置覆盖环部件洗净溶射专用遮蔽治具-CN201821175676.4有效
发明人：朱光宇;陈智慧;张正伟;李泓波;贺贤汉 -专利权人：富乐德科技发展（大连）有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种氮化钛气相沉淀装置覆盖环部件洗净溶射专用遮蔽治具，属于洗净溶射遮蔽技术领域，包括治具本体，所述治具本体为具有厚度的圆环状结构，其结构分为三层，包括由内向外设置的内遮蔽台、中间定位台和外遮蔽台，所述内遮蔽台和中间定位台之间设有凹槽；所述内遮蔽台上设置有与待洗净溶射部件相配合的卡槽；本实用新型能够大幅度提高溶射范围的精度，且不会在待洗净溶射部件被覆盖的表面留下残胶，污垢等副产物。
遮蔽洗净本实用新型沉淀装置治具本体氮化钛定位台覆盖环射部件治具圆环状结构由内向外副产物污垢残胶三层覆盖配合

[发明专利]一种DBC基板两面铜箔同时烧结时用的垫板及其制备方法-CN202010966575.4有效
发明人：祝林;贺贤汉;戴洪兴 -专利权人：上海富乐华半导体科技有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：一种DBC基板两面铜箔同时烧结时用的垫板，包括从上至下依次设置的MgO烧结层、氧化铝溶射层以及SiC陶瓷板；MgO烧结层的厚度为1～10μm；氧化铝溶射层的厚度为15～25μm；SiC陶瓷板的厚度为1mm本专利采用SiC陶瓷板作为烧结垫板的基体材料，氧化铝溶射层以及MgO烧结层，可确保垫板不与铜片粘合在一起或在铜片表面留下接触痕迹、或使铜片熔化，同时MgO烧结层不易脱落而污染烧结炉膛，提高了产品的良率和生产效率
一种 dbc 两面铜箔同时烧结垫板及其制备方法

[实用新型]热室压铸机射料壶-CN201420498918.9有效
发明人：鲁兴松 -专利权人：嘉善兴亚有色金属铸造有限公司
申请日： 2014-09-01 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： B22D17/04 文献下载
摘要：热室压铸机射料壶，包括壶体、坩埚、压射冲头、压室、溶口、鹅颈、喷嘴、隔热层、体腔、保温装置和压杆装置，壶体内部设置有隔热层，隔热层内是腔体，腔体下端是压室，压室固定在坩埚上，压室左上端与压射冲头进行活塞连接，压射冲头通过压射杆被壶体上表面外侧的压杆装置控制，压室与压射冲头相连接的活塞侧壁上有溶口，压室右端与鹅颈相连接，鹅颈末端连接有喷嘴，喷嘴伸出壶体外侧且外围被保温装置包裹。喷嘴伸出壶体外侧且外围被保温装置包裹；体腔外围设有隔热层，减少了热量的大量流失，节约资源；喷嘴外部采用保温装置保温它的温度，使其减少受热冷却温差较大，延长其寿命。
压铸机射料壶

[发明专利]铝溶射涂层性能测试方法-CN201510019137.6在审
发明人：陈煜;贺贤汉;吴小杰;尚玉帝 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2015-01-14 - 公布日： 2015-04-22 - 主分类号： G01R31/12 文献下载
摘要：本发明铝溶射涂层性能测试方法，使用耐击穿电压测试仪对样片进行耐击穿电压测试；其中所述耐击穿电压测试仪的电极与所述样片之间的间距为3.8mm；溶射工艺条件为溶射电压＝30V；溶射电流＝150A；喷射气压＝65×2PSI；溶射距离＝200mm。本发明铝溶射涂层性能测试方法操作简单，耗时少，能耗低、可以保证完成去除粘结剂、清洗效果理想，对粘结片无损伤。
铝溶射涂层性能测试方法

[发明专利]溶射方法-CN201811629640.3在审
发明人：张远;熊志红 -专利权人：深圳仕上电子科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： B05D3/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种溶射方法，该溶射方法包括如下步骤：去除工件表面的沉积物；对工件表面进行喷砂处理；对工件进行一次液洗；对工件进行溶射作业；对工件进行二次液洗；干燥工件；对工件进行真空包装。该溶射方法，在去除工件表面的沉积物后，通过溶射的方式对工件进行表面处理，以在工件表面形成涂层，涂层不仅能达到防腐蚀、耐磨等目的，还能提高工件的吸附能力。
工件表面沉积物次液去除干燥工件喷砂处理吸附能力真空包装防腐蚀耐磨

[实用新型]一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具-CN201921068030.0有效
发明人：王永东 -专利权人：安徽富乐德科技发展有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，包括内保护，所述内保护的内部开设有第一通孔，所述内保护靠近第一通孔的一侧固定连接有插入保护，所述插入保护的内部开设有第二通孔。该半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，使用时将待洗净熔射的部件平放，将本治具放于待洗净熔射的部件上，露出需要洗净熔射的区域，熔射后将本治具取下，洗净溶射遮蔽保护治具可以重复利用，达到可重复使用和节省人力及物料成本的目的，通过高精度加工制作，能够提供相对于人工胶带保护更高的溶射范围精度，可以代替人工用耐热胶带遮蔽部件的非溶射区域，达到定位准确和高精度的目的。
一种半导体设备同轴阳极部件洗净保护

[实用新型]一种压力溶气罐-CN202122434800.2有效
发明人：李高辉;刘鹏;吴恒斌;姚瀚威 -专利权人：东莞道汇环保科技股份有限公司
申请日： 2021-10-09 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： B01F23/232 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种压力溶气罐，包括水射器、溶气泵、中心出水管与溶气罐，所述水射器、溶气泵及所述溶气罐依次通过管道连接，且所述溶气罐进水端的水流方向与所述溶气罐的内壁相切，该压力溶气罐溶气效果好，且不会出现填料堵塞的情况
一种压力溶气罐

[发明专利]具有牺牲防腐蚀层及接合层的铝合金管的制造方法及具有该铝合金管的热交换器-CN201280075015.3有效
发明人：森谦介 -专利权人：株式会社UACJ
申请日： 2012-08-01 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： B23K35/22 文献下载
摘要：提供一种耐蚀性出色，具有钎焊用接合层的铝合金管。另外提供一种使用翅片的热交换器，其中该翅片不使用钎焊片而使用廉价且容易得到的裸材。一种铝合金管的制造方法，该方法包括：将纯度95％以上的Zn以溶射量3～10g/m²、溶射速度150×10³～350×10³mm/sec的条件于铝合金管表面上电弧溶射，由此形成含Zn的牺牲防腐蚀层之工序；以及由纯度95％以上的Si粉末和助焊剂混合而得的混合物组成钎焊用接合材，将该接合材涂布于上述牺牲防腐蚀层表面，使该Si粉末的涂布量为1.2～3.0g/m²，由此形成钎焊用接合层之工序。
具有牺牲腐蚀接合铝合金制造方法热交换器

[实用新型]一种加热射水溶药装置-CN202121905829.8有效
发明人：吴建芳;王腾虎;王吉;王力爽 -专利权人：荣庭环保科技集团有限公司
申请日： 2021-08-16 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： B01F27/90 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种加热射水溶药装置。为解决现有溶药装置存在的固体药剂溶解不完全、溶解速度慢等问题，本实用新型提出一种加热射水溶药装置，包括溶药桶、支架、桨式搅拌装置和加热射水装置，桨式搅拌装置与射水装置联合搅拌，使用带有微孔的配水管，可将自来水由溶药装置底部射入，能够增加溶药装置内部紊流，使水与药剂的接触更加充分，并迅速溶解沉积药剂，在水温过低时使用加热装置对自来水进行加热，有利于避免冬季低水温对溶药速度的影响，达到缩短溶药时间、提高药剂使用效率的目的。
一种加热射水溶药装置

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