专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]种流水线皮革打孔装置-CN202010368054.9有效
  • 郑海彬 - 山东众兴泽辉新材料股份有限公司
  • 2020-04-30 - 2021-10-15 - B26F1/24
  • 本发明公开了种流水线皮革打孔装置,其结构包括传感器、转轴座、转轴、凸轮、钻头、限位筒、压力表、加热箱、温度表、加热器、过滤装置、把手、排气管、排水塞、机架、齿轮、滑轨、齿排、基座、连杆、电机、转盘、传输带,传感器位于传输带侧,转轴座安装于基座上,基座设有两个,且传输带位于两个基座之间,凸轮与钻头均设有若干个,凸轮插入钻头上,钻头与加热箱固定连接,本装置通过加热器加热导热剂以此导热钻头,在加热器预热结束后,若干个钻头间的温度几乎且钻头规格打孔深度,便使得在打孔时所打的孔洞大小深度几乎,避免出现不同的钻头因温度而烫出大小不的孔洞,造成次品而浪费整块皮革。
  • 一种流水线皮革打孔装置
  • [发明专利]种曝光设备和曝光系统-CN201910531932.1有效
  • 向琛;陈轶 - 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
  • 2019-06-19 - 2022-01-11 - G03F7/20
  • 本发明公开了种曝光设备和曝光系统。曝光设备包括基座和位于所述基座上方用于承载基板的基台,其特征在于,所述曝光设备还包括设置在所述基座和所述基台之间、用于调节所述基台的曲率或/和温度的调节装置。该曝光设备,通过调节装置可以调节基台的曲率或/和温度,以使得基台表面的曲率与掩膜板的弯曲形变相,进而使得待曝光基板的曲率也会与掩膜板的弯曲形变相,使得不同位置的掩膜板下表面与基板上表面的间隙相;或/和,通过调节装置可以调节基台不同位置的温度,使得基板不同位置的温度保持,从而提高曝光基板不同位置的线宽均性。
  • 一种曝光设备系统
  • [发明专利]种电堆冷却液流量分配性检测方法-CN202011583568.2有效
  • 徐家慧;陈敏;刘雪婷;赵洋洋;李光伟;邢丹敏 - 新源动力股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2022-08-02 - G01M99/00
  • 本发明公开了种电堆冷却液流量分配性检测方法,包括:将经过保温处理的电堆放在室温环境下静置段时间,确保电堆初始温度趋于,并记录此时电堆的初始温度T0;开内循环阀,关外循环阀,将冷却液进行加热处理直至冷却液保持设定温度值不变;关内循环阀,开外循环阀,将加热后的冷却液通入带温度采集系统的电堆中,气腔不通反应气体,电堆各节单池冷却液释放的热量全部用于单池温度的上升本检测方法通过采集燃料电池电堆各节电池的温度及各节电池冷却液温度随时间的变化情况,推导出电堆各节电池冷却液流量分配的性,解决了目前电堆各节单池冷却液流量分配性无法测量的问题。
  • 一种冷却液流量分配一致性检测方法
  • [实用新型]种注塑模具用温控装置-CN201520068045.2有效
  • 林建利 - 漳州市天利达计时有限公司
  • 2015-01-30 - 2015-08-19 - B29C45/78
  • 本新型提供了种注塑模具用温控装置,工作时,PLC智能控制器控制所有测温装置对模腔当前温度进行测试并发送给PLC智能控制器,PLC智能控制器通过检测所接收信号,温度过高的则控制对应位于该信号的小模腔旁的n型冷却道的抽水泵,使该n型冷却道进步对模腔进行降温冷却;通过PLC智能控制器对各个小模腔温度进行检测,并操作对应n型冷却道工作,可以保证每个小模腔的温度,且在设定范围内,保证每个小模腔内的产品质量,精确度高,克服了传统技术中因只设有条冷却道所导致的模具内不同位置的模腔温度,导致产品质量不,无法得到保障的技术问题。
  • 一种注塑模具温控装置
  • [发明专利]种电化学电解池-CN202011079445.5在审
  • 李静镜;周剑伟;邹爽;黄升 - 杭州绿洁环境科技股份有限公司
  • 2020-10-10 - 2021-01-08 - G01N27/28
  • 本发明公开种的电化学电解池,包括反应池、固设于反应池外侧的半导体制冷器和用以检测反应池的当前温度温度检测件,当温度检测件检测到当前温度超出预设温度时,控制器根据温度检测件反馈的信号控制半导体制冷器对反应池进行制冷,反应池温度降低,直至当前温度与预设温度;当温度检测件检测到当前温度低于预设温度时,控制器根据温度检测件反馈的信号控制半导体制冷器对反应池进行制热,反应池温度升高,直至当前温度与预设温度温度检测件与半导体制冷器共同配合自动调整反应池的温度,使反应池保持温度恒定,免受池内溶液温度及外界环境温度的影响,使反应池内待测样与校正液的温度保持,检测结果较准确,检测精度较高。
  • 一种电化学电解池

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