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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电泳涂装法及电泳涂装装置-CN201980009624.0有效
发明人：篠田雅史;松井启贵 -专利权人：马自达汽车株式会社
申请日： 2019-01-15 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C25D13/14 文献下载
摘要：电泳涂装法包括脱脂清洗工序、化学转化处理工序以及电泳涂膜层形成工序，脱脂清洗工序包括脱脂工序，在该脱脂工序中，将被涂物浸渍于脱脂溶液，并在此状态下，利用超声波振子使该脱脂溶液产生超声波振动，电泳涂膜层形成工序包括第一电泳工序、第一水洗工序、清洗水除去减少工序、热流动工序以及第二电泳工序，在该清洗水除去减少工序中，除去或减少被涂物的清洗水停滞面上的清洗水，在该热流动工序中，进行第一电泳涂膜的热流动，以使形成在被涂物上相对于第一对极较近一侧的部位的第一电泳涂膜的电阻比形成在被涂物上相对于第一对极较远一侧的部位的该第一电泳涂膜的电阻高
电泳涂装法装置

[发明专利]彩色滤色用玻璃片的制造方法、彩色滤色面板的制造方法以及显示器用玻璃基板-CN201310331548.X有效
发明人：伊崎靖浩;三石刚大;松叶康 -专利权人：安瀚视特韩国有限公司;安瀚视特控股株式会社
申请日： 2013-08-01 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明的在表面上形成黑色基质树脂的彩色滤色用玻璃片的制造方法具备清洗玻璃片表面来去除附着在表面的异物的玻璃片清洗工序。玻璃片清洗工序具有第1清洗工序和第2清洗工序。在第1清洗工序中，采用已添加界面活化剂的无机碱系列的清洗剂来清洗表面。在第2清洗工序中，采用四甲基氢氧化铵来清洗表面。
彩色滤色用玻璃片制造方法面板以及显示器用玻璃

[发明专利]钢材的表面处理方法、涂装方法及机械部件的制造方法-CN201710060783.6有效
发明人：森田春司;楯恒夫;盐泽明 -专利权人：株式会社小松制作所;科泰克公司;日本化材株式会社
申请日： 2012-09-12 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： C23C22/08 文献下载
摘要：本发明提供一种表面处理方法，该方法包括：防锈工序、漂洗工序、及清洗工序。防锈工序使用包含正磷酸及有机酸的防锈液对钢材表面进行防锈处理。漂洗工序使用包含过渡金属含氧酸盐的处理液对钢材表面进行漂洗处理。清洗工序对漂洗工序后的钢材表面进行清洗处理。
钢材表面处理方法机械部件制造

[发明专利]钢材的表面处理方法、涂装方法及机械部件的制造方法-CN201280051867.9在审
发明人：森田春司;楯恒夫;盐泽明 -专利权人：株式会社小松制作所;科泰克公司;日本化材株式会社
申请日： 2012-09-12 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C23C22/17 文献下载
摘要：本发明提供一种表面处理方法，该方法包括：防锈工序、漂洗工序、及清洗工序。防锈工序使用包含正磷酸及有机酸的防锈液对钢材表面进行防锈处理。漂洗工序使用包含过渡金属含氧酸盐的处理液对钢材表面进行漂洗处理。清洗工序对漂洗工序后的钢材表面进行清洗处理。
钢材表面处理方法机械部件制造

[发明专利]偏振片的制造方法和偏振片的制造装置-CN202010257979.6在审
发明人：祝部学;萩一真;井上龙一;西川雅之 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： B05D1/18 文献下载
摘要：偏振片的制造方法具有：湿式处理工序，在该工序中，将含有亲水性聚合物的长条带状的膜卷材(B)沿长边方向输送，利用染色液将所述膜卷材(B)染色，并且将所述膜卷材(B)延伸；以及清洗工序，在该工序中，利用清洗液对进行了所述湿式处理的膜卷材(B)进行清洗，所述清洗工序具有清洗液涂布工序，在该清洗液涂布工序中，使用涂敷辊(6)将所述清洗液涂布于所述膜卷材(B)的一面。
偏振制造方法装置

[发明专利]一种硅外延石英钟罩去除磷砷硼掺杂物的清洗方法-CN202210976422.7有效
发明人：耿彪;耿仕昂 -专利权人：北京华林嘉业科技有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及硅外延炉石英钟罩去除磷砷硼掺杂物的清洗方法，采用硅外延炉石英钟罩清洗装置对硅外延炉石英钟罩进行清洗，硅外延炉石英钟罩清洗装置包括钟罩清洗工位和酸泡清洗工位，硅外延炉石英钟罩在钟罩清洗工位进行清洗时，依次经过第一次水洗工序、稀酸清洗工序、第二次水洗工序、浓酸清洗工序、第三次水洗工序、干燥工序；酸泡清洗工位进行清洗时，包括酸泡作业、排酸作业、注水作业、溢流和鼓泡作业、排水作业、pH检测作业。本发明能对硅外延炉石英钟罩进行喷淋清洗以及对钟罩相关的配套件以及石英件进行浸泡清洗，对硅外延炉石英钟罩内壁附着的磷砷硼等掺杂物有效的清洗、去除，清洗效果好，清洗效率高。
一种外延石英钟去除磷砷硼掺杂清洗方法

[发明专利]绝缘性树脂基板的清洗方法、基板处理装置及成膜装置-CN201811070905.0在审
发明人：阿部可子 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明涉及绝缘性树脂基板的清洗方法、基板处理装置及成膜装置。能够得到较高的清洗效果而不损害绝缘性树脂基板的绝缘性。绝缘性树脂基板的清洗方法包括：第一清洗工序，在所述第一清洗工序中，在第一气体的气氛下清洗绝缘性树脂基板的表面；及第二清洗工序，在所述第一清洗工序之后，在所述第二清洗工序中，在第二气体的气氛下清洗所述绝缘性树脂基板的所述表面在此，所述第一气体是产生物理清洗作用的气体，所述第二气体是产生化学清洗作用的气体。
绝缘性树脂基板清洗工序清洗基板处理装置成膜装置化学清洗清洗效果物理清洗绝缘性损害

[发明专利]显影处理方法和显影处理装置-CN202010849612.3在审
发明人：甲斐亚希子;一之宫博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：显影处理方法对基板上的抗蚀膜进行显影处理，包括：工序(A)，向前述基板供给显影液以使前述抗蚀膜进行显影，形成抗蚀图案；工序(B)，向显影后的前述基板供给水系清洗液，用该水系清洗液对该基板进行清洗；工序(C)，在用前述水系清洗液清洗了的前述基板上涂布水溶性聚合物的水溶液，在前述基板表面形成具有亲水性的亲水性层；和，工序(D)，对形成有前述亲水性层的基板用冲洗液进行清洗，前述工序(B)包括使前述基板的转速加速的工序(a)和在前述工序(a)后直至前述工序(C)开始之间使前述基板的转速减速的工序(b)，前述工序(b)中的减速度小于前述工序(a)中的加速度。
显影处理方法装置

[发明专利]餐具清洗机-CN202010557658.8在审
发明人：近藤骏介;大平隼大 -专利权人：林内株式会社
申请日： 2020-06-18 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： A47L15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现便利性的提高的餐具清洗机。餐具清洗机具有：清洗槽(7)，其对餐具(DB1)进行收容；喷嘴(61)，其朝向清洗槽内喷射清洗水；泵(62)，其朝向喷嘴供给清洗水；以及控制部(C1)，其对泵进行控制，并执行对收容于清洗槽的餐具(DB1)进行清洗的清洗运转。清洗运转具有：包括清洗工序以及水冲洗工序在内的多个工序。餐具清洗机(1)还具备对清洗运转的运转时间(TT1)进行设定的运转时间设定单元(41、43A、43B)。控制部执行分配处理，在该分配处理中，将由运转时间设定单元设定好的运转时间以规定的比例分配给各工序，来决定各工序的各自的处理时间。并且，控制部基于各处理时间来执行各工序。
餐具清洗

[发明专利]磁芯清洗装置及清洗方法-CN202210038817.2在审
发明人：冯卫东;杨刚;马靖;吴明霞;李明星;尹管彬;屈立;杨屹;骆祥华 -专利权人：宜宾盈泰光电有限公司;四川大学
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁芯清洗装置，同时涉及一种利用上述磁芯清洗装置实施的清洗方法，属于磁芯清洗技术领域。本发明采用三道清洗工序，第一道清洗工序内部安装多个并排排列的清洗辊筒，使得磁芯在第一道清洗工序能够进行一次喷淋装置喷水冲洗和多次辊筒洗刷；第二道清洗工序是让磁芯浸入清洗池中，配合使用磁震装置实现震动清洗，分离磁芯和粘附在磁芯表面的油污及粉尘；第三道清洗工序采用雾化喷淋，环形管上的每根喷淋管下方均安装了多个雾化喷嘴，多根喷淋管并排排列，多个雾化喷嘴均匀分布，能够全方面、多角度的清洗，将在清洗池内重新落回磁芯表面的油污三道清洗工序配合使用，清洗效果极好，磁芯表面清洁度极高。
清洗装置方法

[发明专利]地底及地面储存油罐快速清洗方法-CN200410051028.4无效
发明人：王东明;马国良;廖达兴;黄元昌;何春林 -专利权人：广州广万通石油设备技术有限公司
申请日： 2004-08-10 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： B08B9/093 文献下载
摘要：本发明公开了一种处在高危险的密闭空间工作环境内实施的一种清洗方法，具体指在地底及地面储存油罐对其内壁进行高效、快速清洗方法。主要是配套的施工设备与清洗工序流程相结合，所述的清洗工序流程包括：抽气工序——初步清洗工序——再次清洗工序；所述的与清洗工序流程配套的施工设备，主要包括空气压缩机、高压防爆输气管道、泓吸抽气装置、泓吸管、气动泵、污物容器、气体探测器、高压水泵、高压水枪、救生三脚架、救生绳、面罩供气管道、以及个人安全防护装备等，在上述之设备及工序的配合下，本发明所述的地底及地面储存油罐清洗方法能在三个小时内得以安全、顺利地快速完成
地面储存油罐快速清洗方法

[发明专利]PCB生产用水的低排放回用工艺-CN202211222673.2在审
发明人：何茂水;朱建华 -专利权人：惠州市成泰环保智能科技有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种PCB生产用水的低排放回用工艺，属于生产用水处理领域，其包括如下步骤，S1、根据PCB生产线中各工序对于清洗用水的导电率的要求，将其分类为一级工序、二级工序和三级工序；S2、测量PCB生产线中各工序的完成了清洗作业的清洗废水的导电率；S3、抽取PCB生产线中各工序的清洗废水中导电率小于导电率n的清洗用水并将其划分为一级清洗废水和二级清洗废水；S4、对存储的一级清洗废水和二级清洗废水进行铜离子沉淀处理和pH值调节处理；S5、将处理完成的二级清洗废水回用至三级工序；S6、将剩余的未回用的二级清洗废水与一级清洗废水进行混合，得到导电率不高于导电率b的混合清洗废水，回用至二级工序。
pcb 生产放回用工

[发明专利]浴室洗浴间地板用清洗装置以及浴室-CN201710860907.9有效
发明人：佐藤基和;石井克典;福冨达也;林训広;芹泽大介 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： A47K3/28 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制在浴室的洗浴间地板上产生霉的浴室洗浴间地板用清洗装置以及具备该浴室洗浴间地板用清洗装置的浴室。本发明具备：向洗浴间地板上洒出清洗水的清洗单元；及控制所述清洗单元的控制部，所述控制部通过控制所述清洗单元来实施黑霉抑制工序及粉色霉菌抑制工序，黑霉抑制工序是以将残存于所述洗浴间地板的成为黑霉产生原因的角质从该洗浴间地板排向排水口的方式洒出清洗水的工序，粉色霉菌抑制工序是以用除去甲基杆菌的清洗水来替换残存于所述洗浴间地板的包含甲基杆菌的残留水的方式洒出所述清洗水的工序。
浴室洗浴地板清洗装置以及

[发明专利]晶片的清洗方法-CN201180063349.4有效
发明人：公文创一;斋尾崇;荒田忍;斋藤真规;七井秀寿;赤松佳则 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2011-12-20 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：[课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法，其至少具有以下工序用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序；用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序；干燥晶片(1)的工序，上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55～200℃的溶剂，通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点，从而至少使上述凹部表面拒水化
晶片清洗方法

[发明专利]使用W/O乳液清洗液的清洗方法-CN201880019153.7有效
发明人：山内辰也;青柳功;吉田瑞穗 -专利权人： JXTG能源株式会社
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：提供：从漂洗槽有效地排出水分和水溶性的污物的使用W/O乳液清洗液的清洗方法。本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法的特征在于，包括如下工序：清洗工序(A)，将被清洗物用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液进行清洗；漂洗工序(B)，将夹带前述W/O乳液清洗液的被清洗物用由前述烃系溶剂和前述表面活性剂形成的漂洗液、或由前述烃系溶剂形成的漂洗液进行漂洗；水分去除工序(C)，从前述漂洗液至少去除水分的一部分；和，分离工序(D)，从前述水分去除工序(C)后的前述漂洗液去除经分离的分离物。
使用乳液清洗方法

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