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[发明专利]气相沉积装置-CN200510128301.3无效
发明人：山田英司;汤浅贵之;荒木正浩;阿久津仲男 -专利权人：夏普株式会社;大阳日酸株式会社
申请日： 2005-09-27 - 公布日： 2006-05-03 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明的气相沉积装置具有：具有在其上夹持基板的基板夹持面的基板夹持部件，和用于向基板上提供源气体的气流通道。该气流通道具有上璧和下壁。开孔部分设置在气流通道下壁。
沉积装置

[实用新型]气相沉积装置-CN201220338482.8有效
发明人：俆祥准;许明洙;金胜勋;金镇圹;宋昇勇 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2012-07-12 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种用于有效地执行沉积工艺以在基底上形成具有改善特性的薄膜的气相沉积装置。气相沉积装置包括：室，包括排放口；架台，设置在室内，并包括将基底设置在其上的安装表面；注入部分，包括至少一个注入开口，通过所述至少一个注入开口沿与基底的将形成有薄膜的表面平行的方向注入气体；等离子体发生器
沉积装置

[实用新型]气相沉积系统-CN201020598384.9有效
发明人：李东柱;沈炫旭;李宪昊;金荣善;金晟泰 -专利权人：三星LED株式会社
申请日： 2010-11-05 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气相沉积系统和一种发光装置。根据本实用新型一方面的气相沉积系统可包括：第一室，具有第一基座和至少一个第一气体分配器，所述至少一个第一气体分配器沿与设置在所述第一基座上的基底平行的方向排放气体；第二室，具有第二基座和至少一个第二气体分配器当使用根据本实用新型一方面的气相沉积系统时，由此生长的半导体层具有优异的晶体质量，由此提高发光装置的性能。此外，在提高气相沉积系统的操作能力和产率的同时，可以防止设备的劣化。
沉积系统

[实用新型]气相沉积炉-CN201721832487.5有效
发明人：朱文博;银波;范协诚;王文;夏高强;薛明华 -专利权人：新特能源股份有限公司
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： C01B33/113 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气相沉积炉，包括炉体，还包括炉体内设置的：加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；沉积腔室，设置于加热腔室上方与加热腔室密封连接，且与加热腔室通过连通通道连通，沉积腔室内设置有可转动的沉积机构，沉积机构用于沉积产物，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；接收机构，用于接收从沉积机构上落下的沉积产物，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室。气相沉积炉中的沉积盘可旋转，从而使得沉积机构上沉积的产物均匀分布，提高了沉积产物的一致性。连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道与接收机构之间的空隙落入到加热腔室内。
沉积腔室沉积沉积产物加热腔室接收机构连通通道气相沉积炉沉积腔室内伸入反应生成产物本实用新型穿过加热原料开口调节密封连接沉积炉沉积盘加热腔可旋转可转动炉体落下连通开口体内

[实用新型]气相沉积装置-CN201921387132.9有效
发明人：吴天成;张传洋 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种气相沉积装置，涉及半导体生产技术领域，所述气相沉积装置包括：反应腔体；设置于所述反应腔体中的射频装置和气体分配盘；与所述气体分配盘相对设置的加热器，用于在其上放置并加热利用所述等离子体沉积薄膜的晶圆；设置于所述加热器下方且与所述加热器固定连接的水平调整盘；设置于所述水平调整盘下方的自动高度调节机构，用于根据所述晶圆沉积的薄膜的厚度调节所述气体分配盘与所述加热器之间的距离。
沉积装置

[实用新型]气相沉积平台-CN202022455240.4有效
发明人：孙飞 -专利权人：苏州尚勤光电科技有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： C30B25/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气相沉积平台，包括不锈钢平台，所述不锈钢平台上设置有安装柱，所述安装柱上设有石英天花板，所述安装柱的端部设有将石英天花板卡固的卡环；所述石英天花板上设有晶相沉积的、增加表面粗糙度的喷砂层通过喷砂层的设计来增强晶相沉积时的粗糙度，延长石英天花板的更换周期时间，喷砂层上沉积的化合物更加牢固，降低成本。
沉积平台

[实用新型]气相沉积炉-CN202120426381.5有效
发明人：康治政;詹林;王滋川;匡良明 -专利权人：森松（江苏）重工有限公司
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本申请提出了一种气相沉积炉。该气相沉积炉包括炉管、下管板和填料密封结构。所述炉管穿过所述下管板，所述炉管和所述下管板通过所述填料密封结构形成密封。所述填料密封结构包括填料、管座、压盖和支耳结构。
沉积

[实用新型]气相沉积设备-CN202122790961.5有效
发明人：赵曈济 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本实用新型公开一种气相沉积设备，包括沉积室、预抽管道、节流阀、节流阀控制器和冷却装置，预抽管道连通于沉积室，节流阀设置于预抽管道中，节流阀控制器设置于预抽管道外并连接于节流阀，冷却装置包括进气总管、分气管和若干分支管道该气相沉积设备的节流阀控制器的冷却效率较高，冷却效果好，保证节流阀控制器的通信正常，从而保证气相沉积设备的正常工作和工作效率。
沉积设备

[实用新型]气相沉积设备-CN202223046306.X有效
发明人：杨贤烁 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开一种气相沉积设备，包括反应室，反应室内具有内腔，反应室上开设有连通内腔的开口，内腔具有安装腔壁，开口贯穿安装腔壁，安装腔壁上并位于开口的上下两侧均设置有隔热板本体，隔热板本体通过挂钩与安装腔壁连接该气相沉积设备能够防止隔热板与挂钩摩擦产生的异物掉落在玻璃基板的表面上。
沉积设备

[实用新型]气相沉积装置-CN202322381334.5有效
发明人：姜耀天;郭超;母凤文 -专利权人：青禾晶元（天津）半导体材料有限公司
申请日： 2023-09-04 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型属于薄膜制备技术领域，公开了气相沉积装置，其包括：炉体、旋转轴、传动组件以及驱动件。以此该气相沉积装置在使用时，不仅能够一次性对多个衬底进行镀膜，而且每个衬底表面镀膜的厚度也能保持一致。
沉积装置

[实用新型]气相沉积装置-CN202321364332.9有效
发明人：郑锦;姚铖 -专利权人：南京原磊纳米材料有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种气相沉积装置，包括腔壁和进气口组件。其中，腔壁围合出用于对晶圆表面进行气相沉积的沉积空间；进气口组件包括至少一个管路；管路包括第一管路和第二管路。反应气体进入第一管路后分别流向位于第一管路两端的第一出气口，然后流入第二管路，并经第二管路流至沉积空间中。由于两个第二管路与沉积空间相连通的出口位于同一平面且分别位于沉积空间与第一管路两端对应的两侧，从而能够使反应气体在沉积空间中充分流动，所以自两个第二管路的端口流出的气体能够均匀扩散到沉积空间中的每个位置，解决了因沉积空间中反应气体分布不均导致的气相沉积效果差的问题。
沉积装置

[发明专利]气相沉积方法-CN201580015091.9在审
发明人： J·维蒂耶洛 -专利权人：阿尔塔科技半导体公司
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及层沉积方法，其包括：将第一试剂以气相通过第一注入路径(40)注入沉积室(30)，并且将第二气相试剂通过第二注入路径(50)注入沉积室(30)，所述第二注入路径(50)与所述第一注入路径(40)沉积室(30)内的压力在所述方法的整个持续时间大于预定值。所述方法的特征在于，根据第一脉冲序列将第一试剂供给至沉积室(30)，并且根据第二脉冲序列将第二试剂供给至所述室。
沉积方法

[发明专利]汽相沉积系统-CN200980140045.6有效
发明人： G·本韦努蒂;E·阿拉里瓦格纳;C·派特 -专利权人： ABCD技术有限公司
申请日： 2009-10-08 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种用于对多种种类进行真空沉积的喷嘴，所述喷嘴被分成多个四分部，每个四分部包含至少一个用于所述种类的出口，所述四分部中的每一个定义位于下方的隔间的壁，该隔间包含至少一个种类，其中两个相邻的隔间包含不同种类
沉积系统

[发明专利]气相沉积装置-CN201180005087.6无效
发明人：若狭加奈子;坂上英和;坪井俊树 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2011-06-20 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的气相沉积装置(1A)具有：配设有使薄膜进行气相沉积的被处理基板(31)的反应炉(20)；具有导入气体的气体导入口(14)、用于使气体扩散的气体分配空间(13)、穿设有用于将气体分配空间(13)的气体供给至反应炉
沉积装置

[发明专利]深水气井测试期间水合物沉积规律的监测装置及方法-CN201710095547.8有效
发明人：高永海;崔燕春;孙宝江;陈野;李昊;赵欣欣 -专利权人：中国石油大学（华东）
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： E21B47/001 文献下载
摘要：本发明涉及一种深水气井测试期间水合物沉积规律的监测装置，深水气井测试期间水合物沉积规律的监测装置包括：气液输送系统、水合物监测系统、辅助系统；气液输送系统提供气源、液源，混合后输送至水合物监测系统；水合物监测系统以高压低温条件在模拟井筒内形成水合物，记录观察水合物结晶、沉积堵塞过程；辅助系统进行气体后处理，并实现对装置的安全控制。本发明能模拟水合物生成过程为动态过程，与实际测试过程相符，可实时观察水合物沉积附着至堵塞过程，超声成像可实时对不同位置的气‑水‑水合物三相的沉积分布情况进行成像观察，获得水合物层厚度沿井筒轴向的分布规律
深水气井测试期间水合物沉积规律监测装置方法