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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法-CN202211551531.0在审
发明人：樱井宏纪;绪方信博;后藤大辅;森宽太;矢田健二;桥本佑介;水口将辉;许彦瑞 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
喷嘴处理装置以及方法

[实用新型]喷嘴以及基板处理装置-CN202223248445.0有效
发明人：樱井宏纪;绪方信博;后藤大辅;森宽太;矢田健二;桥本佑介;水口将辉;许彦瑞 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
喷嘴以及处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202111150556.5在审
发明人：绪方信博;樱井宏纪;后藤大辅;古贺贵广;森宽太;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够在液处理中提升去除对象物的去除效率的技术。本公开的基板处理装置具有流体供给部、处理液供给部以及喷嘴。流体供给部供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体。处理液供给部供给至少包含硫酸的处理液。喷嘴具有第1喷出口、第2喷出口以及导出路径。第1喷出口喷出自流体供给部供给的流体。第2喷出口喷出自处理液供给部供给的处理液。导出路径与第1喷出口以及第2喷出口连通，导出自第1喷出口喷出的流体和自第2喷出口喷出的处理液的混合流体。另外，导出路径的截面面积比第1喷出口的截面面积大。
处理装置

[实用新型]基板处理装置-CN202122375625.4有效
发明人：绪方信博;樱井宏纪;后藤大辅;古贺贵广;森宽太;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够在液处理中提升去除对象物的去除效率的技术。本公开的基板处理装置具有流体供给部、处理液供给部以及喷嘴。流体供给部供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体。处理液供给部供给至少包含硫酸的处理液。喷嘴具有第1喷出口、第2喷出口以及导出路径。第1喷出口喷出自流体供给部供给的流体。第2喷出口喷出自处理液供给部供给的处理液。导出路径与第1喷出口以及第2喷出口连通，导出自第1喷出口喷出的流体和自第2喷出口喷出的处理液的混合流体。另外，导出路径的截面面积比第1喷出口的截面面积大。
处理装置

[发明专利]喷嘴装置及具备该喷嘴装置的基板处理装置-CN01823874.2无效
发明人：赤坂丈士;水川茂;村田贵;中田胜利;松元俊二 -专利权人：住友精密工业株式会社
申请日： 2001-12-17 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本发明涉及能以少量的处理液、而且在基板上形成均匀膜厚的处理液膜的喷嘴装置及具备该喷嘴装置的基板处理装置。喷嘴装置(10)，具备：多个喷出口(18)，形成于下面；储液室(22)，使所供给的处理液滞留；以及，液喷出流路(23、17)，一方连通于各喷出口(18)，另一方连通于储液室(22)，使滞留于储液室(22)的处理液流通至喷出口(18)，从喷出口(18)喷出。喷出口(18)，沿喷嘴装置(10)的长边方向排列成多列，并且各列的喷出口(18)配置于邻接的喷出口(18)列的各喷出口配置间，使各喷出口(18)沿排列方向配设成交错状。
喷嘴装置具备处理

[实用新型]一种静电纺丝的针头及其排列结构-CN201821960951.3有效
发明人：高婷婷;徐浙云 -专利权人：宁波方太厨具有限公司
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：一种静电纺丝的针头，包括有喷液通道的针管，针管自由端设有与喷液通道连通且供聚合物溶液喷出的喷出口，所述喷出口所在平面相对针管长度方向呈一斜面，并且，喷出口朝上。通过喷出口所在平面相对针管长度方向呈一斜面，并且，喷出口朝上。针头进行横向喷丝时，喷出口所在针管内壁对喷出口的液滴具有一个向上的支持力，液滴不易下垂，这样喷出的丝不易向下坠落，喷出的丝比较平直而不会位于液滴下方，能相对完全地收集到收集器的滚轴上；排列多个针头，使得收集到的喷丝量较大也比较均匀
喷出口针头针管静电纺丝喷出液滴排列结构喷液通道所在平面朝上喷丝本实用新型聚合物溶液针管内壁收集器支持力自由端下垂滚轴平直连通坠落

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201610424452.1有效
发明人：小林健司;泽岛隼;中岛章宏 -专利权人：株式会社思可林集团
申请日： 2016-06-15 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，一边使处理液喷出口在预喷出位置向存放器喷出药液，一边检测供给到存放器的药液的温度。药液的温度随着时间的经过而上升。当供给至存放器的药液的温度到达第二目标温度时，使处理液喷出口停止喷出药液。然后，变更处理液喷出口以及存放器的位置关系，使处理液喷出口在处理位置向基板喷出药液。
处理装置以及方法

[发明专利]贮藏器、基板处理装置以及贮藏器的使用方法-CN202010366185.3在审
发明人：牟田友彦;柴田大树;甲斐亚希子;绪方诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：用于防止向作为被处理体的基板供给含有泡的处理液。贮藏器具备：容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；液体喷出路径，其具有设置在比收容于容器部内的处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向容器部内喷出处理液；以及气体喷出路径，其具有设置在比液面高的位置的气体喷出口，能够向容器部内喷出气体。液体喷出路径能够以使处理液碰到侧壁中的比液面靠上方的部分的方式从液体喷出口喷出处理液。气体喷出路径能够以使气体碰到比容器部的内表面中的比液面靠上方的部分的方式从气体喷出口喷出气体。
贮藏处理装置以及使用方法

[实用新型]贮藏器和基板处理装置-CN202020706363.8有效
发明人：牟田友彦;柴田大树;甲斐亚希子;绪方诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：用于防止向作为被处理体的基板供给含有泡的处理液。贮藏器具备：容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；液体喷出路径，其具有设置在比收容于容器部内的处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向容器部内喷出处理液；以及气体喷出路径，其具有设置在比液面高的位置的气体喷出口，能够向容器部内喷出气体。液体喷出路径能够以使处理液碰到侧壁中的比液面靠上方的部分的方式从液体喷出口喷出处理液。气体喷出路径能够以使气体碰到比容器部的内表面中的比液面靠上方的部分的方式从气体喷出口喷出气体。
贮藏处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200710004088.4有效
发明人：岛田久美子;佐藤雅伸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-01-23 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，包括：基板保持机构，其保持处理对象的基板；二流体喷嘴，其向被保持在上述基板保持机构上的基板表面供给液滴。二流体喷嘴具有壳体、喷出处理液的液体喷出口以及喷出气体的气体喷出口，该二流体喷嘴向上述壳体内导入处理液和气体，在上述壳体外，将从上述液体喷出口喷出的处理液和从上述气体喷出口喷出的气体进行混合来形成上述处理液的液滴，将该液滴供给到基板上。从二流体喷嘴供给的液滴在上述基板表面的密度为每分钟10⁸个/平方毫米以上。
处理装置以及方法

[发明专利]液体喷出头和液体喷出头的驱动方法-CN201210117310.2有效
发明人：笹川直人;北上浩一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2012-04-19 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： B41J2/045 文献下载
摘要：本发明涉及液体喷出头和液体喷出头的驱动方法。液体喷出头包括多个喷出口、多个储液室、多个压电致动器、多个驱动单元和控制单元。各喷出口喷出液体，各储液室分别与喷出口连通，针对储液室分别设置各压电致动器，而且各压电致动器生成用于喷出液体的能量，并且各驱动单元分别驱动压电致动器。控制单元控制各驱动单元输出第一电压脉冲以喷出液体，或者控制各驱动单元输出第二电压脉冲以在将液体的弯月面保持在储液室内的状态下振动弯月面。控制单元选择用于喷出液体的喷出口并控制向所选择的喷出口输出第一电压脉冲，并且选择不用于喷出液体的喷出口并控制向所选择的喷出口输出第二电压脉冲，以分别同时进行记录操作和恢复操作。
液体喷出驱动方法

[发明专利]冷却液供给装置以及机床-CN202080037696.9在审
发明人：矢部晃一;志田忠靖;安藤洋介;甲斐新平 -专利权人：西铁城时计株式会社;西铁城精机株式会社
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B23Q11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种冷却液供给装置以及机床，能够对冷却液的喷出简便地开闭。这是向机床内的工件加工区域供给冷却液的冷却液供给装置(10)。具备：旋转喷嘴(40)，其形成为圆筒状，并且在圆筒状的外周面具有供冷却液喷出的喷出口(51)；以及供给装置主体(20)，其将旋转喷嘴支承为旋转自如，并且构成为能够将冷却液供给向旋转喷嘴。供给装置主体构成为：能够根据旋转喷嘴的旋转，在敞开喷出口的喷出允许范围、和与喷出口对置而封堵喷出口的喷出停止范围之间进行切换。
冷却液供给装置以及机床

[发明专利]液滴喷出头及液滴喷出装置-CN200710086380.5无效
发明人：高桥隼人;酒井真理 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2007-03-15 - 公布日： 2007-09-19 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明的液滴喷出头具备：第一驱动部(32)；和与所述第一驱动部连接的基体(33、34)，所述基体具有：第一收纳室(30)、第一喷出口(40)、连通所述第一收纳室与所述第一喷出口的第一贯通部(4)，在所述第一喷出口的边缘从而本发明涉及的液滴喷出头及液滴喷出装置可以提供一种可以检测异物是否附着在喷出口等的结构，通过防止所喷出的液滴的飞行弯曲，从而可以提高液滴的喷出精度。
喷出装置

[发明专利]基板处理方法-CN201780005350.9有效
发明人：尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-01-18 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理方法，包括：液膜形成工序，在基板的上表面形成厚度比图案的高度厚的处理液的液膜，喷出口配置工序，以使第一喷出口朝向基板的上表面中的包括旋转中心的规定的第一区域，且使第二喷出口朝向基板的上表面中的包围第一区域的外侧的规定的第二区域的方式，配置第一和第二喷出口，第一喷出工序，从所述第一喷出口喷出含低表面张力液体的气体且从所述第二喷出口不喷出所述含低表面张力液体的气体，所述含低表面张力液体的气体含有比重比空气大且表面张力比所述处理液低的低表面张力液体的蒸汽，以及第二喷出工序，在所述第一喷出工序后，从所述第二喷出口喷出所述含低表面张力液体的气体，并且从第一喷出口不喷出所述含低表面张力液体的气体。
处理方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201710373089.X有效
发明人：尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法，不仅能将基板的上表面中央部与相对面之间，还能将基板的上表面外周部与相对面之间使用处理液良好地填满，由此能够对基板的上表面实施均匀的处理液处理，该装置包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平，一边使基板以通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线为轴旋转；相对构件，具有与基板的上表面相对的相对面；处理液喷出单元，包括中央部喷出口和外周部喷出口，中央部喷出口在相对面与基板的上表面中央部相对地开口，外周部喷出口在相对面与基板的上表面外周部相对地开口，从中央部喷出口喷出处理液来向基板与相对面之间供给处理液，并且，从外周部喷出口喷出处理液来向基板与相对面之间补充处理液。
处理装置方法

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