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[实用新型]一种含防水层的光栅复制装置-CN201520654105.9有效
发明人：林新佺 -专利权人：深圳市激埃特光电有限公司
申请日： 2015-08-27 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型公开一种含防水层的光栅复制装置，属于复制光栅技术领域。包括母光栅，所述母光栅包括母光栅基片、粘结在母光栅基片上的胶层以及镀合在胶层上的铝膜层，其特征在于，还包括用于将母光栅和复制光栅分离的防水层，所述防水层分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层上；所述母光栅可以是平面形或凹面形；所述母光栅的刻槽的横截面形状是锯齿形或正弦形，所述防水层为匹配刻槽的锯齿形或正弦行；所述母光栅的刻槽的深宽比为0.1～0.5；所述防水层的厚度为0.1～0.25μm；所述防水层对复制光栅的胶层的粘附力本实用新型与现有技术相比，其有益效果在于将母光栅和复制光栅分离，使复制光栅不粘在母光栅上，提高加工投入产出比和加工效率。
一种防水层光栅复制装置

[发明专利]一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法-CN200810102683.6无效
发明人：周倩;李立峰 -专利权人：清华大学
申请日： 2008-03-25 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法，属于光栅制作技术领域。加工制作凹面光栅基底；加工制作凸面母光栅基底；在凸面母光栅基底的工作面上旋涂感光材料；采用全息法曝光得到凸面光刻胶掩模光栅；显影，得到凸面光刻胶掩模光栅，即为光刻胶母光栅。对光刻胶母光栅进行光栅的复制；或对显影后得到的光刻胶凸面光栅进行离子束刻蚀，复制；制作出与此凸面母光栅相对应的凹面光栅。本发明避免了直接在凹面基底上进行离子束刻蚀的难题，在保证良好的成像质量的前提下，可以实现对最终产品凹面光栅槽型的精确控制。同时，凸面母光栅可以大量复制制作子代凹面光栅，非常适合于工业化生产。
一种凸面基底直接制作光刻光栅方法

[发明专利]θ调制全息光栅的制作方法-CN200910014173.8无效
发明人：仲明礼;仲伟路 -专利权人：潍坊学院
申请日： 2009-02-18 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种θ调制全息光栅的制作方法，其步骤为：将一块θ调制全息光栅作为母光栅，母光栅放置于4F光学系统的物平面，根据母光栅的频谱制作滤波器，在4F光学系统的像片面放置感光底片，进行曝光，然后显影、定影、吹干、边框制作等处理，完成θ调制光栅制作；采用4F光学系统和空间滤波技术，对感光底片进行一次性曝光制作出θ调制全息光栅，适用于透射型母光栅和位相型母光栅，能滤除母光栅的瑕疵；本发明简便快速、容易实现
调制全息光栅制作方法

[发明专利]光栅波导模具及其制造方法、光栅波导及近眼显示设备-CN202211660266.X在审
发明人：罗润秋;赵谊华;谢李鹏;虎良可;胡海峰;宋强;马国斌 -专利权人：深圳珑璟光电科技有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：本发明公开一种光栅波导模具及其制造方法、光栅波导及近眼显示设备，所述光栅波导模具的制造方法包括：制作母模，母模包括基底，使基底表面形成有光栅结构；对所述母模进行注塑倒模，得到所述光栅波导模具，所述光栅波导模具用于制作出与所述母模结构一致的光栅波导，本发明技术方案能够提高光栅波导的制作良率，简化光栅波导的制作工艺，提高光栅波导的制作效率。
光栅波导模具及其制造方法显示设备

[发明专利]一种中阶梯光栅的复制方法-CN201310085578.7有效
发明人：李柏承;黄元申;韩姗;徐邦联;凌进中;王琦;张大伟;陈忠涛 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2013-03-16 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种中阶梯光栅的复制方法，包括以下步骤：a.将母光栅装在真空镀膜机中，通过毛细吸管定标精确控制硅油的用量，在电极上加上硅油和铝丝，将蒸发电极的位置改到真空镀膜机底板中间，确定修正板的形状与位置，安装晶控膜厚监测仪；b.当达到第一真空度时，对母光栅进行镀油；c.油镀好后继续抽真空，当达到第二真空度时，对已镀油母光栅进行镀铝d. 将已镀铝母光栅送入烘箱中保温；e.将胶粘剂去气泡并放到烘箱中预热；f.将处理完成的胶粘剂滴到已镀铝母光栅表面，再将已清洁处理好的光栅毛坯压到胶黏剂上，接着将压块压到光栅毛坯上，并送入烘箱保温；g.移除母光栅和压块，得到中阶梯光栅。
一种阶梯光栅复制方法

[发明专利]一种介质膜光栅的制作方法-CN201210105951.6有效
发明人：林磊;黄富泉;周孝莲;代会娜;李广伟;张新汉 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及光栅制作技术领域，公开了一种介质膜光栅的制作方法，首先制作母光栅；然后采用镀膜沉积技术在母光栅的光栅面上镀介质膜层；之后利用热塑性粘结剂将一光栅基片粘结于介质膜层上；最后将母光栅与介质膜层分离，得到由光栅基片与介质膜层构成的介质膜光栅；其中，在镀膜沉积过程中，通过控制和改变膜料的沉积方向和沉积速率，在母光栅的光栅面上形成周期倒梯形结构的介质膜层。本发明通过控制膜料沉积方向和速度，来控制介质膜光栅的膜层结构及厚度，避免了一些硬质膜系材料的刻蚀，同时可以实现较深凹槽深度的介质膜光栅的制作，适用于全息光栅的复制，有利于增加膜层结构的设计及控制光栅衍射效率，提高了光栅制作效率。
一种介质光栅制作方法

[发明专利]一种大尺寸柱镜光栅制作方法-CN200810239049.7有效
发明人：武延兵;顾开宇;魏伟 -专利权人：北京超多维科技有限公司
申请日： 2008-12-05 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸柱镜光栅制作方法，包括：步骤一：通过至少一块第一柱镜光栅母模及光固化胶在一块基板上生成至少一块第一柱镜光栅子模；步骤二：当步骤一中在基板上生成的第一柱镜光栅子模仅为一块时，采用相同的固化胶，并用与第一柱镜光栅母模规格相同的柱镜光栅作为母模对第一柱镜光栅子模进行拓宽；当步骤一中在所述基板上生成的第一柱镜光栅子模为至少两块时，用相同的光固化胶填充每两块第一柱镜光栅的间隙，并以第一柱镜光栅母模为母模使每两块第一柱镜光栅子模间隙处的光固化胶成形并固化，以使每两块第一柱镜光栅子模相连接。该方法操作简单，可制作的柱镜光栅的折射率可选范围大，制作出的柱镜光栅的表面精度高，均匀性好。
一种尺寸光栅制作方法

[实用新型]双光栅组同步驱动正弦机构-CN201220442388.7有效
发明人：张晓丽;孙金龙 -专利权人：北京普析通用仪器有限责任公司
申请日： 2012-08-31 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双光栅组同步驱动正弦机构，所述第一正弦臂组的上端与锁紧母组相连接，第一正弦臂组的下端与第一单色器光栅固定连接，第二光栅台组由第二单色器光栅和第二正弦臂组组成；第二正弦臂组的上端与丝母组相连接，第二正弦臂组的下端与第二单色器光栅相连接，弹性拉簧的一端与第一正弦臂组相连接。本实用新型是用同一个电机驱动两组光栅，从而使得两组光栅分光同步、精度高、效果好，两个光栅得到的是光能量叠加，实现光能亮更高的单色光；该结构是由丝杆与丝母配合连接后放置在支撑架上，步进电机驱动丝杆转动使丝母在丝杆上平稳移动，丝母另一端带动滑杆平稳移动，带动两个杠杆在两个光栅轴心同时转动，而实现光栅同步分光效果。
光栅同步驱动正弦机构

[实用新型]复制光栅的分离夹具-CN201220209695.0有效
发明人：李亭;黄元申;李柏承;吴叶华;张大伟;周晟;凌进中;杨惠芳;王琦 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2012-05-10 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种复制光栅的分离夹具，包括：工作台(1)用于放置母光栅(11)；真空泵装置(17)与所述工作台(1)连接，用于将所述母光栅(11)固定于所述工作台(1)上；复制基坯(12)设置于所述母光栅本实用新型将人工分离和机械方法巧妙地结合在一起，对母光栅(11)和复制基坯(12)采用分离固定的方式，避免了刮削时留下的灰印和损伤光栅表面，对于各种基底材料的平面光栅都适于分离。
复制光栅分离夹具

[发明专利]光栅尺真空复制曝光设备-CN201310606188.X有效
发明人：李小虎;黄剑波;李英志;孙强;王鹤;王尧;陈璐 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2013-11-25 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光栅尺真空复制曝光设备属于光栅尺制造工艺领域，目的在于解决光栅尺曝光过程中存在的压紧力不均匀以及光栅尺变形的问题。本发明的光栅尺真空复制曝光设备包括工作台、曝光光源、移动滑台、定位组件、侧面压紧组件、翻转组件和密封组件；母尺放置于工作台上，工作尺位于母尺上，通过定位组件和侧面压紧组件实现工作尺和母尺在工作台上的定位；母尺四周侧面的下边沿处涂密封胶；翻转组件与密封组件相连，通过翻转组件将密封组件压紧在工作台上形成一密封腔，对密封腔抽真空，通过大气压的作用实现母尺和工作尺的压紧；曝光光源固定在移动滑台的滑块上，在沿母尺长度方向做扫描运动的过程中，实现光栅尺的曝光复制。
光栅尺真空复制曝光设备

[发明专利]一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅制备方法及产品-CN201310131516.5无效
发明人：陈鑫;赵建宜;王磊;周宁;刘文 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2013-04-16 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅的制备方法及产品，属于图像压印技术领域。具体为：将硬模板上的目标光栅图形转移到软模板，在基片上制备压印胶层；将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层，通过压强大小控制软模板的倾斜度从而控制母闪耀光栅的闪耀角，进而刻蚀得到母闪耀光栅；在母闪耀光栅上沉积硬掩膜层；在硬掩膜层上制备压印胶层；将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层上，通过压强大小来控制软模板的倾斜度从而控制子闪耀光栅的闪耀角，进而刻蚀得到子闪耀光栅，制备得到双闪耀光栅。本发明通过控制转移软模板上图案到基片的过程中的压强，得到具有不同闪耀角的闪耀光栅，保证光栅质量的同时降低了成本。
一种可变闪耀光栅制备方法产品

[发明专利]一种复制光栅胶合固化一体系统-CN201810436991.6在审
发明人：梁万国;李广伟;张新汉;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 -专利权人：中国科学院福建物质结构研究所
申请日： 2018-05-09 - 公布日： 2018-10-19 - 主分类号： F16B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种复制光栅胶合固化一体系统，具有提高工作效率、批量操作的优势，其技术方案要点是包括用于对镀金后的母光栅进行点胶的点胶工作台、用于将复制基坯正对覆盖在母光栅上的上料机械手、对复制基坯进行位置校正的校正工作台、以及用以传输母光栅的传输装置，校正工作台上设置有安装座和真空泵装置，真空泵装置用于将所述母光栅固定于安装座上；校正工作台上设置一对夹板，一对所述夹板与所述复制基坯的两侧相平行，用于夹住所述复制基坯。
复制母光栅基坯校正胶合真空泵装置光栅夹板一体系统安装座工作台点胶固化技术方案要点上料机械手传输装置工作效率批量操作位置校正正对镀金平行传输覆盖

[发明专利]一种制备周期减半的亚微米光栅的方法-CN202110122787.9有效
发明人：张登英;邢文强;张立春;赵风周;李锦绣;郭安琪 -专利权人：鲁东大学
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，涉及光学、微细加工、先进制造等领域，它解决了现有的光栅复制技术只能进行1:1光栅复制的问题，本发明利用一块亚微米母光栅制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明的方法为：首先制备出亚微米母光栅的PDMS软模板，同时在干净的基片上制备出所要使用的材料薄膜；然后将亚微米母光栅的PDMS软模板与准备好的材料薄膜紧密贴合，再将两者整体置于加热板上加热5分钟，加热温度要高于所用薄膜材料的玻璃化转变温度；最后将两者从加热板上取下并冷却至室温，分离基片和PDMS软模板，便在基片上制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明适用于亚微米光栅的制备领域。
一种制备周期减半微米光栅方法

[发明专利]一种紫外胶光栅的制作方法-CN201710133514.8有效
发明人：梁万国;李广伟;张新汉;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 -专利权人：福建中科晶创光电科技有限公司
申请日： 2017-03-08 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种紫外胶光栅的制作方法，包括以下依序进行的步骤：S1：采用全息技术制得玻璃基底的母光栅；S2：在母光栅上镀膜沉积金属膜层，调整镀膜速率为15nm/min，镀膜时间为6min，然后将0.5ml紫外固化胶均匀涂布在镀膜后的母光栅上形成紫外固化胶层，取一片清洁干净的6mm的子光栅基片，盖在紫外固化胶层上，并轻轻按压，将多余的紫外固化胶排出，待紫外固化胶不再排出时，进行紫外固化，调整紫外线光源的功率为1mW，控制固化时间为2小时；S3：将母光栅和子光栅基片进行分离，形成带有金属膜层以及紫外固化胶层的子光栅基片；S4：将分离后的子光栅基片放入离子束刻蚀装置中，调整离子源产生离子束流与刻蚀机载片台之间的角度为
一种紫外光栅制作方法

[其他]铸造光栅方法及铸造光栅-CN85100175无效
发明人：陈旃 -专利权人：电子工业部第十二研究所
申请日： 1985-04-01 - 公布日： 1988-03-02 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及闪耀光栅制造方法及产品。本发明所述的铸造光栅方法，是一种可以解决机刻问题的二次复制法，它是以机刻闪耀光栅为母，先复制出许多塑料模板，再将模板经过镀金属膜和电铸加厚，铸出全金属的复制光栅，即铸造光栅。它具有与母光栅相同的闪耀特性，以及良好的耐热和导热性能。不仅可以用于光谱仪器中。而且可以代替机刻光栅用于大功率密度的激光器中，这是其他复制方法所难以做到的。
铸造光栅方法

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