专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]投影设备校正方法、装置及投影设备-CN201711315231.1有效
  • 钟波;肖适;刘志明;宁仲 - 成都极米科技股份有限公司
  • 2017-12-12 - 2020-05-19 - H04N9/31
  • 本发明实施例提供一种投影设备校正方法、装置及投影设备。所述投影设备校正方法包括:获取测试投影设备在指定状态下对应的指定状态信息,所述指定状态包括所述投影仪的光机垂直于投影面的状态;获取待校正投影设备的摄像头在初始状态拍摄的投影像的第一位置信息,通过所述指定状态信息将所述投影像进行变换得到第二位置信息,并根据两个位置信息计算得到待校正投影设备的投影像的三维坐标信息;根据所述三维坐标信息计算得到所述投影像对应的投影平面的法向量;根据所述法向量与所述待校正投影设备的摄像头的光轴计算得到校正角度;根据所述校正角度对所述待校正投影设备进行校正
  • 投影设备校正方法装置
  • [发明专利]一种数据中心机房管理方法及装置-CN202010051536.1在审
  • 李俊山;张振宇 - 苏州浪潮智能科技有限公司
  • 2020-01-17 - 2020-05-08 - G06K9/46
  • 本发明涉及了一种数据中心机房管理方法及装置,其中该方法包括:接收柜门内侧的视频采集装置采集的机柜的正投影像;识别正投影像中的机柜的各个U标及各个U标对应的U位区域的图形,并根据各个U位区域的图形生成设备分布表;基于设备分布表分别截取正投影像中的各个U位的各个设备的图形,并根据各个设备的图形生成设备型号分布表;基于正投影像和设备型号分布表通过识别指示灯状态判断相应设备的运行状态;基于正投影像和设备型号分布表通过识别指定位置的颜色判断具有可位移物体且无指示灯的设备的运行状态
  • 一种数据中心机房管理方法装置
  • [发明专利]一种几何校正方法、图像重建方法及装置-CN202210133968.6在审
  • 赵明;李训青;李磊 - 深圳康桥软件技术有限公司
  • 2022-02-14 - 2022-05-13 - G06T5/00
  • 本申请提供了一种几何校正方法、图像重建方法及装置,所述几何校正方法包括:获取标记物的空间坐标、亮场图像集合和暗场图像集合,以及所述探测器的余辉校正参数和坏点校正参数;所述亮场投影像集合和所述暗场投影像集合的投影角度相同;依据所述亮场图像集合、所述暗场图像集合、所述余辉校正参数和所述坏点校正参数,确定所述标记物的校正投影像;依据所述校正投影像,确定所述标记物在所述校正投影像中的投影坐标;依据所述空间坐标和所述投影坐标,确定所述探测器在所述投影角度下的几何校正参数。
  • 一种几何校正方法图像重建装置
  • [发明专利]投影屏幕-CN201610093515.X有效
  • 简宏达;苏方旋;许富强 - 台湾扬昕股份有限公司
  • 2016-02-19 - 2020-05-26 - G03B21/625
  • 本发明公开了一种投影屏幕,其包括基板、多个菲涅耳结构以及保护层。这些菲涅耳结构位于基板朝向影像源侧的表面上且沿第一方向排列,每一菲涅耳结构往第二方向延伸。保护层具有朝向影像源侧的第一表面,第一表面具有多个光学微结构,这些光学微结构正投影于参考平面并在参考平面上对应地形成多个正投影案,每一正投影案具有大体上相互垂直的第一轴与第二轴。每一正投影案的第一轴通过在第一方向上最大距离的两端点,每一投影案的第二轴通过在第二方向上最大距离的两端点,每一正投影案对称于第一轴以及第二轴两者至少其中之一。本发明的保护层有效地保护这些菲涅耳结构,因此投影屏幕具有良好的可靠度。
  • 投影屏幕
  • [发明专利]散射校正方法、计算机设备及成像系统-CN202210784488.6在审
  • 刘达林;闫浩 - 西安大医集团股份有限公司
  • 2022-06-29 - 2022-11-01 - G06T11/00
  • 本申请公开了一种散射校正方法、计算机设备及成像系统,该方法包括:获取射线通过光束阻挡阵列及目标对象形成的所述目标对象的待校正投影像,所述待校正投影像中包括所述光束阻挡阵列中多个光束阻挡件对应的多个阴影区域;根据所述待校正投影像中多个阴影区域的散射采样数据,对所述待校正投影像进行散射校正,生成散射校正阴影图像,所述散射校正阴影图像中包括所述多个阴影区域;利用预先训练得到的阴影补全模型对输入的所述散射校正阴影图像中的所述多个阴影区域进行补全
  • 散射校正方法计算机设备成像系统
  • [发明专利]一种密封圈厚度测量装置及方法-CN201910298214.4有效
  • 雷自力;王杰;刘晓军;赵丽 - 华中科技大学
  • 2019-04-15 - 2020-05-19 - G01B11/06
  • 其包括光源模块、内外径定焦成像模块、高度定焦成像模块和计算模块,光源模块包括调角器、水平安装在调角器上方的背光源以及垂直安装在背光源一侧的条形光源;内外径定焦成像模块设于背光源的正上方,其用于获取密封圈的正投影;高度定焦成像模块设于背光源的另一侧,并与条形光源相对,且其轴线与内外径定焦成像模块的轴线垂直,该高度定焦成像模块用于获取密封圈的侧投影;计算模块用于根据正投影和侧投影计算获得密封圈的厚度。
  • 一种密封圈厚度测量装置方法
  • [发明专利]一种基于特征点的投影变形校正方法及系统-CN201510111898.4在审
  • 张斌;贠远;李志栋;史璐莎;田小二 - 中国科学院空间应用工程与技术中心
  • 2015-03-13 - 2015-07-01 - H04N5/74
  • 本发明涉及一种基于特征点的投影变形校正方法及系统,包括对投影幕进行精准测量,根据投影幕形状,在投影幕上标记相应数量的投影幕特征点;向投影幕投射图像,并将投影像调整至略大于投影幕的边界;用鼠标点击投影幕上标注的投影幕特征点的位置,记录相应的映射点的位置坐标;将映射点的位置坐标与投影像上相应位置的投影像特征点进行比对,根据预定算法计算得到映射拟合系数;根据拟合系数实现投影像的精细几何校正,得到校正投影像,将校正投影像投射到投影幕本发明以投影幕作为校正基准,配准精度高,可以获得最大限度的观看者良好视觉范围,所述方法简便快捷,对于使用过程中的微小变形可以随时校正,保证投影质量。
  • 一种基于特征投影变形校正方法系统
  • [发明专利]地理数据的收集,分析,测量和存储方法-CN95193407.4无效
  • 沃尔弗勒姆·基尔赫纳 - 沃尔弗勒姆·基尔赫纳
  • 1995-05-10 - 1997-05-14 - G01C11/00
  • 本发明涉及地理信息的收集、分析、测量和存储,其目的是提供根据实际需要的数据处理,使数据可以简单的方式被大、中、小规模的用户中心使用,并通过对以数字方式收集的地形、规划、地产数据或土地登记的交互式的叠加本发明中,被测区域1通过飞机2被摄影,飞机的空间位置通过卫得3及其信号来确定(DGPS);接着,在第4步后通过数据分析导出或计算出数字高度模型4,由被测区域1和数字高度模型4,以及飞机2在摄影时间的投影中心的已知位置,通过模拟空中图像或数字空中图像的数字变换建立正投影5,该正投影通过数据存储体供可能的用户使用。这样,该可能的用户可以根据他作为委托人所规定的任务和所需做出的决定,为数字正投影5附加一矢量或折线图6。并进行相应的分析利用。
  • 地理数据收集分析测量存储方法

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