专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金属量子点核壳异质材料及其制备方法-CN202010931831.6在审
  • 梁凯旋;蒋畅 - 合肥福纳科技有限公司
  • 2020-09-07 - 2020-11-27 - C09K11/02
  • 本申请涉及半导体纳米材料领域,具体而言,涉及一种金属量子点核壳异质材料及其制备方法。金属量子点核壳异质材料的制备方法,包括:将金属盐、油胺和有机磷溶于有机溶剂中得到第一混合液;对第一混合液进行加热分散,并排除第一混合液中的水和氧;在保温的状态下,向第一混合液中加入硫醇、硫化亚铜胶体反应采用金属盐形成金属量子点核壳异质材料,由于形成了核壳结构提高了抗水氧能力,稳定性大大提高;通过调节金属离子与量子点中金属离子之间的阳离子交换,利用金属离子局域表面等离子体激元增强效应,有效提高了载流子的复合效率
  • 金属量子点核壳异质结材料及其制备方法
  • [发明专利]一种异质背接触太阳能电池及其形成方法-CN202010523672.6在审
  • 陶科;姜帅;贾锐;金智;刘新宇 - 中国科学院微电子研究所
  • 2020-06-10 - 2020-10-20 - H01L31/0747
  • 本发明公开了一种异质背接触太阳能电池及其形成方法,异质背接触太阳能电池包括但不限于半导体衬底、第一钝化层及异质。第一钝化层形成于半导体衬底的背表面上,异质可形成于第一钝化层背面,异质包括N型掺杂硅薄膜和P型掺杂硅薄膜,N型掺杂硅薄膜与P型掺杂硅薄膜沿垂直方向上形成叠层结构。该异质背接触太阳能电池的形成方法包括:在半导体衬底的背表面上形成异质异质包括依次形成的N型掺杂硅薄膜和P型掺杂硅薄膜,其中,N型掺杂硅薄膜与P型掺杂硅薄膜沿垂直方向上形成叠层。本发明能够在不降低电池效率的前提下有效降低异质背接触太阳能电池的生产成本,而且本发明光能转换效率比较高。
  • 一种异质结背接触太阳能电池及其形成方法
  • [发明专利]二维材料异质热电器件及其制备方法-CN202210158039.0在审
  • 易典;王荣福 - 深圳市汉嵙新材料技术有限公司
  • 2022-02-21 - 2022-05-24 - H01L35/34
  • 本发明公开了一种二维材料异质热电器件的制备方法及二维材料异质热电器件。该二维材料异质热电器件的制备方法包括如下步骤:在基材上形成二维材料异质,二维材料异质由包括两种不同的二维层状材料的原料经层叠形成;在基材上形成遮蔽二维材料异质的光刻胶,光刻胶为电子束敏感的光刻胶;采用电子束照射光刻胶的预设区域,形成暴露部分二维材料异质的蚀刻开口;通过蚀刻开口对二维材料异质进行刻蚀;过蚀刻开口制备金属电极;及去除光刻胶。上述制备方法能够实现在尺寸较小的二维材料异质之间形成金属电极,该金属电极可以用作触点并进一步通过引线电连接于外部的测试电路。
  • 二维材料异质结热电器件及其制备方法
  • [发明专利]微米/纳米ZnFe2-CN201911186487.6在审
  • 贾军宝 - 广州市豪越新能源设备有限公司
  • 2019-11-28 - 2020-04-17 - B01J23/80
  • 本发明涉及一种光催化微米/纳米ZnFe2O4‑TiO2异质复合涂层的制备方法、由上述方法制备的异质复合涂层及其在光催化降解有机污染物中的应用。base:Sub>含量可调节的具有多孔、微米/纳米结构的ZnFe2O4‑TiO2异质复合涂层本发明无需繁琐的提前靶材制备工序,制备得到的微米/纳米异质结构材料同时具有多孔结构;在感应等离子喷涂过程中通过调节两者液料输送速度来控制ZnFe2O4‑TiO2异质复合涂层中ZnFe2O4的含量
  • 微米纳米znfebasesub
  • [发明专利]一种异质、铁电隧道及其制备方法和应用-CN201310258989.1有效
  • 杨锋;胡广达;武卫兵;杨长红;吴海涛 - 济南大学
  • 2013-06-26 - 2013-10-09 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种异质,包括衬底和在衬底上外延生长的一层铁电薄膜,所述衬底为n型或p型掺杂硅半导体,所述铁电薄膜为SrTiO3薄膜。本发明还公开了一种铁电隧道,包括上述异质,所述异质的铁电薄膜表面覆有上电极,异质的铁电薄膜作为铁电隧道的势垒层,异质的衬底作为铁电隧道的下电极。本发明还公开了它们的制备和应用。本发明异质结实现了钛酸锶与非本征硅的直接外延生长,表现出了稳定的极化翻转特性,制成隧道可电调制势垒的高度而且可电调制势垒的宽度,从而大大提高了隧道电阻。
  • 一种异质结隧道及其制备方法应用

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