专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种机的台盘治具-CN202222043861.0有效
  • 茹伟 - 浙江华远微电科技有限公司
  • 2022-08-04 - 2022-10-28 - H01L21/67
  • 一种机的台盘治具,包括台盘本体,还包括第一放置槽,所述第一放置槽开设在所述台盘本体的中心;第一吸附部,所述第一吸附部沿所述第一放置槽边缘设置,用于固定的边缘;第二放置槽,所述第二放置槽为圆形且设在所述第一放置槽底部,所述第二放置槽和所述第一放置槽的圆心重合;第二吸附部,所述第二吸附部设置在所述第二放置槽底部,用于对进行辅助固定;取放口,所述取放口和所述第一放置槽连通。本实用新型在结构简单,易于时的取放、定位,减少了完成后拿起切割环时可能造成的裂片风险,更有利于减少台盘对表面(包括植的金球、锡球等凸点)造成的损伤。
  • 一种晶圆贴膜机台盘
  • [发明专利]一种刻蚀清洗设备及方法-CN202211513686.5在审
  • 方铭国;张少波 - 深圳泰研半导体装备有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-03-03 - H01L21/3065
  • 本发明涉及刻蚀的技术领域,特别是涉及背面减薄金属化工艺的一种刻蚀清洗设备及方法,其提高镀膜层粘附性,减少变形量;包括以下步骤:步骤1、对无需金属镀膜的正面进行保护;步骤2、对需要金属镀膜的背面进行研磨;步骤3、通过真空等离子对研磨后的背面进行刻蚀,使背面表面粗糙化,同时降低应力;步骤4、对刻蚀后的进行清洗;步骤5、将清洗后的晶面正面保护揭除;步骤6、对刻蚀清洗后的背面进行金属镀膜。
  • 一种刻蚀清洗设备方法
  • [发明专利]用覆装置-CN201811624489.4有效
  • 黄晓波;罗云红 - 安徽龙芯微科技有限公司
  • 2018-12-28 - 2020-08-21 - H01L21/683
  • 本发明涉及芯片加工领域,具体公开了用覆装置,包括覆底座,覆底座上设有用于固定待覆的固定槽,固定槽的外围设有一圈与固定槽同心设置的环形槽;覆底座的上方设有覆膜机构,覆膜机构包括中部的伸缩套筒,伸缩套筒的顶部设有水囊,伸缩套筒的底部设有滴水孔,伸缩套筒上铰接有多个可沿中部径向滑动的挤压组件,挤压组件与伸缩套筒之间活动连接有限位驱动件。本发明解决了现有技术中对过程中存在的容易出现气泡的问题。
  • 晶圆用覆膜装置
  • [发明专利]一种半导体装置及其方法-CN202211045692.2在审
  • 陆金发 - 江西安芯美科技有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-12-02 - B29C63/02
  • 本发明涉及集成电路封装技术,尤其涉及一种半导体装置及其方法,包括工作台,所述工作台上设有传送机构,所述传送机构上设有若干载料板,所述载料板上置有,所述工作台上还设有覆箱,所述工作台的前后两侧设有送组件和收组件,还包括控制器,所述控制器用于控制传送机构驱动载料板朝右移动并穿过覆箱;所述覆箱内设有覆组件,所述覆组件包括撑筒和环切罩,所述环切罩套在撑筒上并与撑筒外壁保持一定间距,所述覆箱上设有用于分别驱动撑筒及环切罩上下移动的第一驱动气缸和第二驱动气缸,所述撑筒的半径大于的半径,所述覆箱内的薄膜到的距离为2mm~6mm。
  • 一种半导体晶圆贴膜装置及其方法
  • [实用新型]传送装置-CN201220269060.X有效
  • 廖明俊;赵亮;孙俊杰;蒋秦苏 - 矽品科技(苏州)有限公司
  • 2012-06-08 - 2013-04-24 - H01L21/677
  • 本实用新型提供了一种传送装置,包括底座和设置在所述底座上的支架,在所述支架上装设有用于夹取和传送薄片的机械手,所述传送装置还包括一热风机。本实用新型通过在传统的传送装置中增加热风机,热风机由下向上朝位于热风机上方的薄片吹热风,使绷在铁片上的,避免传送薄片进入机台的缝隙入口时划伤
  • 传送装置
  • [发明专利]一种集成电路芯片生产的防损坏片的装置-CN202011011743.0在审
  • 刘亚刚;陈永宁 - 刘亚刚
  • 2020-09-23 - 2020-12-08 - B65B33/02
  • 本发明公开了一种集成电路芯片生产的防损坏片的装置,包括支撑箱,还包括设置在支撑箱上的进料机构,进料机构一侧设置有机构,机构一侧设置有分离机构,位于机构、分离机构两侧设置有移机构,进料机构、机构、分离机构下侧贯穿设置有移动机构,移动机构设置在支撑箱内。本发明通过移动机构的夹紧气缸对硅进行夹紧,在支撑盘支撑移动下,逐步通过机构的覆压、分离机构对薄膜的分离,以及在分离机构的切刀对薄膜进行切离时通过转动的压轮对硅上的薄膜进行再次压紧,提高了覆的质量,使保护与硅贴合更加均匀平整。
  • 一种集成电路芯片生产损坏晶圆片装置
  • [发明专利]一种转帖设备-CN202010228364.0在审
  • 薛超 - 南通通富微电子有限公司
  • 2020-03-27 - 2020-08-04 - H01L21/67
  • 本申请公开了一种转帖设备,包括:第一转帖台盘;滚轮,滑动设置在所述第一转帖台盘上方,蓝切割组件,所述蓝切割组件设置在所述第一转台盘的上方,所述蓝切割组件可以在靠近所述第一转台盘的位置和远离所述第一转帖台盘的位置转换,用于沿子母环的轮廓切割蓝;搬运单元,所述搬运单元用于将所述第一转帖台盘上的搬运至第二转帖台盘,并向下按压使蓝牢固粘贴;本发明提供的一种转帖设备结构简单、操作便捷、设备运行稳定、维护简单、成本低廉,工作时,只需要人工上下料,即能完成对的转帖,取代了纯手工操作,很大程度上降低了人工操作的风险,从而保证了的转帖质量,大大提高了生产效率。
  • 一种晶圆转帖设备
  • [发明专利]一种背减薄方法及所使用的圆形治具-CN201611128498.5有效
  • 曹雪平;刘魁;徐忠良 - 和舰科技(苏州)有限公司
  • 2016-12-09 - 2020-12-15 - H01L21/304
  • 本发明提出一种背减薄方法,其包括以下步骤:放置圆形治具、、切割胶带背面研磨、移至卡盒、背面酸法蚀刻、撕背面金属沉积。本发明还进一步公开了一种用于背减薄方法中的圆形治具,该圆形治具为中空环状结构,并分为上部和下部,且该圆形治具具有一个缺口。采用本发明中背减薄方法,可以实现研磨区域的精细控制,同时简化减薄流程,圆形治具可以精确控制胶带超出边缘1‑2mm,有助于避免在后续传输转运和酸蚀刻过程中由于接触载具造成的破片问题。
  • 一种晶背减薄方法使用圆形
  • [发明专利]一种减薄研磨用装置-CN202310381771.9在审
  • 张宝芳;石坤;苏梦媛;岳希宝 - 安徽积芯微电子科技有限公司
  • 2023-04-11 - 2023-07-11 - B65B33/02
  • 本发明公开了一种减薄研磨用装置,包括:支架;载物台,设置在支架顶部,载物台上开设有开口,开口处还滑动连接有抬升架;伸缩组件,安装在支架顶部位于载物台下方;平台,设置在载物台上方,平台内开设有凹槽,平台内位于凹槽处开设有第一孔洞,第一孔洞直径与载物台直径相同;切割件,安装在平台上,切割件为环形,切割件的内径与的外径相同;,铺设在凹槽与切割件之间;压装置,设置在的上方。载物台可将携带进行移动并且升降,当移动到平台底部并进行抬升并覆后,继续抬升的时候边上多余的会与环形的刀头碰触,从而刀头将多余的一次性的进行切除。
  • 一种晶圆减薄研磨用贴膜装置
  • [发明专利]一种用于中多种兼容的装置-CN202210227742.2在审
  • 王孝军;范亚飞 - 允哲半导体科技(浙江)有限公司
  • 2022-03-07 - 2022-05-06 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种用于中多种兼容的装置,包括外壳,外壳的内部安装有绕机构,绕机构包括安装在外壳侧壁上的新固定轴,新固定轴的一侧下方安装有第一滚轮,第一滚轮的下方一侧安装有第二滚轮,第二滚轮的下方一侧安装有第五滚轮该用于中多种兼容的装置中,通过多组滚轮的设计,可以兼容多种装置,本装置既可以使用普通兰,也可以使用UV,还可以使用预切割和DAF,使一条生产线只需要1台装置就可以完成不同产品使用不同切割的切换,同时简化了换的方式,节省了换的时间。
  • 一种用于晶圆贴膜中多种兼容装置
  • [实用新型]机构-CN201920343489.0有效
  • 谢军 - 广东思沃精密机械有限公司
  • 2019-03-18 - 2019-12-06 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种机构,包括第一压台、第二压台、压驱动机构、密封圈、真空泵、以及与真空泵相连的真空管;第二压台开设有真空孔,真空孔与真空管相通,真空孔位于密封圈的边界范围内。将待产品例如放置于第二压台上,再将干,放置于上,压驱动机构带动第一压台移动并与第二压台上的密封圈相抵接,真空泵通过真空管抽取第一压台与第二压台之间的空气,使得第一压台与第二压台之间形成接近真空的状态,此时压驱动机构可继续带动第一压台将干压紧,且由于第一压台与第二压台之间形成接近真空的状态,避免了干贴附于与干之间存在气泡。
  • 压膜晶圆密封圈真空管干膜驱动机构真空泵真空孔本实用新型贴膜机构台移动贴附贴膜压紧抽取相抵相通
  • [发明专利]一种半导体圆全自动一体机-CN202111647893.5在审
  • 张路华;李俊东 - 深圳市斯迈得半导体有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-04-22 - H01L21/67
  • 本发明属于半导体设备技术领域,公开了一种半导体圆全自动一体机,其技术要点是:包括工作台,所述工作台表面向内开设有腔,所述腔底壁向工作台内部固定安装有多组放置筒,所述放置筒内部设置有上料机构,所述上料机构包括有底板、挤压部与升降部,所述腔内壁之间设置有多组控制杆,所述控制杆表面安装有挤压辊,所述工作台表面安装有与控制杆相连接的摆动组件,所述放置筒开口处设置有限位机构,所述限位机构包括有伸缩部与卡接部,所述放置筒开口处设置有位于限位机构外侧的自动切组件,解决了现有的设备在过程中易在保护表面之间产生气泡影响质量,并且现有的设备需要人工对进行上料效率较低的问题。
  • 一种半导体圆全自动一体机

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