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- [发明专利]显影处理装置-CN200710160564.1无效
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上村一秀;野间比吕志
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富士通日立等离子显示器股份有限公司
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2007-12-25
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2008-07-30
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G03F7/30
- 本发明提供一种显影处理装置，该显影处理装置具有从显影液中除去在显影处理中产生的浮沫的功能。该显影处理装置具有储存显影液的显影罐，显影罐具有显影液流入部、泡累积部、浮沫除去部和显影液排出部。所述泡累积部，使得从所述显影液流入部流入的显影处理后的显影液中包含的泡(包含浮沫)的产生速度比所述泡的消失速度大，将所述泡累积在所述显影罐内。浮沫除去部在累积部中累积的包含浮沫的泡刚刚从显影罐中自然溢出时将其汇集起来，从所述泡除去所述浮沫。为了将除去浮沫后的显影液使用于显影处理中，显影液排出部从所述显影罐中排出所述显影液。
- 显影处理装置
- [发明专利]显影处理方法和显影处理装置-CN200910149129.8有效
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竹口博史;山本太郎;吉原孝介
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东京毅力科创株式会社
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2009-06-17
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2009-12-23
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G03F7/30
- 本发明提供一种显影处理方法和显影处理装置。所述显影处理方法是使被旋转卡盘(40)水平保持的晶片(W)旋转并向该晶片表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其中，在显影处理工序之前，进行预湿处理，在该预湿处理中，从位于旋转的衬底表面的中心附近的显影喷嘴(52)供给显影液(100)，同时从位于比显影喷嘴靠向晶片外周侧的位置的纯水喷嘴(53)供给作为第二液体的纯水(200)，由随着晶片的旋转而向衬底的外周侧流动的纯水形成壁(300)，利用该壁使显影液在衬底的旋转方向扩展由此，能够改善疏水化后的衬底上的抗蚀剂膜表面的润湿性，有效地形成显影液膜，并且能够实现显影处理的稳定化。
- 显影处理方法装置
- [发明专利]处理盒的再制作方法-CN00137021.9无效
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日下田明;角海祥介
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佳能株式会社
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2000-10-27
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2004-01-21
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G03G21/18
- 再制作处理盒的方法，包括下列步骤：制备使用过的处理盒的步骤，该处理盒包括调色剂显影容器、清洁器容器和销钉；将处理盒分解为调色剂显影容器和清洁器容器；从显影容器拆卸显影辊；从显影容器拆卸显影片；用密封件封闭调色剂显影容器的切开部分；将显影片及显影辊安装到具有安装有密封件的切开部分的调色剂显影容器上；将调色剂再填充入上述处理过的调色剂显影容器；和将调色剂显影容器与清洁器容器连接起来。这种再制作处理盒的方法简单，使得使用过的处理盒重新具有商用价值，能再用到电照相成像设备的主体上，并且运送处理盒时可避免调色剂泄漏。
- 处理制作方法
- [实用新型]包装和包装组件-CN200620003214.5无效
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神村直哉
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兄弟工业株式会社
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2006-02-28
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2007-08-29
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B65D5/50
- 一种包装，包括：用过的处理盒，该用过的处理盒包括容纳显影剂并形成有从中抽取残余显影剂用的显影剂抽取孔的显影剂容纳部，承载显影剂的显影剂承载构件，以及与显影剂容纳部相邻设置的显影部，显影剂承载构件设置于显影部中；容纳用过的处理盒并具有受到限制的取向的包装箱体；和容纳于包装箱体中、限制用过的处理盒在该包装箱体中移动的缓冲构件，其中该缓冲构件被构造成以这样的取向容纳用过的处理盒，即，显影剂承载构件垂直地位于显影剂抽取孔上方的取向与现有的显影剂承载构件水平地位于显影剂抽取孔一侧的取向相比，显影部中的显影剂能够完全流入显影剂容纳部中，减少了显影部中显影剂的残留量。
- 包装组件
- [发明专利]一种显影液处理装置-CN201810679597.5有效
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贺妍;孙德瑞;刘丹
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上海德迈世欧化工有限公司
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2018-06-27
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2021-11-19
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G03F7/30
- 本发明提供了一种显影液处理装置，用于光刻工艺中，所述显影液处理装置包括：显影液喷头，所述显影液喷头由喷头主体、主进液口、辅助进液口、主液腔、辅助液腔、主喷出口，辅助喷出口组成；处理腔室，所述处理腔室为圆桶状，所述显影液喷头安装在处理腔室的顶部中心；晶圆基台，所述晶圆基台用于固定待显影的晶圆，所述晶圆基台能够带动晶圆旋转，所述基台的上表面与显影液喷头的下表面具有特征的距离；显影液存储装置，所述显影液存储装置用于显影液的存储；显影液回收装置，设置在晶圆基台的下方，回收显影液；本发的明显影液处理装置的喷头所喷出的显影液在处理腔室中均匀分布。
- 一种显影液处理装置
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