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- [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN200710137308.0无效
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山冈英人;厨子卓哉;芳谷光明
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大日本网目版制造株式会社
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2007-07-20
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2008-01-30
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H01L21/00
- 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后,在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时,显影处理后,使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换,在该临时倾斜姿态的状态下,将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室然后,在洗净处理室(4)中,将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态,以进行洗净处理。
- 处理方法装置
- [实用新型]一种处理盒-CN202220947141.4有效
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周少程
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江西亿铂电子科技有限公司
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2022-04-23
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2022-09-23
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G03G15/08
- 本实用新型公开了一种处理盒,可拆卸的安装在电子照相成像装置中,所述处理盒包括:鼓框体;感光鼓,支撑在所述鼓框体上;显影框体,形成有显影室;显影辊,支撑在所述显影框体上并设置在所述显影室内;所述处理盒还包括避让孔和可形变部件,所述避让孔是形成在所述显影框体上的通孔,并能将所述显影室暴露在所述显影框体外部,所述可形变部件覆盖安装在所述避让孔上,当所述处理盒安装在所述电子照相成像装置中时,所述可形变部件可受到来自所述电子照相成像装置中的外力挤压
- 一种处理
- [发明专利]显影盒、处理盒和电子照相成像设备-CN201110134717.1有效
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桥本浩二
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佳能株式会社
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2007-12-11
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2011-08-31
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G03G21/18
- 本发明涉及显影盒、处理盒和电子照相成像设备。处理盒安装至电子照相成像设备的主组件,主组件包括鼓联接件、显影联接件和接触件,处理盒包括:显影联接部,包括固定在显影辊的一个轴向端上的从动部、中间部和驱动部;保持部,保持驱动部和能与驱动部一起沿显影辊的轴线方向移动;推动部,沿与显影辊的轴线相交的方向推动驱动部通过保持部;和抵接部,抵接由推动部推动的保持部,以便在处理盒沿着显影辊的轴向插入到电子照相成像设备的主组件中时,使驱动部与显影联接件接合。保持部包括接触部,接触部与接触件接触,从而在驱动部尚未与显影联接件建立接合关系时,由处理盒在与所述显影辊的轴线相交的方向上的运动导致的保持部的运动受到限制。
- 显影处理电子照相成像设备
- [发明专利]处理盒和电子照相成像设备-CN201110322324.3无效
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茶谷一夫;宗次广幸
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佳能株式会社
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2009-05-27
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2012-01-18
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G03G21/18
- 一种可拆卸地安装到电子照相成像设备主组件中的处理盒,包括:鼓单元,支撑电子照相感光构件并具有处理盒定位部,在处理盒安装到主组件中时处理盒定位部可与设在主组件中的主组件定位部接合;显影单元,支撑显影辊,该显影辊利用显影剂把形成在电子照相感光构件上的静电潜像显影,其中,显影单元可相对于鼓单元在显影辊与电子照相感光构件接触的接触位置和显影辊与电子照相感光构件分离的分离位置之间移动;和间隔保持构件,可在将显影单元保持在分离位置的接合位置和允许显影单元移动到接触位置的释放位置之间移动,其中,在处理盒安装到主组件中时,间隔保持构件通过由主组件定位部抵接而移动到释放位置。
- 处理电子照相成像设备
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