专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种处理-CN202222519677.9有效
  • 曾丽坤 - 纳思达股份有限公司
  • 2022-09-21 - 2023-01-24 - G03G21/18
  • 本申请涉及一种处理盒,处理盒可拆卸地安装至成像装置中,该处理盒包括盒体,盒体设置有粉仓框架和显影框架,粉仓框架具有用于容纳显影剂的容纳腔,显影框架设置有显影辊,粉仓框架与显影框架一体成型。在本申请中,粉仓框架与显影框架一体成型,二者之间通过盒体封闭,无需设置密封件,简化了处理盒的结构和生产工艺,无需组装,提高了处理盒的生产效率。
  • 一种处理
  • [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN200710137308.0无效
  • 山冈英人;厨子卓哉;芳谷光明 - 大日本网目版制造株式会社
  • 2007-07-20 - 2008-01-30 - H01L21/00
  • 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后,在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时,显影处理后,使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换,在该临时倾斜姿态的状态下,将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室然后,在洗净处理室(4)中,将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态,以进行洗净处理
  • 处理方法装置
  • [实用新型]一种处理-CN202223045895.X有效
  • 曾丽坤 - 珠海纳思达信息技术有限公司
  • 2022-11-16 - 2023-09-05 - G03G21/18
  • 本实用新型公开一种处理盒,可拆卸地安装至电子成像装置中,处理盒包括:显影盒框架,设置有可旋转的显影辊;感光鼓框架,设置有可旋转的感光鼓,感光鼓框架与显影盒框架连接,以使感光鼓与显影辊彼此面对;其中,显影辊的截面直径取值范围为具有上述尺寸的显影辊能够适用于多种型号的处理盒,提高了显影辊的通用性,避免了资源浪费。
  • 一种处理
  • [实用新型]一种处理-CN202220947141.4有效
  • 周少程 - 江西亿铂电子科技有限公司
  • 2022-04-23 - 2022-09-23 - G03G15/08
  • 本实用新型公开了一种处理盒,可拆卸的安装在电子照相成像装置中,所述处理盒包括:鼓框体;感光鼓,支撑在所述鼓框体上;显影框体,形成有显影室;显影辊,支撑在所述显影框体上并设置在所述显影室内;所述处理盒还包括避让孔和可形变部件,所述避让孔是形成在所述显影框体上的通孔,并能将所述显影室暴露在所述显影框体外部,所述可形变部件覆盖安装在所述避让孔上,当所述处理盒安装在所述电子照相成像装置中时,所述可形变部件可受到来自所述电子照相成像装置中的外力挤压
  • 一种处理
  • [发明专利]基板处理装置以及方法、包括该装置的基板处理系统-CN201410437517.7有效
  • 朴奇洪;玄宰一 - 细美事有限公司
  • 2014-08-29 - 2017-09-29 - H01L21/67
  • 本发明涉及基板处理装置以及方法、包括该装置的基板处理系统。其中,公开了一种能够提高显影处理效率的基板处理装置。基板处理装置包括工作腔室;基板移送部件,其配置于上述工作腔室内,且向一方向移送基板;第一显影液供给部件,其提供于上述基板的移送路径的上方,向移送的上述基板第一次供给显影液;流体供给部件,其沿着上述基板的移送方向位于上述第一显影液供给部件的后方,向第一次涂敷显影液的基板供给显影液去除流体;以及第二显影液供给部件,其沿着上述基板的移送方向位于上述流体供给部件的后方,向供给上述显影液去除流体的基板第二次供给显影液。
  • 处理装置以及方法包括系统
  • [发明专利]显影盒、处理盒和电子照相成像设备-CN201110134717.1有效
  • 桥本浩二 - 佳能株式会社
  • 2007-12-11 - 2011-08-31 - G03G21/18
  • 本发明涉及显影盒、处理盒和电子照相成像设备。处理盒安装至电子照相成像设备的主组件,主组件包括鼓联接件、显影联接件和接触件,处理盒包括:显影联接部,包括固定在显影辊的一个轴向端上的从动部、中间部和驱动部;保持部,保持驱动部和能与驱动部一起沿显影辊的轴线方向移动;推动部,沿与显影辊的轴线相交的方向推动驱动部通过保持部;和抵接部,抵接由推动部推动的保持部,以便在处理盒沿着显影辊的轴向插入到电子照相成像设备的主组件中时,使驱动部与显影联接件接合。保持部包括接触部,接触部与接触件接触,从而在驱动部尚未与显影联接件建立接合关系时,由处理盒在与所述显影辊的轴线相交的方向上的运动导致的保持部的运动受到限制。
  • 显影处理电子照相成像设备
  • [发明专利]处理盒和电子照相成像设备-CN201110322324.3无效
  • 茶谷一夫;宗次广幸 - 佳能株式会社
  • 2009-05-27 - 2012-01-18 - G03G21/18
  • 一种可拆卸地安装到电子照相成像设备主组件中的处理盒,包括:鼓单元,支撑电子照相感光构件并具有处理盒定位部,在处理盒安装到主组件中时处理盒定位部可与设在主组件中的主组件定位部接合;显影单元,支撑显影辊,该显影辊利用显影剂把形成在电子照相感光构件上的静电潜像显影,其中,显影单元可相对于鼓单元在显影辊与电子照相感光构件接触的接触位置和显影辊与电子照相感光构件分离的分离位置之间移动;和间隔保持构件,可在将显影单元保持在分离位置的接合位置和允许显影单元移动到接触位置的释放位置之间移动,其中,在处理盒安装到主组件中时,间隔保持构件通过由主组件定位部抵接而移动到释放位置。
  • 处理电子照相成像设备
  • [实用新型]显影盒及处理-CN202320766599.4有效
  • 刘霞 - 珠海鼎绘科技有限公司
  • 2023-04-10 - 2023-07-18 - G03G15/08
  • 本实用新型公开了一种用于电子照相成像设备的显影盒及处理盒。其中显影盒包括盒框架和显影辊,盒框架粉仓内的显影剂运送至显影辊,用于调节显影辊上显影剂厚度的出粉刀设置在盒框架上,且出粉刀上设置有防飞粉构件,其中防飞粉构件、出粉刀与显影辊之间形成容纳空间,容纳空间具有收窄的由防飞粉构件和显影辊形成的开口本实用新型显影盒及处理盒具有能有效防止显影剂飞散的优点。
  • 显影处理
  • [发明专利]显影剂废液再利用-CN201080007777.0无效
  • K·沙米尔;M·马罗姆 - 伊斯曼柯达公司
  • 2010-01-28 - 2012-01-11 - G03F7/30
  • 本发明涉及一种在印板处理器装置中再利用显影剂液体的设备。所述设备包括:新显影剂液体容器(13);在制品显影剂液体储箱(10),其用于印版处理并且填充来自新显影剂液体容器(13)的显影剂液体(15);废显影剂液体容器(14),其被配置为接收从在制品显影剂液体储箱(10)中溢出的显影剂液体(16);以及补充装置,其被配置为根据废显影剂液体的电导率水平从废显影剂液体容器(14)中将废显影剂液体(21)补充回去。
  • 显影剂废液再利用
  • [发明专利]处理盒的显影仓及其除粉方法-CN201610807725.0在审
  • 李海卡;倪明;田茂龙;曹建新 - 纳思达股份有限公司
  • 2016-09-07 - 2017-10-31 - G03G21/18
  • 一种处理盒的显影仓,所述显影仓设有可与处理盒中的粉仓连通的通口,在沿所述显影仓的长度方向的显影仓仓壁上设置有预移除区,所述预移除区用于在处理盒进行打印全检后将该预移除区移除并形成用于清除显影仓内余粉的除粉开口;该预移除区的厚度薄于该预移除区与之邻接的显影仓仓壁的壁厚或该预移除区的材料与之邻接的显影仓仓壁的材料不同。通过预移除区在显影仓上的设置,使处理盒在进行打印全检后避免了现有技术中通过重新拆除处理盒引起的品质隐患,也无需特意通过打印耗尽余粉。
  • 处理显影及其方法
  • [发明专利]处理盒的显影仓及其除粉方法-CN201610264634.7在审
  • 李海卡;倪明;田茂龙;曹建新 - 纳思达股份有限公司
  • 2016-04-25 - 2017-10-31 - G03G21/18
  • 一种处理盒的显影仓,所述显影仓设有可与处理盒中的粉仓连通的通口,在沿所述显影仓的长度方向的显影仓仓壁上设置有预移除区,所述预移除区用于在处理盒进行打印全检后将该预移除区移除并形成一用于清除显影仓内余粉的除粉开口;该预移除区的厚度薄于该预移除区与之邻接的显影仓仓壁的壁厚或该预移除区的材料与之邻接的显影仓仓壁的材料不同。通过预移除区在显影仓上的设置,使处理盒在进行打印全检后避免了现有技术中通过重新拆除处理盒引起的品质隐患,也无需特意通过打印耗尽余粉。
  • 处理显影及其方法
  • [实用新型]处理盒的显影-CN201621041739.8有效
  • 李海卡;倪明;田茂龙;曹建新 - 珠海艾派克科技股份有限公司
  • 2016-09-07 - 2017-03-01 - G03G21/18
  • 一种处理盒的显影仓,所述显影仓设有可与处理盒中的粉仓连通的通口,在沿所述显影仓的长度方向的显影仓仓壁上设置有预移除区,所述预移除区用于在处理盒进行打印全检后将该预移除区移除并形成用于清除显影仓内余粉的除粉开口;该预移除区的厚度薄于该预移除区与之邻接的显影仓仓壁的壁厚或该预移除区的材料与之邻接的显影仓仓壁的材料不同。通过预移除区在显影仓上的设置,使处理盒在进行打印全检后避免了现有技术中通过重新拆除处理盒引起的品质隐患,也无需特意通过打印耗尽余粉。
  • 处理显影

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