“掩模坯板”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果7711943个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]掩模坯板和掩模-CN200710153319.8有效
发明人：桥本雅广;榎本智之;坂口崇洋;坂本力丸;永井雅规 -专利权人：豪雅株式会社;日产化学工业株式会社
申请日： 2007-09-14 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供可控制转印用掩模的转印图案线宽的设计尺寸与在基板上形成的转印图案线宽尺寸之差，且可将线性控制在10nm以下的掩模图案和掩模。本发明提供了一种掩模坯板，其具有在基板上成膜的用于形成掩模图案的薄膜、和在该薄膜的上方成膜的化学放大型的抗蚀剂膜，其特征在于，在上述薄膜和抗蚀剂膜之间具有保护膜，所述保护膜可阻止妨害上述抗蚀剂膜的化学放大机能的物质从抗蚀剂膜的底部向抗蚀剂膜内移动
掩模坯板

[发明专利]感光性树脂叠层体及其热处理方法-CN201280009317.0有效
发明人： D·A·雷基亚;J·H·布莱尔;R·W·维斯特 -专利权人：麦克德米德印刷方案股份有限公司
申请日： 2012-01-11 - 公布日： 2013-11-20 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明涉及使光可固化印刷坯板热显影以制备包含多个凸纹圆点的凸纹图案的方法。所述光可固化印刷坯板包括：背衬层，至少一层光可固化层置于其上；以及置于该至少一层光可固化层顶部的激光可烧蚀掩模层。此方法包括步骤：(1)通过烧蚀该掩模层在光可固化层上成像，以产生凸纹图案；(2)将氧气屏障膜层积于经烧蚀的掩模层的顶部；(3)透过该氧气屏障膜和经烧蚀的掩模层将该印刷坯板曝露于光化辐射下，以有选择地使部分的该至少一层光可固化层交联和固化，从而产生凸纹图案；(4)从经烧蚀的掩模层的顶部移除氧气屏障膜；以及(5)将印刷坯板进行热显影以移除经烧蚀的掩模层以及光可固化层的未固化部分，从而显示凸纹图案。
感光性树脂叠层体及其热处理方法

[发明专利]感光性树脂叠层体及其热处理方法-CN201280019071.5有效
发明人： R·W·维斯特;D·A·雷基亚;T·戈奇克 -专利权人：麦克德米德印刷方案股份有限公司
申请日： 2012-03-20 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：光可固化印刷坯板包括：背衬层，一层光可固化层置于其上；屏障层，置于该光可固化层上；以及激光可烧蚀掩模层，置于该屏障层的顶部。该方法包括如下步骤：(1)通过烧蚀该激光可烧蚀掩模层在光可固化印刷坯板上产生凸纹图案的方式，在该至少一层光可固化层上成像；(2)透过该屏障层和掩模层将该印刷坯板曝露于光化辐射下，以有选择地使部分的该光可固化层交联，从而产生凸纹图案；(3)将印刷坯板进行显影以移除屏障层、经激光烧蚀的掩模层以及光可固化层的未固化部分，并显现出凸纹图案。该方法也可用于由负片取代烧蚀掩模层的模拟制版工艺。
感光性树脂叠层体及其热处理方法

[发明专利]掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法-CN202110268167.6在审
发明人：诸沢成浩 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；蚀刻停止层，设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层，设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。
掩模坯相移制法

[发明专利]光掩模坯的保持装置-CN99806027.5无效
发明人： G·戈德尔;A·厄尔曼;G·翁格尔;W·贝森贝克;A·雷特尔 -专利权人：因芬尼昂技术股份公司
申请日： 1999-03-11 - 公布日： 2001-06-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于光掩模坯的保持装置,包括设有用于光掩模坯(4)的支承面(3)的保持体(1)及与光掩模坯(4)的一个导电层(6)可形成电接触的接地单元(10)。接地单元包括一个接触顶尖(15),它可被这样地操作,即它可在实质上对放置在该保持装置中的光掩模坯(4)无侧向相对移动的情况下向下移动到光掩模坯上。
光掩模坯保持装置

[发明专利]用于检查和判定光掩模坯或其中间体的方法-CN201010158156.4有效
发明人：稻月判臣;金子英雄;吉川博树 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2010-03-31 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：公开了一种用于检查和判定光掩模坯或其中间体的方法。通过下述步骤来检查衬底上有膜的光掩模坯：(A)测量具有待检查应力的膜的光掩模坯的表面形貌，(B)从所述光掩模坯去除所述膜以提供经处理的衬底，(C)测量去除所述膜之后经处理的衬底的表面形貌，以及(D)比较光掩模坯或中间体的表面形貌和经处理的衬底的表面形貌
用于检查判定光掩模坯中间体方法

[发明专利]掩模坯用基板、掩模坯和转印用掩模的制造方法-CN201110235783.8有效
发明人：田边胜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-08-11 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C03B29/00 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在掩模坯用基板上产生表面缺陷的情况下也能简便且对基板的平坦度和表面粗糙度不带来不良影响地修正掩模坯用基板表面缺陷的、低成本且高合格率的掩模坯用基板的制造方法以及掩模坯和转印用掩模的制造方法该掩模坯用基板的制造方法的特征在于，是由具有对置的2个主表面的基板形成的掩模坯用基板的制造方法，具有研磨上述基板的2个主表面的工序，和对存在于所述基板的主表面的表面缺陷，使燃烧温度在上述基板的软化点以上的火焰接触而修正上述表面缺陷的工序
掩模坯用基板掩模坯转印用掩模制造方法

[发明专利]光掩模及用来在光掩模上形成非正交特征的方法-CN200680041429.9无效
发明人： S·S·麦唐纳;D·梅伦欣 -专利权人：凸版光掩膜公司
申请日： 2006-09-06 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：提供一种用来在光掩模上形成非正交特征的光掩模和方法。用来在光掩模坯件上形成非正交特征的方法包括提供包括原始形状的掩模图案文件以及将原始形状分裂成多个可写形状。通过利用光刻系统将可写形状从掩模图案文件成像到光掩模坯件的抗蚀剂层上，由可写形状形成的非正交特征被形成在光掩模坯件上。
光掩模用来光掩模上形成正交特征方法

[发明专利]掩模坯件的制造方法-CN200580032601.X有效
发明人：大久保靖 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2005-11-04 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：于掩模坯件用基片上形成将成为掩模图案的薄膜的薄膜形成工序和于上述薄膜上形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序的掩模坯件制造方法，此方法包括：保存包含有将上述抗蚀剂膜形成于上述薄膜上的日期信息的抗蚀剂膜形成信息的工序；将上述抗蚀剂膜形成信息与上述掩模坯件相对应的工序；基于上述抗蚀剂膜形成信息，确定形成于上述掩模坯件上的抗蚀剂膜的灵敏度变化超过允许范围的掩模坯件的工序；将上述确定的掩模坯件上所形成的抗蚀剂膜剥离的工序
掩模坯件制造方法

[发明专利]光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备-CN200410004942.3无效
发明人：翰斯·贝克;马里奥·希夫勒;弗兰克·伦曾;于特·布特格雷特;盖恩特·埃斯;弗兰克·索贝尔;卢茨·阿斯克;马库斯·雷诺;奥里沃·格岑贝格尔;弗兰克·施密特 -专利权人：肖特·格拉斯公司
申请日： 2004-02-13 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明一般涉及光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备，具体涉及利用粒子束溅射制造光掩模坯体的方法和设备。本发明的目的是提供一种制造高质量和高稳定性光掩模坯体的方法，它适合于制造有微小结构的光掩模。本发明提出一种制造光掩模坯体的方法，其中基片和靶放置在真空室。所述靶的溅射是利用辐照。
光掩模坯体光掩模制造方法设备

[发明专利]用于堵塞颗粒过滤器小孔的掩模-CN200580038740.3无效
发明人： E·F·小安德鲁拉瓦格;D·J·沃西 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2005-11-09 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： B01D46/24 文献下载
摘要：一种用于堵塞单块坯体中小孔的掩模，包括平板，其中该平板的边缘固定在支撑架中。小孔掩模区包括多个开口，填充剂材料可通过这些开口注入单块坯体的所选小孔中。平板的尺寸使得当其固定在单块坯体端面上时，小孔掩模区覆盖单块坯体端面的小孔，外壳掩模区侧向延伸过单块坯体的外周。也提供了一种方法。
用于堵塞颗粒过滤器小孔

[发明专利]形成掩模坯板用抗蚀剂下层的膜的组合物、掩模坯板和掩模-CN200710005538.1有效
发明人：桥本雅广;榎本智之;坂口崇洋;坂本力丸;永井雅规 -专利权人：豪雅株式会社;日产化学工业株式会社
申请日： 2007-02-12 - 公布日： 2007-08-22 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供在掩模坯板和掩模的制作工艺中使用的形成抗蚀剂下层的膜的组合物，并且提供使用该组合物制作的掩模坯板和掩模。本发明通过提供下述组合物解决了上述课题，即，一种形成抗蚀剂下层的膜的组合物，是在基板上按照形成转印图案的薄膜和化学放大型抗蚀剂膜的顺序形成这些膜而成的掩模坯板中，为了在该形成转印图案的薄膜和该抗蚀剂膜之间形成抗蚀剂下层的膜而使用的
形成掩模坯板用抗蚀剂下层组合掩模坯板

[发明专利]改善柔性印刷版的印刷性能的方法-CN201180063990.8有效
发明人： L·A·布莱恩特 -专利权人：麦克德米德印刷方案股份有限公司
申请日： 2011-11-23 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： B05D3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种在数字制版过程期间控制感光印刷坯板中所产生的多个凸纹圆点的形状的方法。此种感光印刷坯板包括置于至少一层光可固化层上的激光可烧蚀掩模层。此方法包括以下步骤：a)用激光烧蚀该激光可烧蚀掩模层，以在该激光可烧蚀掩模层中产生原位负片；b)将一层屏障膜施加于感光印刷坯板；c)透过该原位负片将该至少一层光可固化层曝光于光化辐射；以及d)使已成像并曝光的感光印刷坯板显影
改善柔性印刷性能方法

[发明专利]光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法-CN202211255619.8在审
发明人：山田慎吾;森山久美子 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在光掩模的制造时容易进行图案的尺寸控制，能够在光掩模中提高图案的尺寸精度的光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法。该光掩模坯的制造方法用于制造将透明基板(3)的表面划分为第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域形成有第一功能性膜，在第二图案区域形成有第二功能性膜的光掩模坯(2)。
光掩模坯制造方法以及光掩模

[发明专利]掩模坯及其制造方法、半色调掩模及其制造方法-CN201811099364.4在审
发明人：诸沢成浩 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供掩模坯及其制造方法、半色调掩模及其制造方法。本发明的掩模坯具有成为半色调掩模的层，所述掩模坯具有：耐化学品层，提高了耐化学品性；和均匀透射率层，从i线到g线的波段中半透射率的变动幅度被控制在规定范围内，所述耐化学品层及所述均匀透射率层中的含氮率不同
掩模半色调掩模耐化学品透射率制造耐化学品性变动幅度半透射波段氮率

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条