专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果3948056个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种稀土抛光粉精细研磨装置-CN202122622365.6有效
  • 柳焱 - 包头海亮科技有限责任公司
  • 2021-10-29 - 2022-04-05 - B02C4/12
  • 本实用新型涉及一种稀土抛光粉精细研磨装置,包括调节机构、研磨构和研磨板,所述研磨构设置在调节机构上,所述研磨板设置在调节机构上,所述研磨构包括电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的右端固定连接有固定推块,所述固定推块的底部固定连接有电动升降杆,所述电动升降杆的底端固定连接有研磨架,所述研磨架的内侧活动连接有研磨轮,所述固定推块的顶部固定连接有滑动块,所述滑动块的内侧活动连接有滑动杆,所述研磨轮的外侧固定连接有滚动轴承。该稀土抛光粉精细研磨装置,实现了研磨装置便于调节的目的,研磨装置可以对稀土抛光粉进行多范围的研磨,不需要工作人员不停的翻动稀土抛光粉,来达到稀土抛光粉多范围研磨的目的。
  • 一种稀土抛光精细研磨装置
  • [发明专利]使化学机械抛光垫的表面成形的方法-CN201710873212.4有效
  • J·J·亨德伦;J·R·斯塔克 - 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
  • 2017-09-25 - 2019-10-25 - B24B37/22
  • 本发明提供用于制造预调节型化学机械(CMP)抛光垫的方法,所述CMP抛光垫具有有效抛光的垫表面微纹理,所述方法包含用旋转式研磨研磨具有半径的所述CMP抛光垫的表面,此时其就位固持在平台式压板表面上,所述旋转式研磨具有平行于或基本上平行于所述平台式压板表面安置并且由多孔性研磨材料制成的研磨表面,其中所得CMP抛光垫具有0.01μm到25μm Sq的表面粗糙度。本发明还提供一种在抛光层表面上具有一系列明显的交叉弧线的CMP抛光垫,所述交叉弧线的曲率半径等于或大于所述垫的曲率半径的一半,并且始终绕所述垫的所述表面以绕所述垫的中心点径向对称的方式延伸。
  • 化学机械抛光表面成形方法
  • [实用新型]一种金属材料晶间腐蚀研磨-CN202020126117.5有效
  • 陈卫武;王春兰 - 苏州新苏理化测试服务有限公司
  • 2020-01-19 - 2020-10-20 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种金属材料晶间腐蚀研磨,应用在金相研磨领域,解决了研磨抛光在对样品研磨的过程会产生碎屑,在多个样品分别加压研磨时,样品产生的碎屑留在研磨盘上,易使其他样品在研磨时,研磨表面被碎屑磨出划痕,影响研磨效果的技术问题,其技术方案要点是研磨的底座上设有一圆形凹槽,凹槽的直径大于研磨盘的直径,凹槽底端中心处设置有一容置壳,发动机放置在容置壳内,底座的上表面设有冲水装置和滴定装置;具有的技术效果是可以及时清理样品研磨研磨盘上留下的碎屑,提高研磨效率和研磨质量。
  • 一种金属材料晶间腐蚀研磨机
  • [实用新型]一种焊制管加工用抛光-CN202120524709.7有效
  • 熊龙 - 江西正一不锈钢有限公司
  • 2021-03-12 - 2021-11-09 - B24B29/08
  • 本实用新型公开了一种焊制管加工用抛光,包括壳体,所述壳体的一侧上部固定连接有出管口,所述滑槽板的两端均固定连接有固定板,两个所述固定板的中部均螺纹连接有螺杆,所述驱动轴的外侧固定连接有第二皮带轮,所述第二皮带轮通过传动皮带连接有第一皮带轮本实用新型中,通过电机驱动,可以使抛光研磨绕焊制管转动,可以对焊制管进行研磨抛光,自动化程度高,提高了加工效率,将横分隔板的内部设置有连通孔,抛光后产生的粉尘颗粒通过连通孔进入废料室内,通过壳体将抛光研磨包围,防止抛光作业时粉尘颗粒污染环境,值得大力推广。
  • 一种焊制管加工用抛光机
  • [实用新型]一种带驱动的四头平面研磨抛光-CN201620686479.3有效
  • 胡皱文;贺德荣 - 胡皱文;贺德荣
  • 2016-07-04 - 2017-02-22 - B24B29/00
  • 本实用新型公开了一种带驱动的四头平面研磨抛光,包括机架,其包括下机身、立柱和上固定架,下机身边角处设有立柱,立柱的上末端处设有上固定架,上固定架的中部设有安装位;中间框,中间框安装在上固定架中部的安装位处并位于上固定架的下方;上研磨构,上研磨构安装在中间框上并从中间框的上下两端伸出;上研磨构包括转动机构、升降机构和砝码;下磨盘机构,下磨盘机构设于下机身的上方;下研磨构包括磨盘组件、驱动磨盘组件转动的驱动组件、位于磨盘组件外侧的台板;上研磨构与下磨盘机构相互配合用以对工件进行研磨抛光
  • 一种驱动平面研磨抛光机
  • [实用新型]流体抛光-CN201020540046.X有效
  • 冯建平;李越;裘华刚;黄强;阮哲峰;李振华 - 浙江海亮股份有限公司;绍兴金氏机械设备有限公司
  • 2010-09-17 - 2011-06-08 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了流体抛光,包括机身、上模架、下模架及合模装置,上模架与下模架上分别设有研磨构,所述研磨构包括磨料缸筒及用于推动磨料缸筒内磨料运动的研磨缸,磨料缸筒固定在上模架与下模架上,工件通过合模装置夹持在上模架与下模架的两个磨料缸筒之间,上模架与下模架上的两个研磨缸推动磨料沿工件内壁上、下往复运动完成抛光。通过流体抛光加工的工件,其加工面的抛光痕迹与工件实际的流体导通方向是相一致的,有助于工件使用性能的提高。
  • 流体抛光机

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top