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[实用新型]一种新型防伪膜-CN201922365489.3有效
发明人：郭滨刚 -专利权人：深圳市光科全息技术有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型防伪膜，包括依次分布的产品防伪信息层、炫光层以及应力发光层，所述产品防伪信息层、炫光层以及应力发光层之间通过胶粘方式贴合，所述产品防伪信息层携带有产品识别标签信息，所述受到外力时，所述炫光层、应力发光层用于产生光。本实用新型的防伪膜兼具有炫光效果和应力发光效果的光学防伪和加密算法的数码防伪双重防伪技术；人可施加压力在防伪膜上，判别防伪膜是否伪造，确认为真后再进行扫描识别，使用起来方便快捷；该防伪膜还具有防转移的作用，即该防伪膜被揭开后，同时其图案信息也被撕毁，使得他人无法进行仿制等。
一种新型防伪

[实用新型]柔性显示面板和显示装置-CN202120092187.8有效
发明人：舒俊芳;尤莹 -专利权人：上海和辉光电股份有限公司
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：为提高柔性屏的抗弯折性能，所述显示面板的边缘区域包括：柔性基板；阵列膜层，所述阵列膜层覆盖于所述柔性基板之上；油墨层；第一无机层，所述第一无机层设置于所述阵列膜层之上；第二无机层，所述第二无机层设置于所述柔性显示面板的封装结构的表面；以及应力释放膜层，所述应力释放膜层设置于所述第一无机层与所述第二无机层之间。所述应力释放膜层的为柔性且位于具有坝体结构的位置。本实用新型的显示面板和显示装置能有效地释放弯折应力，提高柔性屏的边缘抗弯折性能。
柔性显示面板显示装置

[发明专利]一种晶硅电池热诱导裂片方法-CN202010196306.4在审
发明人：周华明;黄世亮;郭志球;金浩 -专利权人：浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种晶硅电池热诱导裂片方法，包括制作具有应力诱导槽的硅片；将所述具有所述应力诱导槽的硅片制作成电池片；对所述电池片进行热诱导，沿所述电池片的应力诱导槽的方向解离实现裂片。本申请提供的上述晶硅电池热诱导裂片方法，把制备应力诱导槽前置到制备电池钝化膜、隧穿膜和透明导电膜的工序之前了，从而能够消除开应力诱导槽对电池功率的衰减影响，提高开槽效率，简化热诱导工艺流程，提升热诱导裂片的产能
一种电池诱导裂片方法

[发明专利]在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法-CN201210005692.X有效
发明人：毛磊;肖博智;陈亚君;杨勇 -专利权人：宁波永新光学股份有限公司
申请日： 2012-01-09 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，包括用光学镀膜机在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面镀增透膜层，特点是在光学玻璃基片的表面与增透膜层之间设置一层缓冲膜层，根据增透膜层的应力特性，将缓冲膜层的应力特性设置成与增透膜层的应力特性相反，缓冲膜层的应力大小等于增透膜层的应力的大小±5％，优点是可以有效地防止镀膜对光学窗口器件的钢化强度造成的破坏。
化学法钢化光学玻璃表面增透膜方法

[发明专利]半导体结构、半导体晶片及其制造方法-CN200610169067.3无效
发明人：郑心圃;赵智杰;卢思维 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2006-12-20 - 公布日： 2007-11-21 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：本发明提供一种具有应力调整层的集成电路及其制造方法，可以避免晶片翘曲及破损。该具有应力调整层的集成电路的制造方法包括：提供具有第一表面及第二表面的半导体基板，其中该半导体基板的厚度大体小于150μm；形成多个膜层于该基板的第一表面，该多个膜层在该半导体基板上施加应力；以及，在该第一表面及第二表面其中之一上形成应力调整层，并补偿或平衡该多个膜层施加在半导体晶片上的该应力。
半导体结构晶片及其制造方法

[发明专利]一种封装盖板及其制备方法和显示装置-CN202210294481.6在审
发明人：李松举;孙贤文;付东 -专利权人：广东聚华印刷显示技术有限公司
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H10K50/844 文献下载
摘要：本发明公开了一种封装盖板及其制备方法和显示装置，所述封装盖板包括：基板，所述基板包括依次连接的内弯折段、第一非弯折段和外弯折段；薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述基板上，所述薄膜封装层包括覆盖于所述内弯折段上的第一拉应力膜层和覆盖于所述外弯折段上的第一压应力膜层；其中，所述第一拉应力膜层的内应力朝向远离所述基板的一侧，所述第一压应力膜层的内应力朝向所述基板的一侧。通过在基板不同的弯折段匹配设置形变趋势与其受到应力方向相同的薄膜封装层，保证薄膜封装层在封装盖板折叠时不会与基板发生脱离或者分裂，提高可靠性。
一种封装盖板及其制备方法显示装置

[发明专利]一种可拉伸显示屏装置及其制造方法-CN201810609371.8有效
发明人：万康;于锋;李阳;刘晓佳 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种可拉伸显示屏装置，包括：多个发光区域，包括叠加的多个功能膜层，多个功能膜层构造为起到显示作用；以及至少一个应力释放模组，分别设置在两个发光区域之间的非发光区域，其中，应力释放模组所在区域填充有应力释放材料，利用应力释放材料的性能吸收和释放显示屏在拉伸过程中产生的应力，以实现显示屏的拉伸。
一种拉伸显示屏装置及其制造方法

[发明专利]土工膜内压薄壁圆筒试样双向拉伸试验装置及试验方法-CN201210117437.4有效
发明人：姜晓桢;束一鸣;吴海民;曹明杰 -专利权人：河海大学
申请日： 2012-04-19 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G01N3/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种土工膜内压薄壁圆筒试样双向拉伸试验装置及试验方法，采用本发明的试验装置及其试验方法，解决了土工膜平面十字形试样在双向拉伸试验中的应力均匀性问题，同时也克服了传统内压薄壁圆筒试验不适用于土工膜这种柔性材料的问题，最终能够准确地得出土工膜在双向应力条件下的双向应力应变曲线。
土工膜内压薄壁圆筒试样双向拉伸试验装置试验方法

[发明专利]一种低应力金属硬掩膜层的制备方法-CN201110347738.1有效
发明人：周军;胡彬彬;傅昶;贺忻 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-11-07 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种低应力金属硬掩膜层的制备方法。本发明一种低应力金属硬掩膜层的制备方法，通过增加反应腔体内通入的氮气和氩气气流量，增大反应腔体内的压力，和在氮化钛金属硬掩膜层生长过程中进行加热，相当于采用退火工艺，从而于整体上有效的降低了氮化钛金属硬掩膜层的应力
一种应力金属硬掩膜层制备方法

[发明专利]离型膜-CN201280054301.1无效
发明人：小森洋和;樋口达也;小森政二;村上辰也;奥村胜史;稻叶刚志 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： B29C33/68 文献下载
摘要：本发明提供一种离型膜，在利用模具进行成型的过程中进行拉伸时，其不会产生由于不均匀的伸展导致厚度不均。本发明的离型膜为含有含氟树脂的离型膜，其特征在于，上述离型膜的长度方向的应力与宽度方向的应力之差为1.80MPa以下，上述应力是利用按照ASTM D1708-02a的方法在气氛温度120℃、拉伸速度100mm
离型膜

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201910231945.7在审
发明人：羽根秀臣;大下健太郎;大槻志门;小川淳;吹上纪明;池川宽晃;小林保男;小山峻史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法和成膜装置。在将含硅的原料气体和用于将原料气体氮化的氮化气体交替地供给到基板来在基板上形成含硅氮化膜时，以具有期望的应力的方式形成该含硅氮化膜。以包括以下工序的方式进行成膜处理：将原料吸附工序和所述氮化工序交替反复地进行，来在基板(W)上形成含硅氮化膜；在进行所述原料吸附工序和所述氮化工序之前，设定所述含硅氮化膜的应力；以及氮化时间调整工序，以基于第一对应关系及所设定的所述含硅氮化膜的应力所得到的长度来进行所述氮化工序，其中，所述第一对应关系为所述含硅氮化膜的应力与同所述等离子体形成区域(R1～R3)中的氮化时间对应的参数之间的关系。
氮化硅氮化膜基板成膜装置原料气体成膜吸附等离子体形成区域成膜处理氮化气体时间调整期望

[发明专利]显示装置-CN202010712314.X在审
发明人：申宪政;李贞燮;吴弦俊 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述窗部可以包括：窗部膜，具有挠性；以及至少一个涂层，配置在所述窗部膜上。所述窗部膜可以在作用于所述窗部膜的拉伸应力增加时，在第一区间具有弹性变形，且在所述第一区间之后的第二区间具有塑性变形。可以根据施加到所述窗部膜的所述拉伸应力与基于所述拉伸应力的所述窗部膜的变形率的关系，定义所述第一区间和所述第二区间。所述窗部膜可以具有1.9％至2.25％的屈服应变率，所述屈服应变率可以定义为在向所述窗部膜施加所述第一区间的屈服应力时所述窗部膜的变形率。
显示装置

[发明专利]一种用于涂层织物膜材黏弹性本构行为的预测方法-CN201710484652.0有效
发明人：张营营;薛继岗;张兰兰;许珊珊 -专利权人：中国矿业大学
申请日： 2017-06-23 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G01N3/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于涂层织物膜材黏弹性本构行为的预测方法，适用于建筑膜结构中的用于涂层织物膜材黏弹性本构行为的预测。针对涂层织物类膜材，采用单轴循环拉伸试验方法进行拉伸试验，将膜材按某一恒定速率拉伸至最大应力，再以相同的速率卸载至0，如此循环直至达到稳定，得到膜材在单轴循环拉伸作用下的应力应变曲线，此时涂层织物类膜材沿拉伸方向的应力、应变满足表达式，通过表达式进行应力应变关系预测，即可准确反映涂层织物膜材黏弹性本构行为。本发明合理选取了影响涂层织物膜材料黏弹性特性的重要参数，准确地反映膜材料的真实力学性能，有效弥补了目前大部分黏弹性本构关系模型存在的问题，为建筑膜结构的分析和计算提供参考。
一种用于涂层织物膜材黏弹性行为预测方法

[发明专利]一种压电式MEMS麦克风-CN202010300029.7有效
发明人：段炼;张睿 -专利权人：瑞声声学科技（深圳）有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： H04R19/00 文献下载
摘要：本发明涉及声电转换的技术领域，提供了一种压电式MEMS麦克风，包括：具有背腔的基底和压电振膜，压电振膜包括悬置部和与基底连接的基底固定部，压电振膜还包括连接基底固定部和悬置部的支撑部，悬置部通过支撑部悬置于背腔上方，压电式MEMS麦克风还包括限位结构，悬置部包括与限位结构沿振动方向的投影范围重叠的中部膜，限位结构与中部膜形成压电振膜的固定结构。压电振膜在氧化层释放之后，在压电振膜内残余应力的作用下，中部膜向上或向下进行形变，并与对应的限位结构连接，以完全释放应力和梯度应力。应用本技术方案解决了现有技术中膜片由于加工工艺过程中的应力分布不均导致形变不一，进而影响麦克风的灵敏度等性能的一致性的技术问题。
一种压电 mems 麦克风

[发明专利]一种单片晶圆测试多台设备的方法-CN201910849155.5有效
发明人：吴恋伟;林元鼎;邓丹丹;郭文海;翁佩雪;赵玉会;林锦伟 -专利权人：福建省福联集成电路有限公司
申请日： 2019-09-09 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种单片晶圆测试多台设备的方法，包括以下步骤：应力测试仪对裸硅晶圆进行应力前置测试，获取前置应力值；将裸硅晶圆置入化学气相沉积设备中，对应力测试后的裸硅晶圆沉积氮化硅，膜厚测试仪对沉积氮化硅的硅晶圆进行膜厚和折射率测试，获取氮化硅膜厚和折射率作为化学气相沉积设备测机参数，以及应力测试仪对沉积氮化硅的硅晶圆进行后置应力测试，获取第一后置应力值。
一种单片测试设备方法