专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]流量补偿方法-CN201510420834.2有效
  • 金一诺;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2015-07-17 - 2020-03-27 - B24B57/02
  • 本发明揭示了一种流量补偿方法,包括:选择一个腔体作为基准腔体,向基准腔体中输入液体,基准腔体的喷头喷射液体形成液柱,记录液柱高度为基准高度,记录基准腔体的液体流量为基准流量。选择另一腔体作为对照腔体,向对照腔体中输入液体,对照腔体的喷头喷射液体形成液柱,调节对照腔体的流体流量以使得对照腔体的液柱达到基准高度,记录对照腔体的液体流量为对照流量,计算对照流量与基准流量的差值为该对照腔体的补偿值继续选择其他腔体作为对照腔体并分别计算各个对照腔体的补偿值,直至参与工艺流程的所有腔体的补偿值都计算完毕。在工艺流程中,向基准腔体提供的液体为基准流量,向其他腔体提供的液体流量为:基准流量+该腔体的补偿值。
  • 流量补偿方法
  • [发明专利]复数电压值计算机断层扫描方法和设备-CN201410790729.3在审
  • 陈琰;冯佳 - 上海西门子医疗器械有限公司
  • 2014-12-17 - 2016-07-13 - A61B6/03
  • 本发明公开了一种复数电压值计算机断层扫描方法和计算机断层扫描设备。根据本发明的第一方面,提供一种复数电压值计算机断层扫描方法,包括:建立一电压组,所述电压组包括X射线管的至少一个电压值;加载一基准扫描条目,所述基准扫描条目具有一基准电压值和一组基准参数;接收对所述电压组中的电压值的选择;根据所述基准电压值、所述基准参数以及所选择的电压值,建立相应的派生扫描条目,所述派生扫描条目具有所选择的电压值和一组派生参数;根据所述基准扫描条目和所述派生扫描条目作计算机断层扫描。
  • 复数电压计算机断层扫描方法设备
  • [发明专利]一种速度计算方法、系统、电子设备及可读存储介质-CN201811443570.2有效
  • 张士林;陈维亮 - 歌尔科技有限公司
  • 2018-11-29 - 2021-02-02 - G01P21/00
  • 本申请公开了一种速度计算方法,首先根据加速度的大小确定哪些时间窗口属于运动窗口,并在确定运动窗口的基础上,通过将每个运动窗口的加速度均值作为对应运动窗口的实际加速度基准,使得各运动窗口并非基于相同的加速度基准(即“0”基准)得到加速度数据,而是根据每个运动窗口的实际加速度基准计算得到基准校准后加速度,能够有效减少在不断测量过程中因存在的累计误差导致加速度基准变换的问题,从而提升了用于计算速度的加速度的精度,也就提升了最终计算得到的速度的精度,且可适用于更广泛的实际应用场景。本申请还同时公开了一种速度计算系统、电子设备及计算机可读存储介质,具有上述有益效果。
  • 一种速度计算方法系统电子设备可读存储介质
  • [发明专利]用于对辐射图像进行质量评价的方法和系统-CN201611270685.7有效
  • 赵自然;顾建平;王志明;温宏胜;朱强强 - 清华大学;同方威视技术股份有限公司
  • 2016-12-30 - 2022-03-08 - G06T7/45
  • 本发明公开了一种用于对辐射图像进行质量评价的方法,包括:选择多个基准辐射图像,并且针对所述多个基准辐射图像中的每一个基准辐射图像的特定区域进行以下处理:计算归一化的灰度共生矩阵;以及根据所述归一化的灰度共生矩阵,计算特征参数;根据所述多个基准辐射图像的特征参数,计算所述多个基准辐射图像的特征参数的统计特征参数;计算待评价辐射图像的特定区域的归一化的灰度共生矩阵;根据所述待评价辐射图像的归一化的灰度共生矩阵计算所述待评价辐射图像的特征参数;以及根据所述多个基准辐射图像的特征参数的统计特征参数以及所述待评价辐射图像的特征参数计算偏差,所述偏差用于表征所述待评价辐射图像的质量。
  • 用于辐射图像进行质量评价方法系统
  • [发明专利]一种螺纹与基准轴同轴度的测量方法-CN201710762873.X有效
  • 王静;惠宏超;徐霁淼;王锐;严小军 - 北京航天控制仪器研究所
  • 2017-08-30 - 2019-12-20 - G01B11/27
  • 本发明公开了一种螺纹与基准轴同轴度的测量方法,该方法包括以下步骤:将被测螺纹夹持在螺纹装夹器上,锁紧固定后以该位置截面作为0度位置截面,CCD采集各区域图像;通过图像处理分别得到各区域的边界位置坐标;计算各个螺纹牙型全三角的上顶点和各个螺纹牙型全三角的下顶点;计算基准圆柱的轴线;计算螺纹轴线;计算0度位置截面螺纹与基准圆柱的同轴度;以基准圆柱轴线为轴,每间隔n度旋转一次螺纹装夹器,进行同轴度计算,最后求取多个同轴度的平均值E作为最终螺纹与基准圆柱的同轴度。本发明通过对采集到的图像进行处理和计算,实现螺纹与基准轴的同轴度的精密测量。
  • 一种螺纹基准同轴测量方法
  • [发明专利]控制装置-CN202080025662.8在审
  • 安井勇人;岛村知行;仲野征彦;大仓嵩史;岛村纯儿 - 欧姆龙株式会社
  • 2020-03-05 - 2021-11-12 - G05D3/00
  • 控制装置按照电子凸轮特性对主轴和从轴进行同步控制,该控制装置具有:基准位置计算单元,其在从断电恢复时,取得所述主轴的位置,根据与取得的位置实现凸轮同步的时刻处的所述主轴的位置和所述电子凸轮特性,计算作为所述主轴的基准位置的主轴基准位置、和作为所述从轴的基准位置的从轴基准位置;以及恢复控制单元,其根据所述主轴的当前位置、所述电子凸轮特性、由所述基准位置计算单元计算出的所述主轴基准位置和所述从轴基准位置,求出与所述主轴的当前位置对应的所述从轴的位置
  • 控制装置
  • [发明专利]光刻设备基准聚焦变动后产品的风险评估方法-CN202211552623.0有效
  • 杨晓彤 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-12-06 - 2023-03-24 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种光刻设备基准聚焦变动后产品的风险评估方法,包括:基准聚焦变动前,在不同聚焦条件下对晶圆进行曝光;得到基准聚焦变动前线宽与聚焦的关系式并计算最佳聚焦;基准聚焦变动后,在不同聚焦条件下对晶圆进行曝光;得到基准聚焦变动后线宽与聚焦的关系式并计算最佳聚焦;计算两个最佳聚焦的差值;如果差值超过第一阈值,则计算基准聚焦变动后的晶圆上多个点对应的聚焦的均匀度和最大聚焦和最小聚焦的差值是否均达标,如果聚焦的均匀度和/或最大聚焦和最小聚焦的差值没有达标,则认为基准聚焦变动后的工艺生产的产品有风险。本发明可以确认基准聚焦的变动是否对工艺带来影响。
  • 光刻设备基准聚焦变动产品风险评估方法

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