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- [实用新型]一种涂布均匀的胶带涂布机-CN202321142603.6有效
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姚宗伟;金献成;赖厚亮
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青岛三人行机械有限公司
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2023-05-12
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2023-09-05
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B05C1/08
- 本实用新型公开了一种涂布均匀的胶带涂布机,包括底座,所述底座的顶部且靠近其两侧固定安装有支撑板,所述支撑板的顶部固定安装有顶板,所述底座的顶部中间设有输送带,所述支撑板的内侧固定安装有安装框,所述安装框的内壁两侧通过轴承转动连接有转动杆,所述转动杆的另一端固定安装有涂布辊,所述安装框的前后两侧固定安装有刮刀,所述支撑板的内侧通过安装架固定安装有储料框,所述储料框的底部贯通连接有出胶头,所述顶板的底部固定安装有液压杆,所述液压杆的底端且位于储料框的内部设有推胶板本实用新型通过上述等结构的配合,实现了将胶体从出胶头中匀速推出,从而使得胶体能够均匀的下落到涂布辊上,进而提高了胶带的质量。
- 一种均匀胶带涂布机
- [实用新型]一种均匀涂布装置-CN201320826681.8有效
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郑春晓
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深圳市极而峰工业设备有限公司
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2013-12-16
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2014-05-14
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B05C5/00
- 本实用新型公开一种均匀涂布装置,包括清洁机构、控制机构、平台机构、网板机构、涂胶机构、升降机构、供胶机构和前移机构;所述前移机构通过横向滑轨连接在底座上,所述前移机构上设有纵向滑轨,所述升降机构滑动连接在所述纵向滑轨上,所述升降机构上设有导轨,所述涂胶机构滑动连接在所述导轨上,所述网板机构固定在所述升降机构上,所述网板机构上均匀分布有多个网孔,所述平台机构固定在所述底座上且正对所述横向滑轨的开口,所述平台机构上有多个真空吸附孔本实用新型结构简单,一次运动完成涂布,不受涂布尺寸影响,提高了工作效率;网板机构涂布解决点胶涂布过程产生不均匀,气泡,涂布范围精度等问题,降低工艺难度,提高了工序良率。
- 一种均匀装置
- [实用新型]电池极片均匀涂布装置-CN202121769192.4有效
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刘喜标;刘梓炜
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吉安冠佳新能源开发有限公司
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2021-08-01
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2022-03-29
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B05C1/08
- 本实用新型公开了电池极片均匀涂布装置,涉及电池领域,为达到上述目的,本实用新型的技术方案包括浆料箱、移动车体、匀料转辊和匀料板;所述浆料箱设置于所述移动车体上,所述移动车体转动配合有若干轮轴,最前方的所述转轴同轴设有匀料转辊所述转轮外套有调节与所述匀料转辊外径差的轮套;所述轮轴的前方上侧设有所述匀料板,所述匀料板的下板沿向下抵靠至所述轮轴的外壁;所述浆料箱外接有运料管,所述运料管设有若干位于所述匀料板上方的出料口,所述出料口沿所述匀料板的下板沿均匀分布能够很好避免浆料从运料管出来的时候堆放在一起的问题,可以更加均匀的涂布浆料,显著的提高涂布的质量。
- 电池均匀装置
- [实用新型]一种均匀涂布装置-CN202222347781.4有效
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林为闩;林俊熙
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东莞睿富智造科技有限公司
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2022-09-05
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2022-12-20
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B05C1/08
- 本实用新型公开了一种均匀涂布装置,包括机架、牵引辊件、收卷装置、逗号辊轴、微凹逆转涂布总成及多个辅助辊轴;牵引辊件、收卷装置、逗号辊轴及微凹逆转涂布总成均设置于机架上,微凹逆转涂布总成包括微凹刮板、置物架注胶台及逆转辊轴,置物架与机架固定连接,微凹刮板通过气缸滑设于置物架上,注胶台固定于置物架上,注胶台上设有凹陷部,逆转辊轴的侧壁抵接于注胶台的凹陷部,置物架及注胶台均设有注胶孔插设有注胶组件;本实用新型能够将胶水均匀涂抹在产品上,装设有液体泵将胶水泵上到微凹逆转涂布组件上,能够将胶水涂覆在产品上面,而微凹刮板会将逆转辊轴上的胶水刮均匀然后再涂覆于进给辊轴上。
- 一种均匀装置
- [实用新型]一种全精密双辊涂布机-CN202020577302.6有效
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龙明光
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江西省启光涂装机械有限公司
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2020-04-17
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2021-01-05
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B05C1/08
- 本实用新型涉及涂布机技术领域,且公开了一种全精密双辊涂布机,解决了目前涂布辊对不同物品涂布时调节不便,以及涂布易造成不均匀和光滑度较差的问题,其包括机架,所述机架上端转动连接有传送带机构,本实用新型,通过调节辊组件的设置和刮板组件的设置,通过转动第三手轮驱动第二蜗杆带动安装块移动,从而调节调节辊与涂布辊之间的位置,使得涂料挤压覆盖均匀,另外转动第二手轮驱动第一转轴转动,调节刮板与涂布辊之间的间隙,从而保证了涂布辊上涂料的均匀,使得涂面更光滑,同时能够调节涂布涂料厚度;通过转动第一手轮带动蜗杆升降机构升降运动,能够调节涂布辊与传送带机构之间的距离,从而能够对不同厚度的物品进行涂布,且调节方便。
- 一种精密双辊涂布机
- [发明专利]扫描式光刻胶涂布系统及方法-CN201811055609.3在审
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吴明锋
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长鑫存储技术有限公司
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2018-09-11
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2020-03-17
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G03F7/16
- 本发明提供了一种扫描式光刻胶涂布系统及方法,所述扫描式光刻胶涂布系统包括:用于放置待涂布晶圆的晶圆承载台;多孔式光刻胶涂布头,包括内部设有容纳腔的涂布主体和与容纳腔连通且位于涂布主体下方的喷嘴;用于驱动多孔式光刻胶涂布头在待涂布晶圆的上方沿垂直于涂布主体长度方向的水平方向移动的第一驱动装置本发明所提供的扫描式光刻胶涂布方法通过使用多孔式光刻胶涂布头进行扫描式涂布,并通过匀胶旋转使待涂布晶圆表面的光刻胶厚度分布更为均匀,进而改善光刻特征尺寸在晶圆面内的均匀性,提升产品的良率。
- 扫描光刻胶涂布系统方法
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