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- [发明专利]一种组合物及其在有机电致发光器件的应用-CN202011308498.X在审
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曾礼昌;孙龙;李之洋;刘嵩
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固安鼎材科技有限公司
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2020-11-19
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2022-05-20
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H01L51/50
- " orientation="portrait" inline="yes" />R1～R6各自独立地表示H、卤素、氰基、硝基、取代或未取代的C1‑C20的烷基、取代或未取代的C6‑C30的芳基、取代或未取代的C3‑C30的杂芳基、取代或未取代的C3‑C20的环烷基、取代或未取代的C1‑C20的烷氧基、取代或未取代的C6‑C30的芳基氨基、或者取代或未取代的C3‑C30的杂芳基氨基，R1～R6的个数各自独立地为1以上的整数；R芳基、或者取代或未取代的C3‑C20的亚杂芳基；Ar1、Ar2、Ar3各自独立地为取代或未取代的C6‑C20的芳基、取代或未取代的C6‑C20的杂芳基、取代或未取代的C6‑C20的芳基氨基、或者取代或未取代的C3‑C20的杂芳基氨基，其中至少一个为缺电子基团。
- 一种组合及其有机电致发光器件应用
- [发明专利]作为KSP抑制剂的*唑和噻唑化合物-CN201180029282.2无效
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P·A·巴尔桑蒂;Y·丁;W·韩
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诺瓦提斯公司
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2011-04-13
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2013-06-12
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C07D263/32
- 本申请公开了式(I)的被取代的唑和噻唑化合物或其药学上可接受的盐，其中：R1选自烷基、支链烷基和被取代的烷基；R2选自氢、烷基和被取代的烷基；R3选自-L1-A1，其中L1选自-C(O)-、-C(S)-、-S(O)-和-S(O)2-且A1选自烷基、被取代的烷基、烷氧基、被取代的烷氧基、芳基、被取代的芳基、杂芳基、被取代的杂芳基、环烷基、被取代的环烷基、杂环烷基、被取代的杂环烷基和NR8R9；R4选自氢、烷基、被取代的烷基、链烯基、被取代的链烯基、炔基和被取代的炔基，以及任选被取代的吡咯烷基；或者R3和R4与它们所键合的氮原子一起形成其中任选地一个碳环原子选自O、S或NR11的5至7元的杂环烷基或被取代的杂环烷基；X是O或S；R6选自环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基，它们都可以任选被-(R10)m取代，其中R10如本文所定义，m是1、2、3或4，并且当m是2、3或4时，各R10可以相同或不同；R7是-L2-A2，其中L2是C1-C5亚烷基且A2选自芳基、被取代的芳基、杂芳基、被取代的杂芳基、环烷基、被取代的环烷基、杂环烷基和被取代的杂环烷基。
- 作为ksp抑制剂噻唑化合物
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