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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]反应腔室部件结构及反应腔室-CN201820317132.0有效
发明人：李一成;彭宇霖;曹永友 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-03-08 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种反应腔室部件结构，包括部件本体和氧化膜层，其中，部件本体采用5系铝合金材料制成；氧化膜层通过部件本体氧化形成。本实用新型还提供反应腔室。本实用新型可提高反应腔室部件的抗腐蚀性，从而可以提高反应腔室的使用寿命。
反应腔室部件本实用新型部件本体反应腔室氧化膜层铝合金材料使用寿命

[发明专利]反应腔室-CN201610239112.1在审
发明人：常大磊 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-04-18 - 公布日： 2017-10-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括基座、基座升降机构、机械压环和支撑件，其中，基座用于承载晶片。基座升降机构用于驱动基座上升至工艺位置或者下降至装卸位置。机械压环用于在基座位于工艺位置时将晶片固定在基座上。遮挡环用于遮挡压环和定位环暴露在反应腔室中的表面。本发明提供的反应腔室，其不仅可以避免机械压环的温度过高，还可以降低机械压环与基座之间的位置偏差，从而可以使晶片受力均匀，降低了碎片或卡滞的风险。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201410655635.5有效
发明人：聂淼 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-11-18 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括腔室侧壁和设置在腔室侧壁顶部的气体分配板，腔室侧壁的上表面与气体分配板的下表面相互间隔，且在二者之间设置有密封圈，该密封圈采用线接触的方式分别与腔室侧壁的上表面和气体分配板的下表面相接触本发明提供的反应腔室，其可以减小气体分配板和腔室侧壁之间的热传递，从而可以提高气体分配板和腔室侧壁的温控精度。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201410717031.9有效
发明人：袁福顺 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-12-01 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括基座和旋转机构，基座设置在反应腔室内，用以承载被加工工件；旋转机构通过旋转轴与基座连接，用以驱动基座围绕旋转轴旋转；旋转机构包括：端面跳动检测装置，其设置在基座上方，用于检测其分别与在基座上端面的同一圆周上的各个检测点之间的高度差值本发明提供的反应腔室，其旋转机构可以消除基座的端面跳动公差，从而可以提高基座上端面的水平度，以使其满足机械手成功取放片的要求。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201710218945.4有效
发明人：黄亚辉;李一成;刘建 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-04-05 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括腔体、调整支架、介质窗、上保护环和下保护环，其中，在调整支架的上表面与介质窗的下表面之间具有第一间隙，且在第一间隙中设置有第一密封圈；在调整支架的下表面与腔体的上表面之间具有第二间隙本发明提供的反应腔室，其不仅可以降低产生金属污染的风险，而且可以避免密封圈直接暴露在等离子体环境中。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201710117649.5有效
发明人：聂淼;韦刚;郭士选 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括接地的腔体，在腔体内设置有下电极和内衬组件，内衬组件包括衬环，衬环包括筒体和环形部，筒体的上端与腔体连接，并通过腔体接地；环形部水平设置在筒体的下端，且环绕在所述下电极的周围本发明提供的反应腔室，其可以有效地将经过该筛孔的等离子体在筛孔表面泯灭，从而可以避免射频泄漏。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201510777620.0有效
发明人：陈庆 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2015-11-13 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括基座和工件检测装置，其中，基座包括用于承载托盘的承载面，该托盘用于承载至少一个被加工工件。工件检测装置用于检测基座上是否放置有托盘，并发出有关是或者否的数字信号。本发明提供的反应腔室，其可以通过直接读取该数字信号就可以判断出基座上是否放置有托盘，从而即使软件系统突发故障或异常等情况，仍然可以准确并及时地判断反应腔室内是否有托盘，进而可以提高设备的可靠性。
托盘反应腔室工件检测装置数字信号被加工工件承载托盘软件系统突发故障直接读取承载面反应腔承载室内检测

[发明专利]反应腔室-CN201610545524.8有效
发明人：张伟涛 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括传片口、基座、压环、内门和压环升降机构，其中，传片口设置在反应腔室的侧壁上，基座设置在反应腔室内，用以承载晶片；压环用于通过压住晶片将其固定在基座上。本发明提供的反应腔室，其可以解决设备结构复杂、制造成本高、腔室泄漏风险高以及因副产物颗粒积累造成内门运动故障的问题。
反应

[发明专利]反应腔室-CN200710120361.X有效
发明人：张庆钊 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2007-08-16 - 公布日： 2009-02-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔室，包括侧壁，侧壁上设有进气通道，进气通道可以直接设于侧壁的上部，也可以在侧壁的上部设进气环，进气环上设有进气通道，进气通道包括供气孔、匀气槽和多个进气孔，工艺气体可依次通过供气孔、匀气槽和多个进气孔进入反应腔室的内部，进行加工工艺。可以有效的改进进气方式，使气体在腔室中分布更加均匀，有效的提高了刻蚀后晶片表面图形的均匀一致性，优化了机台刻蚀性能。
反应

[发明专利]反应腔室-CN200710121288.8有效
发明人：赵梦欣 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2007-09-03 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔室，包括内衬，内衬的侧壁设有接触法兰，接触法兰与反应腔室的内壁紧密接触。反应腔室的内壁设有台阶，接触法兰固定在台阶上。通过内衬下部的接触法兰在真空条件下与反应腔室壁连接，继而增大内衬在真空条件下的导热率，使内衬具有热稳定性，减少了内衬中在射频电源循环开及关时产生的温度波动，有利于刻蚀的稳定进行。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201410718474.X有效
发明人：刘菲菲 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-12-01 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括可作升降运动的升降基座，用于通过上升或下降将被加工工件传输至工艺位置或者装卸位置；该反应腔室还包括：升温加热器，用于在升降基座位于装卸位置时，使被加工工件的温度快速升温至所需温度本发明提供的反应腔室，其不仅可以提高加热效率，而且可以精确地控制被加工工件的温度。
反应

[发明专利]反应腔室-CN202010152523.3有效
发明人：徐刚 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-03-06 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本发明公开一种反应腔室，包括：腔体，腔体与上盖通过绝缘部相连，且腔体与上盖形成内腔，上盖开设有与内腔连通的通孔；进气机构包括第一绝缘块、第二绝缘块、进气管和法兰盘，进气管的一端与法兰盘相连，第一绝缘块的至少部分处于通孔，且第一绝缘块背离内腔的一侧开设有容纳空间，第二绝缘块设置于容纳空间，法兰盘设置于容纳空间的开口，第二绝缘块开设有第二进气孔，进气管与第二进气孔连通，第一绝缘块开设有第一进气孔，第一进气孔的一端与第二进气孔连通，第一进气孔的另一端与内腔连通，在通孔的轴线方向上，第一进气孔的投影处于第二进气孔的投影之外。本方案解决现有的反应腔室内部容易发生意外打火的问题。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201910706810.1有效
发明人：邓晓军 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括腔体、设置在腔体内的基座，还包括进气装置，该进气装置包括与所述基座的承载面相垂直的出气面，出气面上设置有中心出气口组、中间出气口组和边缘出气口组；其中，中心出气口组、中间出气口组和所述边缘出气口组分别与基座的中心区域
反应

[发明专利]反应腔室-CN201810563223.7有效
发明人：杨帅;董金卫;杨慧萍 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-06-04 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供的反应腔室，包括：腔体，在所述腔体中设置有通孔；进气管，通过所述通孔延伸至所述腔体内；第一限位结构，设置在所述腔体的内侧；第二限位结构，设置在所述进气管上，且与所述第一限位结构相配合，以限制所述进气管的轴向旋转和径向平移本发明提供的反应腔室，其可以使进气管的固定稳定，从而可以提高反应气体在反应腔室内分布的均匀性，且不易破坏进气管。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201810876538.7有效
发明人：董金卫 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括腔体和设置在腔体底部的底板，还包括保护结构，保护结构位于腔体与底板的对接处的内侧，用于将底板与腔体的内部隔离；并且，腔体的底壁、保护结构朝向腔体的内周壁的表面与底板朝向腔体内部的表面环绕形成隔离空间，可通过向隔离空间中通入保护气体，来阻挡反应腔室中的腐蚀性气体接触底板。本发明提供的反应腔室能够防止腐蚀性气体腐蚀金属盘，从而避免反应腔室中的晶圆受到腐蚀物的污染。
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