专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种P型ZnO薄膜制备方法-CN201810003796.4有效
  • 张心予 - 奥普家居股份有限公司
  • 2018-01-03 - 2021-05-18 - C23C14/08
  • P型ZnO薄膜不易制得;本发明提供了一种P型ZnO薄膜制备方法,包括以下步骤,步骤A:将Mg3N2和ZnO分别放置于反应室内的靶材基板上,并在两者之间用挡板隔开分别形第一反应区和第二反应区;衬底基板上放有表面清洗干净的衬底;衬底基板可旋转并在旋转时带着衬底在两反应区之间周期性循环;步骤B:确定反应反应条件;步骤C:旋转衬底基板使衬底在两反应区之间周期性循环250‑350次;在此循环期间衬底表面交替溅射生长出ZnO薄膜,最终所得P型ZnO薄膜的厚度在300‑350nm之间;步骤C中,在衬底的一个循环周期内,衬底位于第一反应区内的时间为0.1‑6s,衬底位于第二反应区内时间为
  • 一种zno薄膜制备方法
  • [发明专利]半导体生产设备自清洗方法及栅极字线结构制备方法-CN201810279061.4有效
  • 不公告发明人 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2018-03-30 - 2021-10-22 - H01J37/32
  • 本发明一种半导体生产设备的自清洗方法,半导体生产设备包括一膜沉积反应腔室,自清洗方法包括:对反应腔室进行周期性快速变压处理,使压强呈第一气压及第二气压交替循环变化,使得形成于反应腔室内壁的薄膜在快速变压处理下剥落,第一气压大于第二气压,降至第二气压的抽低压过程中,剥落的薄膜颗粒随抽低压气流自反应腔室内排出,通过上述方案,本发明采用周期性快速变压处理,使反应腔室中加入低压循环,使内壁的微粒薄膜剥落,同时进行微波装置反复开关,将吸附在反应腔室内壁上未完全反应的气体及副产物解离,避免生成异质薄膜而产生多余微尘,通过重复抽低压及清洗气体将剥落的微粒带走,提高产品的良率,降低机台维护周期及降低生产成本。
  • 半导体生产设备清洗方法栅极结构制备
  • [实用新型]一种3-氟-4-羟基哌啶-羧酸叔丁酯生产用反应装置-CN202122832087.7有效
  • 何为 - 南京道尔顿化学技术有限公司
  • 2021-11-18 - 2022-05-24 - B01J19/18
  • 本实用新型公开了一种3‑氟‑4‑羟基哌啶‑羧酸叔丁酯生产用反应装置,涉及化工产品生产设备技术领域,包括反应釜壳体,反应釜壳体顶部的中央位置处固定安装有伸缩气缸,伸缩气缸底部输出端延伸到反应釜壳体的内腔中并且固定安装有吊装架,吊装架的底部位置固定有弧形板,弧形板内部均匀开设有贯穿弧形板的通孔,弧形板的截面设置为弧形,且弧形结构的开口方向朝上;该3‑氟‑4‑羟基哌啶‑羧酸叔丁酯生产用反应装置通过PLC控制器启动伸缩气缸周期性伸缩带动吊装架随之周期性上下移动,吊装架带动弧形板同步移动从而在通孔的作用下使得反应液利用重力自动向下流动从而通过多次周期反复使得反应液混合均匀,混合效率大幅提高。
  • 一种羟基哌啶羧酸叔丁酯生产反应装置
  • [发明专利]天然碱电离苛化法制烧碱工艺及设备-CN89105756.0无效
  • 曾智 - 曾智
  • 1989-09-02 - 1994-03-30 - C01D1/22
  • 它由纯碱与石灰乳反应生成氢氧化钠及碳酸钙沉淀。此法反应速度缓慢,生产周期长,耗能高。本发明在反应液中通入直流电电离,促进反应物解离,从而加速反应,原反应需48小时,电离法只需6小时,大大缩短生产周期,且反应完全,原材料利用率高,可降低成本,降低能耗,专用设备为塔式电离反应器,其正、负电离栅由不锈钢制成网状结构
  • 天然碱电离法制烧碱工艺设备
  • [发明专利]一种三乙基铝的生产方法-CN201010153878.0有效
  • 张海青 - 浙江福瑞德化工有限公司
  • 2010-04-22 - 2010-08-18 - C07F5/06
  • 其特征在于包括以下工艺步骤:1)物料混合及氢化反应;2)氢气闪蒸;3)乙基化反应;4)乙烯闪蒸;5)减压精馏;6)提纯。本发明优点在于:氢化反应压力进一步提高,反应釜压力达到12-20MPa,使溶在反应液中的氢气浓度增多,从而使反应时间降低,降低了整个反应周期;氢化反应温度降低,控制氢化反应釜内温度为100-132℃,使反应更容易控制,且使三乙基铝分解反应不易发生;氢化反应的容器为高/径比小于1.3的高压反应釜,反应釜搅拌为四层搅拌,高径比降低,使物料更容易搅拌均匀,从而缩短反应时间;反应周期缩短10%以上,进而效率提高
  • 一种乙基生产方法
  • [发明专利]周期性UVC配给-CN202080059456.9在审
  • C·斯库利;A·W·米勒;R·M·玛丽塔;L·J·朔瓦尔特 - 晶体公司
  • 2020-08-25 - 2022-06-07 - C02F1/32
  • 一种用于对水进行消毒的光反应器包括至少一个壁,所述至少一个壁限定了被配置为容纳流体的腔室。反应器还包括供水流入所述腔室的入口和供水离开所述腔室的出口。反应器还包括UVC LED。所述激活持续时间和所述未激活持续时间限定一周期。所述反应器还包括控制器,所述控制器被配置为设置所述周期的占空比,其中所述占空比是所述激活持续时间与所述周期的比率。占空比小于或等于约1:100。
  • 周期性uvc配给

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