专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种聚醚羧酸化合物及其制备方法-CN202110466899.6在审
  • 曾永昌;宫秀明 - 东莞泰岳光学镀膜材料有限公司
  • 2021-04-28 - 2021-10-19 - C08G65/332
  • 本发明涉及高分子化合物合成技术领域,具体涉及一种聚醚羧酸化合物及其制备方法。一种聚醚羧酸化合物的制备方法,包括如下步骤:(1):将聚醚醇完全溶解于溶剂中;(2):加入环状酸酐和催化剂,升温至40‑80℃回流反应2‑5h,水洗;(3):减压蒸馏得到聚醚羧酸化合物;所述的溶剂为能溶解聚醚的含溶剂本发明的聚醚羧酸化合物的制备方法合成路线短,且没有强刺激性溶剂和金属盐产生。一种聚醚羧酸化合物,该化合物纯度高,可发生醇解和氨解生成对应的酯和酰胺等衍生物,可以进一步制备聚醚硅氧烷等化合物,是具有广泛用途的中间体。
  • 一种全氟聚醚羧酸化合物及其制备方法
  • [发明专利]一种除去聚醚羧酸中金属离子杂质的方法-CN202110552088.8有效
  • 李永斌;何龙龙 - 甘肃华隆芯材料科技有限公司
  • 2021-05-20 - 2022-11-04 - C08G65/30
  • 本发明属于电子化学品领域,具体涉及一种除去聚醚羧酸中金属离子杂质的方法,包括以下步骤:(1)将聚醚羧酸与水混合,得到混合液;(2)向步骤(1)制得的混合液中加入碱液,在室温下反应3~5h,得到聚醚羧酸盐溶液;(3)将步骤(2)制得的聚醚羧酸盐溶液通过阳离子交换树脂柱,收集流出液;(4)向步骤(3)的流出液中加入酸液,室温下反应30~60min,反应结束后,静置分层,收集下层液,即得电子级聚醚羧酸。本发明通过将腐蚀性较强的聚醚羧酸转化为盐溶液,然后通过串联的离子交换树脂除聚醚羧酸中的金属离子杂质,有效的去除了金属离子杂质,使聚醚羧酸成为符合SEM I‑C1标准的电子级产品。
  • 一种除去全氟聚醚羧酸金属离子杂质方法
  • [发明专利]表面处理剂-CN202280010907.9在审
  • 茂原健介;野村孝史;前平健 - 大金工业株式会社
  • 2022-01-28 - 2023-09-12 - C09K3/18
  • 本发明提供一种表面处理剂,该表面处理剂含有含聚醚的硅烷化合物、含聚醚的化合物和溶剂,相对于上述含聚醚的硅烷化合物、上述含聚醚的化合物和上述溶剂的合计量,上述含聚醚的硅烷化合物的含量为0.02~50.0质量%,上述含聚醚的化合物的含量为0.1~95.0质量%,上述溶剂的含量为1~99.88质量%,上述含聚醚的硅烷化合物为式(1)或(2)所示的含聚醚的硅烷化合物,上述含聚醚的化合物的沸点为
  • 表面处理
  • [发明专利]一种高耐磨抗指纹助剂及其制备方法和应用-CN201910924828.9有效
  • 王权 - 新恒东薄膜材料(常州)有限公司
  • 2019-09-27 - 2023-04-07 - C09D5/16
  • 本发明属于助剂技术领域,具体涉及一种高耐磨抗指纹助剂及其制备方法和应用,由如下重量份的各组分组成:聚醚硅烷20‑30份、有机硅氧烷10‑30份、烷氧基金属盐0.05‑2份、溶剂30‑60份、水0.1本发明中含有聚醚硅烷和有机硅氧烷,添加到涂料中后可在涂层表面形成一层高硬度、高耐磨的有机硅层和致密的聚醚层,可有效提高涂层表面水滴角,提高抗指纹效果;助剂中的聚醚硅烷和有机硅氧烷之间反应可获得一为具有可反应官能团的有机硅结构、另一聚醚链段的结构,将助剂添加到涂料中后,具有可反应官能团的一可与体系发生键合,形成化学键,使聚醚链段牢固地存在于体系内,避免抗指纹效果不稳定、长期使用后各项性能下降等问题。
  • 一种耐磨指纹助剂及其制备方法应用

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