专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测厚系统、测厚方法及计算机可读存储介质-CN202210346009.2在审
  • 晏亮杰;石钦鹏 - 宁德时代新能源科技股份有限公司
  • 2022-04-02 - 2023-03-21 - G01B15/02
  • 本申请涉及一种测厚系统、测厚方法及计算机可读存储介质,测厚系统,包括发生探测,用于对目标件进行测厚,以得到测量厚度值;位移检测,用于检测发生探测之间的位移变化,并得到对应的检测信号;控制,与发生探测及所述位移检测通讯相连,用于根据检测信号计算得到一补偿量,以使测量厚度值更趋近于实际厚度值。通过该补偿量,能够补偿发生探测测量的目标件的测量厚度值,进而使测量厚度值趋近于目标件的实际厚度值。故能够实时检测发生探测之间的位移变化,并对测量厚度进行补偿,因此,提高了厚度检测精度。
  • 系统方法计算机可读存储介质
  • [发明专利]红外探测、混成芯片及其背减薄划痕处理方法-CN202110503440.9在审
  • 李海燕;曹凌霞 - 中国电子科技集团公司第十一研究所
  • 2021-05-10 - 2021-10-01 - H01L21/304
  • 本发明公开了一种红外探测、混成芯片及其背减薄划痕处理方法。红外探测混成芯片背减薄划痕处理方法,包括:将红外探测混成芯片减薄至预设厚度;去除减薄至预设厚度的红外探测混成芯片中光敏芯片的边缘区域;将去除光敏芯片边缘区域的红外探测混成芯片磨抛至目标厚度,预设厚度大于目标厚度采用本发明,通过将红外探测混成芯片减薄至预设厚度,实现大部分光敏芯片厚度的去除,混成芯片因一部分的应力释放面型情况会得到优化,整体平面度会得到提高。另外,增加刻蚀或腐蚀工艺,形成光滑的光敏芯片器件边缘,降低在后续磨抛工艺中出现材料渣、划痕的可能性,同时通过几十微米厚度的去除,去除前面减薄过程中出现的划道。
  • 红外探测器混成芯片及其背减薄划痕处理方法
  • [发明专利]一种汽车刹车片的厚度检测装置-CN202110392355.X在审
  • 陈林;徐超;周强 - 绍兴五创电子科技有限公司
  • 2021-04-13 - 2021-10-19 - G01B17/02
  • 本发明公开了一种汽车刹车片的厚度检测装置,包括若干个厚度检测头,所述厚度检测头包括底座、超声波距离探测、控制和保护套筒,所述底座固定在汽车刹车卡钳的支撑板之上,所述超声波距离探测固定在底座之外且探测端朝向汽车刹车盘设置,所述保护套筒套设在超声波距离探测之外且可在底座和汽车刹车盘之间水平弹性移动,所述超声波距离探测和控制电连接,通过在厚度检测头的超声波距离探测之外设置保护套筒,从而对超声波距离探测起保护作用,同时通过环绕设置若干个偏离检测头,在厚度检测工作进行期间,实时检测汽车刹车片的磨损程度是否均一。
  • 一种汽车刹车片厚度检测装置
  • [发明专利]一种点状三维球状超小电容半导体探测模型及应用-CN202010855518.9在审
  • 刘曼文;李正 - 鲁东大学
  • 2020-08-24 - 2020-11-03 - G01T1/24
  • 本发明属于电极探测技术领域,公开了一种点状三维球状超小电容半导体探测模型及应用,探测模型中央电极的半径约为10微米,球状外围电极的宽度约为10微米,探测的半径约为60微米。本发明中点状三维球状超小电容半导体探测模型对比二维探测,耗尽电压将不会再受到探测晶元厚度的限制,仅与电极间距,即本专利探测的半径有关。对比其他三维电极探测,电场分布不会有因无法耗尽而存在的低电场区。对比其他三维电极探测,本发明探测的电场分布更均匀,更理想。探测厚度可作为一个参数灵活设计,可大大增加探测探测效率。
  • 一种三维球状电容半导体探测器模型应用
  • [发明专利]一种基于微腔结构的光电探测、阵列及其制备方法-CN202310630353.9在审
  • 郝璐;杨喜业;董升;黄飞 - 广州光达创新科技有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-07-21 - H10K30/60
  • 本发明提供了一种基于微腔结构的光电探测、阵列及其制备方法。所述基于微腔结构的光电探测,包括玻璃基底、光电探测微腔;其中,所述光电探测微腔包括由一个透射电极层、一个全反射电极层的形成的反射镜,厚度调控层和光敏层;通过设置多个不同厚度的光电探测微腔,可形成半峰宽较小的窄带的光电探测不同厚度的调控层可以具备导电性,高透过率,可以精细调控每个光电探测中光敏层到两个反射镜之间的距离,实现光电探测对入射光线中吸收响应增强波段的有效区分,在距离反射镜厚度不同的光腔内,入射光多次反射,对于特定波长响应增强,形成谐振波,而且单个光电探测即仅对特定波长响应增强,有效滤光,峰宽较小。
  • 一种基于结构光电探测器阵列及其制备方法
  • [发明专利]用于探测放射源方位的探测装置-CN202211091301.0在审
  • 唐北曦;刘意;何雨;黄锦凤;吴俊 - 重庆建安仪器有限责任公司
  • 2022-09-07 - 2022-11-25 - G01T1/02
  • 本发明公开了一种用于探测放射源方位的探测装置,包括圆形壳体,在壳体内设有主控板、探测和屏蔽块,所述屏蔽块由固定连接的上屏蔽铅块和下屏蔽铅块组成,所述上屏蔽铅块和下屏蔽铅块均呈弧形,分别置于屏蔽块中心线两侧,且上屏蔽铅块的厚度从左向右逐渐增大,下屏蔽铅块的厚度从左向右逐渐减小;所述探测设有两个,分别为上探测和下探测,所述上探测和下探测均呈圆柱状,呈上下设置,分别置于上屏蔽铅块、下屏蔽铅块所形成的半包围空间内;每个探测均与主控板相接,用于采集环境中的γ射线,并产生脉冲数后传递到主控板上,由主控板根据各个探测所反馈的脉冲数、所采集γ射线对应铅衰减厚度,判断放射源所发出γ辐射线方位。
  • 用于探测放射源方位装置

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