专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉-CN202210461291.9在审
  • 程晨 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2022-04-28 - 2022-07-22 - C23C16/44
  • 本发明提供一种半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉,炉门本体用于对半导体工艺炉的炉体进行密封,炉门本体中设置有气冷通道,气冷通道均匀分布在炉门本体中,气冷通道用于供预设温度的冷却气体通入,冷却气体包括在预设温度下为气态的工艺副产;检测组件用于检测气态的工艺副产是否在气冷通道中冷凝;加热部件设置在炉门本体上,用于在检测组件检测到气态的工艺副产在气冷通道中冷凝时,对炉门本体进行加热,直至工艺副产恢复为气态。本发明提供的半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉,能够减少工艺副产冷凝颗粒及金属离子的产生,从而能够改善工艺结果,并能够延长零部件的使用寿命,从而能够提高工艺炉的利用率。
  • 半导体工艺炉门
  • [发明专利]颜料组合物的制造方法-CN201680059412.X有效
  • 阿部秀一;小田齐;岩崎俊哉;成田将之 - 花王株式会社
  • 2016-10-04 - 2020-03-20 - C09B67/54
  • 本发明涉及:[1]一种颜料组合物的制造方法,其具有对含有PY74和特定的副产的原料颜料组合物进行氧化剂处理的工序,使处理后的颜料组合物中特定的副产的含量相对于PY74的含量为1,200mg/kg以下;[2]一种颜料组合物的制造方法,其具有对含有PY74、特定的副产和水的原料颜料组合物进行过氧化氢处理的工序;[3]通过对含有PY74和特定的副产的原料颜料组合物进行氧化剂处理,降低该原料颜料组合物中的副产的含量的方法
  • 颜料组合制造方法
  • [发明专利]一种半导体设备和清洗方法-CN202110327094.3有效
  • 张高升;詹昶 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-03-26 - 2022-04-01 - H01L21/67
  • 本发明提供一种半导体设备和清洗方法,包括:反应腔室,反应腔室用于对晶圆进行处理工艺;真空泵,真空泵通过排气管路与反应腔室的第一端连接,真空泵用于抽取反应腔室内的副产;以及与排气管路连接的第一远程等离子体清洗装置,第一远程等离子体清洗装置用于清洗排气管路中的副产。这样,通过在反应腔室与真空泵之间的排气管路上连接第一远程等离子体清洗装置,第一远程等离子体清洗装置产生的等离子体进入排气管路中,并与排气管路中的副产反应,从而达到清洗排气管路中的副产的目的,避免副产堵塞排气管路
  • 一种半导体设备清洗方法

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