专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于测试磁性薄膜材料力和磁耦合的测试装置及测试方法-CN201210592322.0有效
  • 张兴义;刘聪;周军;周又和 - 兰州大学
  • 2012-12-31 - 2013-04-24 - G01R33/12
  • 本发明公开了一种用于测试磁性薄膜材料力和磁耦合的测试装置及检测方法,包括光源、起偏镜、检偏镜、第一分光镜、第二分光镜、第一光栅、第二光栅、透镜、过滤屏、第一光线采集装置和第二光线采集装置,所述第一分光镜、第二分光镜、第一光栅、第二光栅、透镜、过滤屏和第一光线采集装置顺序排列在一水平直线上,所述光源、起偏镜设置在第一分光镜的一侧,且光源、起偏镜和第一分光镜处于同一水平直线上,所述第二光线采集装置和检偏镜设置在第二分光镜的一侧,且第二光线采集装置、检偏镜和第二分光镜处于同一水平直线上。
  • 用于测试磁性薄膜材料耦合装置方法
  • [实用新型]光纤激光光谱合成装置-CN201621112245.4有效
  • 马平;鄢定尧;张明骁;蒲云体;乔曌 - 成都精密光学工程研究中心
  • 2016-10-11 - 2017-05-03 - H01S3/23
  • 光纤激光光谱合成装置包括光纤激光器和准直透镜,光纤激光器上设有位移控制台;还包括沿光路设置的超棱镜薄膜分光镜和位移反馈系统,分光镜上设有位置调整系统;光纤激光器、位移控制台、位置调整系统及位移反馈系统由主控系统控制本实用新型用单组器件实现多入射光束合成,避免级联,合束装校难度小,系统稳定性高;超棱镜薄膜元件对激光能量吸收较低,有利于提升激光负载能力;超棱镜薄膜器件相对于光栅类器件对偏振特性依赖较小,有利于对器件进行偏振无关的优化
  • 光纤激光光谱合成装置
  • [发明专利]一种基于红外成像的薄膜测厚仪-CN201310073337.0有效
  • 赵斌;曹智颍;汪琛;陈海平 - 华中科技大学
  • 2013-03-08 - 2013-06-26 - G01B11/06
  • 本发明公开了一种基于红外成像的薄膜测厚仪,包括光源、准直透镜、分光棱镜、参考路散射玻璃、参考路红外滤光片、参考路反射镜、测量路散射玻璃、测量路红外滤光片、测量路反射镜、半透半反分光镜、成像透镜、CCD;测量时参考物经反射镜、分光镜和成像透镜成像到CCD光敏面,被测物经反射镜和成像透镜也成像到CCD光敏面,CCD将图像传送至计算机,经图像处理后根据图像的灰度值求得被测物的厚度;如此形成双光路测量系统,避免了光源光强变化的影响;使用散射光透射成像的测量体系,避免了传统红外测厚装置中存在的干涉影响;设置具有多个局部标准厚度的参考物,该装置可以获取参考物各个局部标准厚度,从而能够更加精确地测量薄膜厚度。
  • 一种基于红外成像薄膜测厚仪
  • [发明专利]连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置-CN200810061918.1无效
  • 高秀敏;王健 - 杭州电子科技大学
  • 2008-05-27 - 2008-10-29 - G01N21/25
  • 现有装置采用线型精细腔,光机定位要求高、结构复杂,不能对薄膜、界面等进行测试。本发明将相干光源出射光束分成具有不同偏振特性的两束,一束偏振光经过光学调制与控制构成测量光束,另一束经过频率调控形成锁模光束,两束光经过偏振分光镜统一路径后,入射单一光学元件构成的环形高精细度腔,出射光束经过偏振分光分光本发明精细腔构成简单,只有一个光学元件,结构简单稳定,对机械定位要求低,并且光谱分析测量对象可为薄膜、界面、纳米物质、流体。
  • 连续近场光腔衰荡光谱分析装置
  • [实用新型]紫外可见分光光度计用的载具结构-CN201420072843.8有效
  • 侯海虹;张洋;刘鑫锋;潘飞;殷文宇;潘启勇 - 常熟理工学院
  • 2014-02-20 - 2014-07-23 - G01N21/01
  • 一种紫外可见分光光度计用的载具结构,属于被测试物承载器具技术领域。紫外可见分光光度计包括一托盘,在该托盘上以间隔状态开设有一组托盘插孔,载具结构包括一底板、一抓捏装置和一定位装置,抓捏装置构成于所述底板的高度方向的上端,定位装置构成于底板的高度方向的下端并且与所述的托盘插孔插拔配合由构成于底板下端的定位装置与托盘插孔插拔配合,由透明体满足被测薄膜的附着,由构成于底板上端的抓捏装置满足操作要求,因而整体结构简单并且使用方便,使紫外可见分光光度计得以对薄膜类试样的透光率检测。
  • 紫外可见分光光度计结构
  • [实用新型]一种连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置-CN200820087750.7无效
  • 高秀敏;王健 - 杭州电子科技大学
  • 2008-05-27 - 2009-03-18 - G01N21/25
  • 现有技术采用线型精细腔,光机定位要求高、结构复杂,不能对薄膜、界面等进行测试。本实用新型将相干光源出射光束分成具有不同偏振特性的两束,一束偏振光经过光学调制与控制构成测量光束,另一束经过频率调控形成锁模光束,两束光经过偏振分光镜统一路径后,入射单一光学元件构成的环形高精细度腔,出射光束经过偏振分光分光本实用新型精细腔构成简单,只有一个光学元件,结构简单稳定,对机械定位要求低,并且光谱分析测量对象可为薄膜、界面、纳米物质、流体。
  • 一种连续近场光腔衰荡光谱分析装置
  • [发明专利]激光退火装置及其激光退火方法-CN200410006473.9有效
  • 曹义昌;张志雄 - 友达光电股份有限公司
  • 2004-03-08 - 2005-01-05 - H01L21/324
  • 该激光退火装置是适于对一非晶硅薄膜进行激光退火,该非晶硅薄膜是区分为一第一区域以及第一区域以外的一第二区域。该激光退火装置,主要是由一激光光源模组、一分光组件、一第一光罩与一第二光罩所构成。其中激光光源模组提供一激光束,分光组件将该激光束分成一第一激光束与一第二激光束。第一光罩是配置于第一激光束的光路上且位于非晶硅薄膜之前。第二光罩是配置于第二激光束的光路上且位于非晶硅薄膜之前。而且,第一激光束是照射于第一区域,而第二激光束是在第一区域的非晶硅薄膜完成再结晶后接续照射于第二区域。
  • 激光退火装置及其方法
  • [发明专利]显示系统、汽车及控制方法-CN202211654527.7在审
  • 章波;张庆训;赵文卿;陈东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-05-12 - G02B27/01
  • 本申请实施例提供了一种显示系统、汽车及控制方法,包括:前挡风玻璃、衍射薄膜和投影单元;所述衍射薄膜设于所述前挡风玻璃的内侧表面;所述投影单元设于所述内侧表面所在的一侧,用于向所述衍射薄膜投射对应于投射图像的入射光线;所述衍射薄膜用于将所述入射光线中的部分光线进行反射,以使经所述衍射薄膜反射后的入射光线投射至目标区域,经所述衍射薄膜反射后的入射光线在用户视野中形成对应于所述投射图像的虚像,以及所述衍射薄膜用于将穿过所述衍射薄膜的所述入射光线衍射并进入所述前挡风玻璃
  • 显示系统汽车控制方法
  • [发明专利]一种硅片薄膜的生长方法-CN201110172057.6有效
  • 郭晓波;王雷;孟鸿林 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2011-06-23 - 2012-12-26 - H01L21/66
  • 本发明公开了一种硅片薄膜的生长方法,包括:测得一控制硅片中央位置与周边位置的薄膜厚度比;利用所述厚度比在硅片上进行第一次薄膜生长;在第一次生长的薄膜上进行光刻胶旋涂;利用硅片周边曝光系统对硅片周边位置进行曝光,经显影后将部分光刻胶去除;通过刻蚀将硅片部分薄膜去除;去除剩余的光刻胶后,利用所述厚度比进行第二次薄膜生长,通过两次薄膜生长使薄膜达到要求的厚度。本发明所述硅片薄膜的生长方法,能使硅片上生长的薄膜其中央位置和周边位置的薄膜厚度一致,减少硅片周边芯片的失效率,提高产品的成品率。
  • 一种硅片薄膜生长方法

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