专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果41个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]涂布装置、检测方法及涂布工艺设备-CN202310852908.4在审
  • 朱鹏学;王卫东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-07-12 - 2023-10-27 - G01N21/90
  • 本发明公开一种涂布装置、检测方法及涂布工艺设备,涂布装置包括安装机架、液晶储存罐、驱动机构、光源和图片拍摄器;所述液晶储存罐设置于所述安装机架;所述驱动机构的固定端与所述安装机架相连接,所述驱动机构的驱动端与所述光源和所述图片拍摄器相连接;所述驱动机构可驱动所述光源和所述图片拍摄器伸入所述液晶储存罐内,并沿所述液晶储存罐的轴线方向运动;所述光源用于照射所述液晶储存罐的内侧表面,所述图片拍摄器用于拍摄所述光源所照射的区域,以获得检测图片;所述检测图片用于判断所述液晶储存罐是否清洗干净。上述方案能够解决涂布工艺的良品率较差的问题。
  • 装置检测方法工艺设备
  • [发明专利]曲面补偿膜及曲面补偿膜的制备方法-CN202310930787.0在审
  • 安志强;怀和 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-07-26 - 2023-10-24 - G02F1/13363
  • 本申请公开了一种曲面补偿膜及曲面补偿膜的制备方法,涉及液晶显示技术。一种曲面补偿膜,包括:曲面基底、配向层、第一液晶层和第二液晶层;所述曲面基底包括内凹面,所述配向层设于所述内凹面,所述第一液晶层设于所述配向层背离所述内凹面的一侧,所述第二液晶层设于所述第一液晶层背离所述配向层的一侧;所述第一液晶层具有水平平面内同一配向方向,所述第二液晶层具有垂直于所述水平平面的螺旋结构。本申请可以改良曲面屏的显示品质,并降低多层补偿膜的贴敷次数,使得在制造操作、成本还是良率方面均得到有效提升。
  • 曲面补偿制备方法
  • [发明专利]用于涂布工艺的除异物装置及涂布工艺设备-CN202310749899.6在审
  • 王卫东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-06-21 - 2023-10-13 - B08B5/02
  • 本发明公开一种用于涂布工艺的除异物装置及涂布工艺设备,所述除异物装置用于清除待涂布膜材的涂布表面上附着的异物;所述除异物装置包括安装基体、超声波发生器和吹扫件;所述超声波发生器和所述吹扫件均与所述安装基体相连接,所述除异物装置具有超声波发射口和吹扫口,所述超声波发射口和所述吹扫口均朝向所述涂布表面;所述超声波发射口和所述吹扫口沿所述待涂布膜材的运动方向间隔分布;所述超声波发生器通过所述超声波发射口用于向所述涂布表面发射超声波;所述吹扫件通过所述吹扫口用于向所述超声波发生器处理后的所述涂布表面通吹扫气体。上述方案能够解决涂布工艺的良品率较差问题。
  • 用于工艺异物装置工艺设备
  • [发明专利]膜生产设备以及生产方法-CN202310798081.3在审
  • 贾长建 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-10-13 - B32B37/10
  • 本申请提供了一种膜生产设备以及生产方法,涉及机械技术领域,解决目前膜与膜在贴合过程中容易出现偏移,从而导致不良贴合,造成生产成本较高的技术问题。所述膜生产设备包括贴合辊、CCD设备以及纠偏辊;其中,所述贴合辊用于将第一膜和第二膜进行贴合,得到贴合膜;所述CCD设备用于获取所述贴合膜中所述第一膜和所述第二膜之间的偏移量;所述纠偏辊用于根据所述偏移量对所述第一膜和/或所述第二膜进行调整,以使所述第一膜和所述第二膜之间的偏移量减小。
  • 生产设备以及方法
  • [发明专利]用于光学膜的异物检测装置、方法及光学膜涂布装置-CN202310707564.8在审
  • 王卫东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-06-14 - 2023-09-29 - G01N21/94
  • 本申请属于异物检测设备技术领域,具体涉及一种用于光学膜的异物检测装置、方法及光学膜涂布装置。该异物检测装置用于检测光学膜上的异物,其包括依次设置的光源、第一偏光片、第二偏光片和图像获取装置,第一偏光片与第二偏光片之间具有检测空间,且第一偏光片的吸光轴与第二偏光片的吸光轴垂直,在光学膜位于检测空间内的情况下,图像获取装置可获取白色图像或者黑色图像,异物可在白色图像中呈现出黑点以及在黑色图像中呈现出白点。采用本申请的异物检测装置可解决目前无法检测出光学膜上的粒径为10μm以下的异物的问题。
  • 用于光学异物检测装置方法膜涂布
  • [发明专利]用于涂布工艺的彩虹纹检测装置、方法及涂布工艺设备-CN202310652611.3在审
  • 王卫东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-29 - G01N21/956
  • 本发明公开一种用于涂布工艺的彩虹纹检测装置、彩虹纹检测方法及涂布工艺设备,彩虹纹检测装置包括光源(100)、图片拍摄器(200)和图片处理器(300);所述光源(100)用于照射待检测膜材(700)的待检测区域;所述图片拍摄器(200)用于拍摄所述待检测区域,以获得待对比图片,所述图片拍摄器(200)与所述图片处理器(300)通信连接,所述图片拍摄器(200)所获得的所述待对比图片可传输至所述图片处理器(300),所述图片处理器(300)用于将所述待对比图片与标准图片进行对比,以得到图片对比信息,根据所述图片对比信息判断所述待检测膜材(700)是否生成彩虹纹。上述方案能够解决涂布工艺的良品率较差问题。
  • 用于工艺彩虹检测装置方法工艺设备
  • [发明专利]位相延迟结构及显示装置-CN202310666433.X在审
  • 章波;张庆训;陈东;王建;周志华;田浩 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-06-06 - 2023-09-29 - G02B5/30
  • 本申请公开了一种位相延迟结构及显示装置,涉及显示技术领域。一种位相延迟结构,包括:线偏振片、第一相位差膜和第二相位差膜,所述第一相位差膜和所述第二相位差膜层叠设置,所述线偏振片叠置于所述第一相位差膜背离所述第二相位差膜的一侧;所述第一相位差膜及所述第二相位差膜中的一者具有平行排列的液晶分子,另一者具有倾斜排列的液晶分子;所述第一相位差膜及所述第二相位差膜中的任一者具有螺旋结构。一种显示装置包括上述位相延迟结构。本申请至少能够解决相关技术中的减反膜波域较窄等问题。
  • 位相延迟结构显示装置
  • [发明专利]涂布系统-CN202310546388.4在审
  • 陈东 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-05-15 - 2023-08-29 - B05C11/10
  • 本申请公开了一种涂布系统,该涂布系统包括:第一供给装置、第二供给装置、第一液位检测装置、控制装置和涂布装置,其中:所述控制装置分别与所述第一供给装置、所述第二供给装置和所述第一液位检测装置电连接,所述涂布装置的进液口与目标出液口通过管路连接,其中,所述目标出液口为所述第一供给装置和所述第二供给装置共用的出液口;所述第一液位检测装置,用于获取所述第一供给装置中液体的第一液位线,并将所述第一液位线发送至所述控制装置;所述控制装置,用于接收所述第一液位线,在所述第一液位线小于第一阈值的情况下,控制所述第二供给装置开启,且在预设时间后控制所述第一供给装置关闭。
  • 系统
  • [发明专利]光学组件及光学膜处理装置-CN202310427418.X在审
  • 张庆训;陈东;王建;靳艳阁;田浩;杨林祥 - 成都瑞波科材料科技有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-08-01 - G02F1/1337
  • 本申请属于光学膜处理设备技术领域,具体涉及一种光学组件及光学膜处理装置。该光学组件包括发光构件和光介质层,光介质层具有入射面,发光构件的出光侧朝向入射面设置,发光构件发出的照射光线的传播方向与入射面的法线方向之间的夹角为θ,经入射面反射后的反射光线用于光配向,θ=γ±3°,其中γ为布儒斯特角。本申请实施例利用发光构件和光介质层即可得到满足配向要求的光线,而光介质层的制造成本低于线栅偏振片的制造成本,因此本申请可解决目前的光配向的成本较高的问题。
  • 光学组件处理装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top