专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]ITO导电玻璃/薄膜的光学检测系统-CN201620167409.7有效
  • 童建 - 昆山慕藤光精密光学仪器有限公司
  • 2016-03-04 - 2016-07-27 - G01N21/01
  • 本实用新型公开了一种ITO导电玻璃/薄膜的光学检测系统,包括相机、安装在相机上的镜头、设置于镜头下方的光源组件,镜头选用可见光镜头,光源组件包括一作为光源的发光紫外线LED灯珠、一定位于发光紫外线LED灯珠光路前端并用于将发光紫外线LED灯珠发出的光束变成平行光的准直透镜、一定位于准直透镜光路前端并用于将准直透镜发出的平行光分离至特定方向的分光镜,准直透镜的中心轴线与镜头的中心轴线相互垂直,分光镜的镜面与准直透镜的中心轴线、及分光镜的镜面与镜头的中心轴线均呈45度夹角;该光学检测系统能使光线沿指定方向传播,不发生漫反射,提高了对光线的利用率,还有效避免了因产生多余光线而对ITO导电玻璃/薄膜检测造成不必要影响。
  • ito导电玻璃薄膜光学检测系统
  • [实用新型]一种大口径单层薄膜厚度全场检测装置-CN201020169940.0无效
  • 苏俊宏;杨利红;徐均琪;梁海锋;惠迎雪;朱昌;田爱玲 - 西安工业大学
  • 2010-04-23 - 2010-11-24 - G01B11/06
  • 本实用新型涉及一种大口径单层薄膜厚度全场检测装置。本实用新型要克服现有技术中不能反映整个膜层的厚度分布情况和使用要求高的问题。提供一种大口径单层薄膜厚度全场检测装置,包括光源系统,干涉系统、CCD图像捕获系统和样品移动控制系统,干涉系统包括消模器、扩束器、准直镜、成像物镜、分光镜、补偿镜、参考反射镜、PZT调节器、PZT驱动和可控样品台,CCD图像捕获系统包括CCD摄像机、图像捕获器和计算机;光源系统、消模器和扩束器依次设置在第一光轴上,CCD摄像机、成像物镜、第二分光镜、补偿镜、参考反射镜和PZT调节器依次设置在与第一光轴平行的第二光轴上,反射镜、第二分光镜和样品台还依次位于垂直于第一光轴的第三光轴上。
  • 一种口径单层薄膜厚度全场检测装置
  • [发明专利]一种铁磁薄膜的力热磁耦合行为的检测装置及方法-CN200910237138.2有效
  • 冯雪;董雪林;黄克智 - 清华大学
  • 2009-11-06 - 2010-05-12 - G01N21/45
  • 一种铁磁薄膜的力热磁耦合行为的检测装置及方法,属于工程材料、结构形变及力学实验技术领域。该装置包括铁磁薄膜非均匀应力测量光路,薄膜磁滞回线测量光路,亥姆霍兹线圈及其电源,试件加热台,热电偶,力加载结构和调节支架。薄膜非均匀应力测量光路包括激光器、扩束镜、分光镜、反光镜、光栅、透镜、过滤屏、CCD相机;薄膜磁滞回线测量光路包括激光器、扩束镜、反光镜、起偏镜、检偏镜、光电检测器。该方法利用亥姆霍兹线圈为铁磁薄膜提供均匀磁场,利用试件加热台对薄膜进行加热,利用力加载结构对薄膜进行力加载,利用剪切干涉测量薄膜表面的非均匀曲率,由曲率得到薄膜中的应力,利用铁磁薄膜表面的磁光克尔效应测量薄膜的磁滞回线
  • 一种薄膜力热磁耦合行为检测装置方法
  • [实用新型]一种铁磁薄膜的力热磁耦合行为的检测装置-CN200920246828.X无效
  • 冯雪;董雪林;黄克智 - 清华大学
  • 2009-11-06 - 2010-08-25 - G01L1/24
  • 一种铁磁薄膜的力热磁耦合行为的检测装置,属于工程材料、结构形变及力学实验技术领域。该装置包括铁磁薄膜非均匀应力测量光路,薄膜磁滞回线测量光路,亥姆霍兹线圈及其电源,试件加热台,热电偶,力加载结构和调节支架。薄膜非均匀应力测量光路包括激光器、扩束镜、分光镜、反光镜、光栅、透镜、过滤屏、CCD相机;薄膜磁滞回线测量光路包括激光器、扩束镜、反光镜、起偏镜、检偏镜、光电检测器。该方法利用亥姆霍兹线圈为铁磁薄膜提供均匀磁场,利用试件加热台对薄膜进行加热,利用力加载结构对薄膜进行力加载,利用剪切干涉测量薄膜表面的非均匀曲率,由曲率得到薄膜中的应力,利用铁磁薄膜表面的磁光克尔效应测量薄膜的磁滞回线
  • 一种薄膜力热磁耦合行为检测装置
  • [发明专利]一种薄膜应力在线测试系统-CN200910224059.8无效
  • 王华清;冷健;卢维强;张楠;薛唯 - 北京理工大学
  • 2010-03-26 - 2010-08-04 - G01N21/17
  • 本发明涉及一种薄膜应力在线测试系统,属于物理领域里的光学分领域。该系统包括镀膜机、应力仪、晶控仪和计算机;在所测量样品镀膜开始前,先将计算机的数据采集与处理模块初始化并设定阈值。当外部高亮度光源发出的光从应力仪的光纤入射经分光棱镜分光,通过物镜后垂直入射到样品表面,平行光被测量样品表面反射后,再经中继透镜转换成平行光,然后经哈特曼透镜阵列成像到CMOS接收器感光面,通过调节外部光源同时计算机开始对应力仪和晶控仪的数据进行采集,实现对薄膜应力变化的实时跟踪,绘制出薄膜应力随膜厚的变化曲线。
  • 一种薄膜应力在线测试系统
  • [实用新型]一种渐变色膜加工用辅助治具-CN202222271382.4有效
  • 谢志 - 广东启辰光电科技有限公司
  • 2022-08-26 - 2023-03-07 - C23C14/22
  • 所述第一底板和所述第一安装板呈第一预定角度连接,所述第一安装板和所述第二安装板呈第二预定角度连接,所第二安装板和所述第二底板呈第三预定角度连接,所述第一底板和所述第二底板在同一水平面上,在加工前,先将薄膜固定在第一安装板和第二安装板上,然后将渐变色膜加工用辅助治具安装到光学镀膜设备上,通过光学镀膜设备旋转本治具,同时通过光学镀膜设备的喷嘴喷射光学氧化物,离喷嘴远的薄膜分光学氧化物喷射的薄,离喷嘴近的薄膜分光学氧化物喷射的厚,以此形成渐变色膜
  • 一种渐变色膜加工用辅助
  • [发明专利]发光按键-CN202110509430.6在审
  • 古佑铨 - 淮安达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
  • 2021-05-11 - 2022-11-11 - H01H13/705
  • 本发明关于一种发光按键,包含底板、薄膜开关层、键帽、升降机构、发光装置以及遮光层。薄膜开关层设置于底板上。升降机构设置于底板与键帽之间。键帽的裙边与薄膜开关层之间具有间隙。发光装置置于底板的通孔内。遮光层被覆于薄膜开关层上,并用以遮挡发光装置所发射的光线且射向键帽的裙边与薄膜开关层之间的间隙的部分光线。本发明的发光按键藉由形成遮光层以及遮光层与发光装置的相对位置,让发光装置所发射的光线不会从键帽与薄膜开关层之间的间隙泄漏。
  • 发光按键
  • [发明专利]一种双渐进镜片及其制备方法-CN202110856309.0在审
  • 杨敏男;罗红敏;吴富章 - 厦门美澜光电科技有限公司
  • 2021-07-28 - 2021-10-01 - G02C7/06
  • 本发明涉及一种双渐进镜片及其制备方法,双渐进镜片包括基片,以眼睛的上方为上,则所述基片的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层,所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合,所述基片的内表面设置内增透薄膜层,其中,所述渐进高反射薄膜层包含11层膜层,所述外增透薄膜层和所述内增透薄膜层皆包括7层膜层。本发明通过渐进高反射薄膜层和增透薄膜层配合,利用光学薄膜的反射及增透原理,镜片上方反射大部分的强光和散射光,减轻这部分光源对视线物体的干扰,镜片下方增加透视率,从而提升可视物体的清晰度。
  • 一种渐进镜片及其制备方法
  • [发明专利]光干涉式显示面板及其制造方法-CN03100294.3有效
  • 林文坚 - 元太科技工业股份有限公司
  • 2003-01-09 - 2004-07-28 - G02F1/1335
  • 一种光干涉式显示面板的制造方法,此方法于透明基板上形成图案化的支撑层,再依序于透明基板与支撑层上形成第一电极层与光学薄膜。接着,于光学薄膜上形成牺牲材料层,再以支撑层为罩幕进行背面曝光制作工艺以图案化牺牲材料层。然后,去除部分图案化的牺牲材料层至露出支撑层上方的光学薄膜以形成牺牲层,再于相邻的支撑层间的牺牲层上与部分光薄膜上形成第二电极层,最后再去除牺牲层。
  • 干涉显示面板及其制造方法

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