专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于振动响应自相关函数结构损伤检测方法-CN202211345735.9在审
  • 张慕宇;李钰嘉;彭霄阳;王自平;朱建国 - 江苏大学
  • 2022-10-31 - 2023-04-04 - G01N29/04
  • 本发明提供了一种基于振动响应自相关函数的钢架结构损伤检测方法,包括:采集结构完好状态下的响应,对结构响应消除趋势项,得到各个测点的响应信号;计算所有测点的结构响应的自相关函数;取出各个测点响应自相关函数的最大值,即自相关函数的零点值;将各测点的结构响应的自相关函数最大值按测点号自小到大排列构成一个向量;采集结构在损伤状态下的响应,计算损伤状态下归一化的自相关函数最大值向量,利用得到的自相关函数最大值向量构建损伤指标;根据损伤指标异常或者有突变的位置定位损伤;本发明能够利用响应信息直接对结构开展损伤检测,从而可以避免识别结构模态参数的误差对结构损伤检测结果产生不良影响。
  • 一种基于振动响应相关函数结构损伤检测方法
  • [发明专利]提高刻蚀均匀性的方法-CN202211263109.5在审
  • 张猛;吴方锐;张鹏 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2022-10-14 - 2023-02-03 - H01L21/336
  • 本发明提供一种提高刻蚀均匀性的方法,提供衬底,衬底上形成有多个栅极结构;栅极结构包括依次叠加的栅介质层和金属栅,在栅介质层和金属栅之间具有功函数层;其中,部分不同栅极结构中的功函数层的厚度不同;利用功函数层相对于金属栅高选择比的第一刻蚀气体刻蚀每个功函数层;利用金属栅相对于功函数层高选择比的第二刻蚀气体刻蚀每个金属栅。本发明通过先刻蚀功函数层,再刻蚀金属栅,对功函数层的侧向刻蚀减少,提高了刻蚀均匀性。
  • 提高刻蚀均匀方法
  • [发明专利]词法分析方法、装置、计算机设备和存储介质-CN201910720528.9有效
  • 赵旸;刘思凡;邱旻峰 - 腾讯科技(深圳)有限公司
  • 2019-08-06 - 2023-10-17 - G06F8/41
  • 所述方法包括:获取代码文件并确定代码文件的入口函数,读取入口函数的代码字符序列;根据预先构建的反向变量哈希映射,将入口函数的代码字符序列中的自定义变量替换为原子级变量,得到变量归一化后的代码字符序列;获取变量归一化后的代码字符序列中的函数调用代码,根据预先构建的函数体哈希映射将函数调用代码替换为被调用函数函数体,得到过程式函数代码;对过程式函数代码进行词法分析,得到代码文件对应的单词序列。采用本方法能够实现将具有复杂层级结构的代码文件进行函数递归展开为过程式函数代码,有效解决具有复杂层级结构代码的词法分析问题。
  • 词法分析方法装置计算机设备存储介质
  • [发明专利]半导体结构及半导体结构的制作方法-CN202110813115.2在审
  • 赵文礼;白杰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-19 - 2023-01-24 - H01L27/092
  • 本公开涉及半导体技术领域,提出了一种半导体结构及半导体结构的制作方法。半导体结构包括衬底、NMOS晶体管以及PMOS晶体管,NMOS晶体管包括依次叠置的第一电介质层、第一功函数层以及第一导电层,PMOS晶体管包括依次叠置的第二电介质层、第二功函数层以及第二导电层。在半导体结构的制作过程中,会导致第一功函数层和第二功函数层内的金属元素扩散,可能会影响半导体结构阈值电压的调节,通过在第一功函数层朝向第二功函数层的一侧设置有第一侧壁隔离层,和/或,第二功函数层朝向第一功函数层的一侧设置有第二侧壁隔离层,可以阻止金属元素的交叉扩散,以此避免半导体结构阈值电压难以被调节的情况,从而改善半导体结构的性能。
  • 半导体结构制作方法
  • [发明专利]光学基板及其制造方法-CN200580048174.4无效
  • 尤金·奥尔克扎克 - 通用电气公司
  • 2005-12-16 - 2008-02-06 - G02B5/02
  • 所述光学基板由第一表面结构函数和第二表面结构函数定义,所述第一表面结构函数从第一输入光束产生至少一个输出镜面分量。所述第二表面结构函数的几何形状具有至少伪随机特性以调制所述第一表面结构函数,使得所述光学基板的表面从第一输入光束产生镜面和散射光。所述光学基板适用于各种应用,包括增亮和投影设备。
  • 光学及其制造方法
  • [发明专利]一种柔性天线结构冲击载荷识别方法及系统-CN202011094022.0在审
  • 季宏丽;黄淳;裘进浩;张超 - 南京航空航天大学
  • 2020-10-14 - 2020-12-18 - G06F30/23
  • 本发明公开了一种柔性天线结构冲击载荷识别方法及系统。所述柔性天线结构冲击载荷识别方法包括:采用有限元软件构建柔性天线结构的有限元模型;对有限元模型进行模态分解,得到模态信息;由模态信息和柔性天线结构的冲击载荷的激励位置确定传递函数,并基于传递函数在有限元模型上计算动力学响应信号;采用B样条小波尺度函数作为基函数,并将基函数拟合待识别冲击载荷确定字典;基于动力学响应信号、传递函数、字典和系数向量构建基于字典的正则化求解函数;采用软阈值迭代算法对基于字典的正则化求解函数进行迭代求解
  • 一种柔性天线结构冲击载荷识别方法系统

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