专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种单晶电池片生产工艺-CN202010767287.6在审
  • 李雪方;贾宇龙;郭卫;崔龙辉 - 山西潞安太阳能科技有限责任公司
  • 2020-08-03 - 2020-11-03 - H01L31/18
  • 本发明涉及单晶电池片生产领域。一种单晶电池片生产工艺,多晶硅电池片生产过程中采用单晶方式制绒、多晶方式扩散、多晶方式酸抛、多晶热氧钝化、多晶方式PECVD镀膜、多晶方式丝网印刷进行,其中,所述的单晶方式是指采用单晶设备生产,所述的多晶方式是指采用多晶设备生产本发明在多晶方式扩散、多晶方式酸抛、多晶热氧钝化、多晶方式PECVD镀膜、多晶方式丝网印刷利用现有的多晶工艺生产设备,协调调整生产工艺,再结合采用单晶方式制绒,使得结果得到单晶的转换效率能到20.06%
  • 一种准单晶电池生产工艺
  • [发明专利]一种单晶管材及其制备方法-CN202011031712.1有效
  • 王经涛;诸叶斌;李政;刘瑛 - 南京理工大学
  • 2020-09-27 - 2022-06-21 - C30B29/66
  • 本发明涉及材料技术领域,尤其是一种单晶管材及其制备方法;所述单晶管材的晶体学织构围绕管材的轴线呈连续旋转对称,所述管材中晶界取向差大于15°的大角度晶界比例≤10%;所述单晶管材中晶体的某一晶向uvw择优取向平行于管材的周向;所述单晶管材中晶体的某一晶面{hkl}择优取向平行于管壁的切平面或者该晶面的法向择优取向平行于管材的径向;本发明的单晶是由多晶体通过变形和退火过程中各晶粒取向逐渐转动到宏观择优方向上而形成
  • 一种准单晶管材及其制备方法
  • [发明专利]单晶硅片的制绒方法-CN201110419867.7无效
  • 魏青竹;钱峰;陆俊宇;任军林;汪艳玲 - 江苏腾晖电力科技有限公司
  • 2011-12-15 - 2012-05-23 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种单晶硅片的制绒方法,其特点在于包括以下步骤:首先,采用湿法刻蚀方法去除以晶粒为主的单晶硅片上的机械损伤层。之后,根据晶粒所占比例,采用等离子体刻蚀与反应离子刻蚀进行单晶制绒。而且,制绒后单晶硅片反射率低于15%,表面陷光效果好,电池片可充分发挥单晶硅片优势。制绒后表面织构化不依赖于晶向和衬底条件。可靠性高,易控制,硅片消耗量少,利于更薄硅片应用。
  • 单晶硅方法
  • [发明专利]一种铸造多晶硅或单晶硅的方法及装置-CN201210512673.6有效
  • 郑玉芹;朱常任;胡亚兰;武鹏;周之燕 - 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司
  • 2012-12-04 - 2013-03-27 - C30B11/00
  • 本发明涉及一种铸造多晶硅或单晶硅的方法,包括以下步骤:在多晶硅铸锭炉的坩埚和石墨护板之间设置在铸锭过程中抑制坩埚外表面的SiO2和石墨护板中的C发生反应的隔离层;使用所述多晶硅铸锭炉通过定向凝固法铸造多晶硅或单晶硅另外还提出一种铸造多晶硅或单晶硅的装置。上述铸造多晶硅或单晶硅的方法及装置,在坩埚和石墨护板之间设置隔离层,以在铸锭过程中抑制坩埚外表面的SiO2和石墨护板中的C发生反应生成CO,从而能够减少多晶硅铸锭炉内C含量,使SiC杂质沉淀的生成减少,使铸造多晶硅或单晶硅中的C杂质减少、缺陷密度减少,进而提高铸造多晶硅或单晶硅的铸锭成品率、切片良率以及电池片的转换效率。
  • 一种铸造多晶单晶硅方法装置
  • [发明专利]一种单晶硅片的制绒方法-CN201110265315.5无效
  • 金若鹏 - 浙江向日葵光能科技股份有限公司
  • 2011-09-08 - 2012-01-04 - H01L31/18
  • 本发明涉及太阳能电池的生产技术方法领域,具体涉及一种单晶硅片的制绒方法,包括先对以(100)晶粒为主的单晶硅片采用碱制绒工序,再采用酸制绒工序。本发明相比单纯的酸制绒能够明显提高单晶电池的光电转换效率,而且能明显消除采用单纯碱制绒所导致的部分绒面发亮的现象,整个过程可根据(100)晶粒所占的面积精确调整。该工艺方法过程完全可控,整体制绒效果好,外观合格,工艺简单,适用于单晶硅片的大规模生产。
  • 一种单晶硅方法
  • [实用新型]一种单晶生长装置-CN201120410459.0有效
  • 樊振军;郑志远;张自力 - 中国地质大学北京
  • 2011-10-25 - 2012-06-13 - C30B15/00
  • 本实用新型公开了一种单晶生长装置,包括加热炉、耐火支撑台、叶腊石样品台和石英管,耐火支撑台设置在加热炉中,叶腊石样品台通过转轴可转动架设在耐火支撑台上,并且转轴一端穿出加热炉;石英管竖直固定安装在叶腊石样品台上本实用新型用于生长单晶的装置在单晶生长完毕时,通过转动转轴控制叶腊石样品台上的石英管翻转,在高温状态下就可以将单晶与未结晶合金液体分离开,避免在冷却后难以将包覆在单晶体的多余液体去除的问题,有助于获取大的单晶体。
  • 一种准晶单晶生长装置
  • [发明专利]大晶粒单晶薄膜及其制备方法-CN202010737961.6有效
  • 陈智;李昱瑾 - 财团法人交大思源基金会
  • 2020-07-28 - 2021-09-03 - C30B29/52
  • 一种大晶粒单晶薄膜及其制备方法,乃将表面具有111优选方向的金属薄膜藉由机械拉伸力的作用,使得晶粒的排列更为有序,再利用低于再结晶温度的退火处理,而成长为平均直径500微米以上的大晶粒,以获得具有三轴优选方向的大晶粒单晶薄膜,此大晶粒单晶薄膜于拉伸方向及垂直拉伸方向各具有110与211的优选方向,且维持其表面111的优选方向。本发明有利于生产高度异向性的大面积单晶薄膜,亦可应用于成长二维材料或其他异向性特征结构的开发。
  • 晶粒准单晶薄膜及其制备方法

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