专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]计算方法-CN201610493259.3在审
  • 罗文峰 - 深圳市优象计算技术有限公司
  • 2016-06-29 - 2016-12-07 - G06T7/20
  • 本发明提供了一种计算方法,首先用Fast角点检测算法确定图像中的Fast角点候选点,然后用Shi‑Tomasi算法从候选角点中提取Shi‑Tomasi强角点,最后对提取的Shi‑Tomasi强角点用L‑K稀疏计算方法计算,得到。本发明方法能够提高精确度,减少计算量,大大减少运行时间,满足实时性要求。
  • 计算方法
  • [发明专利]垂直式辅助金属有机物化学气相沉积装置及其沉积方法-CN202310140721.1有效
  • 王新强;陈兆营;刘放;盛博文;李铎 - 北京大学
  • 2023-02-14 - 2023-07-07 - C30B25/14
  • 本发明公开了一种垂直式辅助金属有机物化学气相沉积装置及其沉积方法。本发明采用光垂直作用于层状反应剂气流上,与反应剂气流的作用路径短,减小了所需激光功率,降低了辅助MOCVD装置的设计难度、提高了安全性;同时减少了在MOCVD气中的传播过程,提高了功率的利用效率;通过生长衬底随衬底托盘的自转和公转,使生长腔内的生长衬底之间和每片生长衬底内均匀地获得产生的活性反应剂,实现大尺寸IE高均匀性的辅助MOCVD外延生长;本发明中生反应剂的产生过程和生反应剂的化学气相沉积过程空间上分离,简化了辅助金属有机物化学气相沉积装置中的‑温耦合设计。
  • 垂直辅助金属有机物化学沉积装置及其方法

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