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[发明专利]多层光栅结构-CN202011636943.5在审
发明人：尹正坤;孙理斌;汪杰;陈远 -专利权人：宁波舜宇奥来技术有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种多层光栅结构。多层光栅结构包括：基底结构；光栅结构，光栅结构与基底结构连接，光栅结构为多个，多个光栅结构间隔设置，光栅结构包括至少两个光栅层，且相邻两个光栅层的折射率不同；其中，光栅结构为倾斜光栅结构，倾斜光栅结构与基底结构之间的夹角小于45°，光栅结构的光栅周期小于1.5倍入射波长。本发明解决了现有技术中光栅结构存在衍射效率不均匀的问题。
多层光栅结构

[实用新型]多层光栅结构-CN202023322321.3有效
发明人：尹正坤;孙理斌;汪杰;陈远 -专利权人：宁波舜宇奥来技术有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种多层光栅结构。多层光栅结构包括：基底结构；光栅结构，光栅结构与基底结构连接，光栅结构为多个，多个光栅结构间隔设置，光栅结构包括至少两个光栅层，且相邻两个光栅层的折射率不同；其中，光栅结构为倾斜光栅结构，倾斜光栅结构与基底结构之间的夹角小于45°，光栅结构的光栅周期小于1.5倍入射波长。本实用新型解决了现有技术中光栅结构存在衍射效率不均匀的问题。
多层光栅结构

[发明专利]通过对重叠结构上的反向散射电子建模以测量叠加的目标及算法-CN202180043924.8在审
发明人： N·古特曼;O·阿切;C·菲尔普斯 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种叠加目标包含具有安置于样本上的底部光栅结构及安置于所述底部光栅结构上的顶部光栅结构的光栅覆光栅结构。所述叠加目标进一步包含包括所述底部光栅结构但不包含所述顶部光栅结构的校准扫描位置及包含所述顶部光栅结构及所述底部光栅结构的叠加扫描位置。
通过重叠结构反向散射电子建模测量叠加目标算法

[发明专利]用于可穿戴显示装置的抖动方法和设备-CN201780064940.9有效
发明人： S·巴尔加瓦;R·D·泰克尔斯特;V·K·刘;C·佩罗兹;P·圣西莱尔;E·波利亚科夫;J·舍费尔;M·梅利;M·韦斯特;K·罗;V·辛格;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G02B6/34 文献下载
摘要：一种装置，包括具有第一光栅结构的输入耦合光栅，该第一光栅结构以第一组光栅参数为特征。输入耦合光栅被配置为接收来自光源的光。该装置还包括具有第二光栅结构的扩展光栅，该第二光栅结构以在至少两个维度中变化的第二组光栅参数为特征。第二光栅结构被配置为接收来自输入耦合光栅的光。该装置进一步包括具有第三光栅结构的输出耦合光栅，该第三光栅结构以第三组光栅参数为特征。输出耦合光栅被配置为接收来自扩展光栅的光，并向观察者输出光。
用于穿戴显示装置抖动方法设备

[发明专利]光栅结构-CN202110560096.7在审
发明人：尹正坤;孙理斌;汪杰;陈远 -专利权人：宁波舜宇奥来技术有限公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种光栅结构。光栅结构包括：基底结构；光栅层，光栅层为周期结构，每个周期内的光栅作为一个子光栅，多个子光栅间隔设置在基底结构的一侧，子光栅为矩形结构，且子光栅为非对称结构，光栅结构的周期小于1.5倍入射中心波长。
光栅结构

[发明专利]五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法-CN201610140129.1有效
发明人：张利斌;董立松;苏晓菁;韦亚一 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2016-03-11 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法。在该五级衍射光栅结构包括晶圆以及形成于晶圆上的光栅图形结构。光栅图形结构由光栅精细结构单元组成，光栅精细结构单元的宽度为一个光栅周期，所述光栅精细结构单元在宽度方向上等分为20个区域，每个区域上设置有第一图形结构1st或第二图形结构2nd；1st和2nd在光栅图形结构的宽度方向上按照不同顺序排列形成不同的光栅精细结构单元，所述光栅精细结构单元为第一光栅精细结构单元、第二光栅精细结构单元或第三光栅精细结构单元。该光栅结构能够有效提高光栅的衍射光强，增大光刻时在对准光栅之上涂覆材料及其厚度的可选择范围，降低对准不确定性范围，提高精确对准精度。
衍射光栅结构及其制备方法圆光对准

[发明专利]非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器-CN201611148097.6在审
发明人：郑俊守;孙雨舟;王祥忠 -专利权人：苏州旭创科技有限公司
申请日： 2016-12-13 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01S5/12 文献下载
摘要：本申请揭示了一种非对称结构相移光栅，所述相移光栅包括相移结构及位于相移结构两侧的第一光栅和第二光栅，所述第一光栅的长度大于第二光栅，所述第一光栅和第二光栅的刻蚀深度相同且光栅周期相等；所述第一光栅和第二光栅分别包括相邻相移结构设置的第一均匀段光栅，所述第一光栅还包括设置于第一均匀段光栅背离相移结构一侧的第二均匀段光栅；所述第一光栅及第二光栅的第一均匀段光栅的长度相等，占空比均保持恒定。本发明中的非对称结构相移光栅在引入一定长度的第一均匀段光栅之后，可有效减弱空间烧孔效应的影响，提高了DFB激光器的稳定性。
光栅相移光栅相移非对称结构半导体激光器长度相等光栅周期结构设置恒定占空比刻蚀烧孔相等背离申请引入

[发明专利]非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器-CN201611201528.0在审
发明人：郑俊守;孙雨舟;王祥忠 -专利权人：苏州旭创科技有限公司
申请日： 2016-12-22 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01S5/12 文献下载
摘要：本申请揭示了一种非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器，所述相移光栅包括位于相移光栅非中心位置的相移结构及位于相移结构两侧的第一光栅和第二光栅，所述第一光栅和第二光栅的刻蚀深度相等、且光栅占空比相等或光栅占空比之和等于1，所述第一光栅和第二光栅的长度不同，第一光栅和第二光栅中邻近相移结构两侧为一定长度的第一啁啾光栅和第二啁啾光栅，第一啁啾光栅和第二啁啾光栅沿相移结构对称分布，且第一啁啾光栅和第二啁啾光栅的光栅周期沿朝向相移结构方向逐渐变化本申请可实现光功率的非对称输出，提高了激光器的输出光功率；减小相移结构附近的折射率调制，有效减弱空间烧孔效应的影响，提高了激光器的单模稳定性。
光栅啁啾光栅相移相移光栅半导体激光器非对称结构光栅占空比激光器相等非中心位置输出光功率折射率调制光栅周期结构对称结构方向逐渐变化非对称光功率单模减小刻蚀烧孔申请邻近输出

[发明专利]一种采用镀膜技术制作光栅的方法-CN201210105947.X无效
发明人：林磊;黄富泉;周孝莲;代会娜;李广伟;张新汉 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及光栅制作技术领域，公开了一种采用镀膜技术制作光栅的方法，以现有光栅作为基底光栅，然后通过镀膜沉积技术在基底光栅上进行镀膜；镀膜过程中，通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层本发明通过控制膜料沉积方向与基底光栅之间的角度在基底光栅的光栅面上形成各种光栅槽结构的介质膜层，避免了一些硬质膜系材料的刻蚀，同时可以实现光栅膜层结构的精确控制，提供更多膜层结构的可选方案，便于光栅膜层结构的设计、调整光栅占空比、提高光栅衍射效率等，而且提高了光栅制作效率。
一种采用镀膜技术制作光栅方法

[实用新型]光栅结构-CN202121109461.4有效
发明人：尹正坤;孙理斌;汪杰;陈远 -专利权人：宁波舜宇奥来技术有限公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种光栅结构。光栅结构包括：基底结构；光栅层，光栅层为单层，光栅层为周期结构，每个光栅周期作为一个子光栅，子光栅具有两个占空比不同的光栅脊，光栅脊为矩形结构。
光栅结构

[发明专利]抑制高级光的二维菱形光栅、光波导及近眼显示设备-CN202310575693.6有效
发明人：王萌光;李勇;吴斐;娄身强;陆希炜 -专利权人：北京亮亮视野科技有限公司
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供抑制高级光的二维菱形光栅、光波导及近眼显示设备，涉及衍射光学技术领域，二维菱形光栅包括：至少一个第一光栅结构和至少一个第二光栅结构；第一光栅结构的尺寸大于第二光栅结构的尺寸；第一光栅结构和第二光栅结构为菱形结构，第一光栅结构的边缘和第二光栅结构的边缘为锯齿状；任一光栅结构的边缘中，相邻两个锯齿之间的距离相同，每个锯齿沿一维光栅的矢量方向随机正态分布。通过上述方式，本发明对光栅结构的边缘进行了锯齿化的设置，有利于抑制光的高阶衍射分量，进而提高成像质量。
抑制高级二维菱形光栅波导显示设备

[发明专利]非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器-CN201610272268.X在审
发明人：郑俊守;孙雨舟;王祥忠 -专利权人：苏州旭创科技有限公司
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2017-11-07 - 主分类号： H01S5/12 文献下载
摘要：本申请揭示了一种非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器，所述相移光栅包括位于相移光栅中心位置的相移结构及位于相移结构两侧的第一光栅和第二光栅，所述第一光栅和第二光栅的长度相同、光栅周期相等、且光栅占空比相等或光栅占空比之和等于1，第一光栅和第二光栅的刻蚀深度不同。本申请基于非对称结构相移光栅的DFB半导体激光器，在相移结构两侧的光栅长度、光栅周期不变、且光栅占空比相等或光栅占空比之和等于1的条件下，通过对相移结构两侧光栅刻蚀深度的控制，实现两侧相移光栅耦合系数的不对称
对称结构相移光栅 dfb 半导体激光器

[发明专利]一种可调控周期的光栅及制备方法-CN202210754405.9在审
发明人：李朝晖;陈鸿飞;傅志豪 -专利权人：中山大学
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明属于光学元件技术领域，更具体地，涉及一种可调控周期的光栅及制备方法。可调控周期的光栅包括：基底层；光栅层，设置在所述基底层之上；包层薄膜，设置在所述光栅层之上；所述光栅层由可逆相变材料制成；所述光栅层上设置有光栅结构；所述光栅结构包括多个光栅周期结构，所述多个光栅周期结构由激励信号刻画而成；每个所述光栅周期机构包括至少两个直线结构；所述至少两个直线结构的折射率不同。本发明制备方法简单，效率高，可制备出折射率不同的光栅，以及周期不同的光栅；且可实现光栅结构的重构。
一种调控周期光栅制备方法

[发明专利]抑制高级光的叉形超表面光栅、光波导及近眼显示设备-CN202310575696.X有效
发明人：王萌光;李勇;吴斐;娄身强;陆希炜 -专利权人：北京亮亮视野科技有限公司
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制高级光的叉形超表面光栅、光波导及近眼显示设备，涉及衍射光学技术领域，包括至少一个第一光栅结构和至少一个第二光栅结构，第一光栅结构的尺寸大于第二光栅结构的尺寸，通过改变两种光栅结构的尺寸比例可以调整耦合效率；第一光栅结构和第二光栅结构为叉形结构，第一光栅结构的交叉角度和第二光栅结构的交叉角度相同，交叉形结构可以具有更好地降低外侧的漏光；第一光栅结构的边缘和第二光栅结构的边缘为锯齿状，任一光栅结构的边缘中，相邻两个锯齿之间的距离相同，每个锯齿沿一维光栅的矢量方向随机正态分布。通过对光栅结构的边缘进行了锯齿化的设置，有利于抑制光的高阶衍射分量，进而提高成像质量。
抑制高级叉形表面光栅波导显示设备

[发明专利]一种光栅结构、光波导及近眼显示系统-CN202010784688.2在审
发明人：郭晓明;宋强;黄浩;许恒深;马国斌 -专利权人：深圳珑璟光电技术有限公司
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例涉及光学技术领域，特别涉及一种光栅结构、光波导及近眼显示系统。本发明实施例中提供了一种光栅结构，应用于光波导及近眼显示系统，该光栅结构包括：光栅本体，所述光栅本体内设有通孔，该光栅结构相比于圆柱结构光栅和菱形结构光栅，可调节参数较多、设计自由度高，易于调节光栅的衍射效率，故本发明实施例提供的光栅结构衍射效率较好。
一种光栅结构波导显示系统

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