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[发明专利]一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构-CN201810079005.6在审
发明人：余忠伟;林磊;蔡光明;郑彬 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2018-01-26 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构，相位掩模板具有光栅侧和非光栅侧，相位掩模板的非光栅侧间隔设有多个光纤定位槽，多根裸光纤定位在相位掩模板非光栅侧定位槽内，多根裸光纤所在平面平行于相位掩模板本发明通过在相位掩模板非光栅侧设计均匀分布的光纤定位槽，将光纤均匀排布，控制定位槽深，使多根光纤位于相位掩模板近场衍射区域内，同时接受紫外光束的曝光，进行多根光纤光栅的同时刻写。本发明方法能够极大程度的提高光纤光栅的生产效率，有效的利用紫外光束的能量，提高光纤光栅的产能，降低光纤光栅的制作成本。
相位掩模板光栅刻写光纤光栅光纤定位槽多根光纤紫外光束定位槽多光纤裸光纤均匀排布生产效率所在平面衍射区域产能近场平行光纤曝光制作

[发明专利]一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅制备方法及产品-CN201310131516.5无效
发明人：陈鑫;赵建宜;王磊;周宁;刘文 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2013-04-16 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅的制备方法及产品，属于图像压印技术领域。具体为：将硬模板上的目标光栅图形转移到软模板，在基片上制备压印胶层；将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层，通过压强大小控制软模板的倾斜度从而控制母闪耀光栅的闪耀角，进而刻蚀得到母闪耀光栅；在母闪耀光栅上沉积硬掩膜层；在硬掩膜层上制备压印胶层；将软模板上的目标光栅图形压印到压印胶层上，通过压强大小来控制软模板的倾斜度从而控制子闪耀光栅的闪耀角，进而刻蚀得到子闪耀光栅，制备得到双闪耀光栅。本发明通过控制转移软模板上图案到基片的过程中的压强，得到具有不同闪耀角的闪耀光栅，保证光栅质量的同时降低了成本。
一种可变闪耀光栅制备方法产品

[发明专利]拼版工作模板及其制作方法、批量制作衍射光栅的方法-CN202210715196.7在审
发明人：谢李鹏;虎良可;赵谊华;胡海峰;罗润秋;宋强;马国斌 -专利权人：深圳珑璟光电科技有限公司
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种拼版工作模板及其制作方法、批量制作衍射光栅的方法，该拼版工作模板的制作方法包括：步骤S1：提供含有单组衍射光栅图案的工作模板，对含有单组衍射光栅图案的工作模板进行裁剪，得到一个或多个待拼版的工作模板，其中，单组衍射光栅图案包括一个或多个衍射光栅区，衍射光栅区的结构与衍射光栅的结构凹凸相反；步骤S2：提供第一工作模板基底，将多个待拼版的工作模板按照预定排列顺序分别通过贴合胶层贴合于第一工作模板基底上，得到拼版工作模板。通过上述制作方法制作得到的拼版工作模板后续通过纳米压印后可得到大尺寸压印模板，该制作方法能降低大尺寸压印模板的制作成本，且能提高衍射波导片的量产效率。
拼版工作模板及其制作方法批量制作衍射光栅方法

[发明专利]基于重构等效啁啾技术的长光纤光栅制作方法-CN201110311215.1有效
发明人：高亮;陈向飞;刘盛春 -专利权人：南京大学
申请日： 2011-10-13 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开了基于重构等效啁啾技术的长光纤光栅制作方法：根据具有任意目标响应的种子光栅以及多个相位模板的结构，利用重构等效啁啾技术对种子光栅进行重构，从而可以采用多块相位模板和亚微米精度平移台制作出具有与种子光纤光栅相同目标响应的长光纤光栅，并且多块相位模板之间相位不匹配引起的相移能够被完全补偿。该方法可以制作具有任意目标响应的长光纤光栅，突破了相位模板对光纤光栅长度的限制，降低了长光纤光栅的制作成本，并提高了长光纤光栅制作的灵活性。
基于等效啁啾技术光纤光栅制作方法

[发明专利]周期可调式无毒弹性光栅的制作方法及光栅装置-CN201010010083.4无效
发明人：汪静;曲冰;迟建卫 -专利权人：大连水产学院
申请日： 2010-01-11 - 公布日： 2010-07-07 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：周期可调式无毒弹性光栅的制作方法，将PDMS单体与固化剂按10～20∶1的比例配制预聚体，并静置使其排出混入的空气；利用微铸膜制造的方法将配制的预聚体浇到光栅条纹状的模板上，所述模板为刻蚀成光栅条纹的硅片或玻璃或CD或DVD光盘；待预聚体聚合固化的，将模板与其分离，形成周期可调式无毒弹性光栅。弹性光栅安装在调整支架上形成光栅装置。或配制2-20％的PVA或TPU或PU的溶液浇到光栅条纹状的模板上形成光栅。工艺非常简单，好操作，容易控制，成本低，产品的光栅常数可调；本发明的光栅装置结构简单，部件少，动作灵活可靠，对光栅可作随意调整，以改变光栅常数。
周期调式无毒弹性光栅制作方法装置

[实用新型]一种用于试模机的安全装置-CN202123290885.8有效
发明人：蔡志开;梅方楼 -专利权人：宁波顺兴开浩精工机械有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01M13/00 文献下载
摘要：本实用新型属于试模机领域，具体涉及一种用于试模机的安全装置，包括：底座，其设置有滑轨；第一翻转模板，其与底座转动连接，第一翻转模板上设置有第一光栅；第二翻转模板，其与滑轨滑动连接，第二翻转模板上设置有的第二光栅，第一光栅与第二光栅相互对立；驱动油缸，其设于底座上且与第二翻转模板连接，驱动油缸与第一光栅以及第二光栅均为电连接；当第一光栅与第二光栅之间的信号被隔断时能够使得驱动油缸停止工作。与现有技术相比，本实用新型的优点在于该用于试模机的安全装置中第一光栅和第二光栅之间的信号被隔断后，驱动油缸即停止工作，防止操作人员在试模期间误进入工作区域，提高安全性。
一种用于试模机安全装置

[发明专利]一种基于微机电的结构光投影方案-CN201610439990.8在审
发明人：游志胜;荆海龙;刘兴旺;郭燕琼;朱江平 -专利权人：四川川大智胜软件股份有限公司
申请日： 2016-06-20 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明涉及三维测量领域，特别涉及一种基于微机电的结构光投影方案，包括控制核心、光学投影模组和位移控制模组；所述控制核心分别与所述光学投影模组及所述位移控制模组连接；所述光学投影模组包括结构光光栅模板带，所述结构光光栅模板带由结构光光栅模板单元组成；所述光学投影模组照明结构光光栅模板单元使系统投射结构光；所述位移控制模块控制结构光光栅模板带的移动，形成结构光光栅序列投影；所述控制核心接收外部控制信号，控制位移控制模块将结构光光栅模板单元位移至光学模组对准位置后输出外触发信号给相机
一种基于微机结构投影方案

[发明专利]一种中红外双层纳米金属光栅及其制备方法-CN201710550964.7在审
发明人：褚金奎;康维东;曾祥伟;张然;关乐;樊元义 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2017-07-07 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种中红外双层纳米金属光栅的制备方法及利用该方法制备获得的中红外双层纳米金属光栅。包括如下步骤制作压印模板，采用热压印工艺复制软模板，将镍硬模板上纳米线栅结构转移复制到软模板上，得到与原镍硬模板结构互补的纳米线栅结构；提供一作为光栅基底的透红外材料；采用滴胶旋涂方式在基底表面旋涂光栅压印胶介质层；转移纳米图案，采用紫外曝光纳米压印工艺，将前述软模板压印到压印胶介质层，使纳米线栅结构转移到光栅压印胶介质层上；利用垂直热蒸镀工艺在上述光栅压印胶介质层纳米线栅结构凸起和凹槽部位沉积金属，完成中红外双层纳米金属光栅的制备
一种红外双层纳米金属光栅及其制备方法

[发明专利]一种近眼显示器衍射光栅波导的制备方法-CN202310295930.3在审
发明人：李晓军 -专利权人：国家纳米科学中心;李晓军
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开一种近眼显示器衍射光栅波导的制备方法，涉及近眼显示技术领域，方法包括：制备具有衍射光栅波导图案的纳米压印模板，然后进行钝化处理；将经过钝化处理后的纳米压印模板的衍射光栅波导图案，通过纳米压印工艺转印至多个转印模板，得到多个具有衍射光栅波导图案的反图案的转印模板；将每个转印模板上的衍射光栅波导图案的反图案通过纳米压印工艺转印至波导衬底，得到近眼显示器衍射光栅波导；转印模版为石英模板或聚合物的柔性模板；波导衬底为透明聚合物衬底且为曲面衬底本发明可用于近眼显示器衍射光栅波导的制备，解决了衍射光栅波导制备难度大、产量低、重复性差、无法进行大规模生产的问题。
一种显示器衍射光栅波导制备方法

[发明专利]一种全息光栅模板及其制备方法-CN201910785400.0有效
发明人：杨渝书;伍强;李艳丽 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种全息光栅模板及其制备方法，全息光栅模板的制备方法包括：提供一衬底，衬底上依次形成有硬掩模层和图形化的光刻胶层，光刻胶层具有图形；以图形化的光刻胶层为掩模，刻蚀硬掩模层，将图形复制至硬掩模层中，以形成图形化的硬掩模层；对衬底执行离子注入工艺，在离子注入区得到光栅模板图形区；刻蚀硬掩模层并暴露出衬底；刻蚀衬底的非离子注入区，以暴露出光栅模板图形区，并形成全息光栅模板。通过离子注入工艺得到所需形状的光栅结构区，经过高刻蚀选择比刻蚀保留光栅结构区，从而得到全息光栅模板，工艺难度较低，工艺可行性高；通过在衬底上直接形成光栅结构区，避免了光刻工艺的转版步骤，减少了工艺步骤，
一种全息光栅模板及其制备方法

[发明专利]一种近眼显示器衍射光栅波导的制备方法-CN201910707421.0在审
发明人：李晓军 -专利权人：国家纳米科学中心
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：本申请公开了一种采用纳米压印技术的近眼显示器衍射光栅波导的制备方法，属于近眼显示技术领域，解决了现有技术中衍射光栅波导制备难度大、产量低、重复性差、无法进行大规模生产的问题。本申请的制备方法包括如下步骤：制备具有衍射光栅波导图案的压印模板；将压印模板的衍射光栅波导图案通过纳米压印工艺转印至转印模板，得到制备具有衍射光栅波导图案的反图案的转印模板；将转印模板的衍射光栅波导图案的反图案通过纳米压印工艺转印至波导衬底，得到近眼显示器衍射光栅波导。本申请的制备方法可用于近眼显示器衍射光栅波导的制备。
衍射光栅制备波导近眼显示器波导图案转印模板纳米压印工艺压印模板反图案转印申请纳米压印技术衬底近眼可用

[发明专利]相位掩模板切换装置-CN201510289804.2有效
发明人：叶青;王迪;李璇;皮浩洋;陈高庭;蔡海文 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;南京聚科光电技术有限公司
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于相位掩模板写入法刻写光栅的阵列型相位掩模板切换装置与阶梯型相位掩模板切换装置，由相位掩模板夹具或相位掩模板夹具组合，两个一维电控位移平台、转接架与控制系统构成，与在先技术相比，本发明大大简化了光纤光栅刻写时的操作，可实现光纤光栅的自动化刻写，并且能够提高刻写光栅的质量与重复性。
相位模板切换装置

[发明专利]一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法-CN201810523335.X有效
发明人：蔡光明;林磊;郑彬;余忠伟 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2018-05-28 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法，包括一对振幅模板、固定模板支架、移动模板支架和移动驱动机构，移动模板支架滑动连接在固定模板支架的一端面上，一对振幅模板相对设置且分别嵌设在移动模板支架和固定模板支架上，移动驱动机构设于固定模板支架上且与移动模板支架连接并驱动移动模板支架在固定模板支架上滑动，令固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板错位或对正，通过结合对应的方法使得，本发明方案能够解决现有刻写光纤光栅时带宽调节的不便捷、不准确等不足，而且还提高了光纤光栅的刻写效率和刻写精度，降低光纤光栅的制造成本。
一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽振幅模板装置方法

[发明专利]制造衍射光栅的方法-CN202080065471.4在审
发明人：杨书强;K·罗;V·辛格;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：一种制造闪耀衍射光栅的方法包括：提供主模板基板；以及在多个主模板区域中在主模板基板上压印周期性重复的线。主模板区域中的不同主模板区域中的周期性重复的线在不同的方向上延伸。该方法还包括：使用主模板区域中的至少一个作为主模板来在光栅基板上压印至少一个闪耀衍射光栅图案。
制造衍射光栅方法

[发明专利]一种利用宽光栅纳米压印模板制作变周期窄光栅的方法-CN202111512534.9有效
发明人：钱大憨;张昕昱;张放心;刘文 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用宽光栅纳米压印模板制作变周期窄光栅的方法，先将宽光栅压印模板图案转移到软模板上，在衬底上涂覆一层纳米压印胶，将宽光栅压印软模板压入压印胶层，经过紫外光固化定型后剥离压印软模板，压印软模板上的宽光栅图案转移到衬底上的压印胶层通过控制压印胶层图形侧面沉积的氧化硅厚度来控制光栅图案宽度，从而获得高深宽比的窄光栅图案。
一种利用光栅纳米压印模板制作周期方法

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