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[发明专利]一种光场匀化荧光陶瓷及其制备方法与应用-CN202310879372.5在审
发明人：何锦华;董嘉;张晓方;梁超 -专利权人：江苏博睿光电股份有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C04B35/44 文献下载
摘要：本发明提供一种光场匀化荧光陶瓷及其制备方法与应用。所述光场匀化荧光陶瓷中包括细晶折射/散射颗粒，所述细晶折射/散射颗粒的粒径小于500纳米。本发明提供的光场匀化荧光陶瓷，在荧光陶瓷内部分布有细晶折射/散射单元，利用该细晶折射/散射单元对激发光源的入射光进行折射和散射作用，从而使得入射光经过反复多重的折射和散射，进而增强了光场的匀化效果与发光效率进一步，所述的细晶折射/散射单元的大小与激发光源入射光波长大小相当，从而进一步提升了细晶折射/散射单元针对入射光的折射和散射效果，更进一步提升了光场匀化作用与光效。
一种光场匀化荧光陶瓷及其制备方法应用

[实用新型]一种新型激光清洗头-CN202120976668.5有效
发明人：贺永贵;豆晨曦 -专利权人：东莞市中科原子精密制造科技有限公司
申请日： 2021-05-08 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： B23K26/064 文献下载
摘要：该新型激光清洗头包括：外壳；激光器，所述激光器后侧沿激光光束的行进方向依次设有准直透镜、光隔离器、振镜和场镜；衍射匀化器件或者折射匀化器件，位于所述光隔离器和所述场镜之间，用于对到达所述衍射匀化器件或者折射匀化器件的激光光束进行整形，形成平顶光束；其中，所述激光发生器、所述准直透镜、所述光隔离器、所述振镜和所述衍射匀化器件或者折射匀化器件固定在所述外壳内，所述场镜可拆卸地设置在所述外壳内。
一种新型激光洗头

[发明专利]一种分段式激光光源系统-CN201711115336.2在审
发明人：张金旺;何龙;田海军;陈志洁 -专利权人：四川长虹电器股份有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明包括半导体激光光源、望远缩束系统、激光消散斑‑匀化器；所述半导体激光光源包括二极管阵列模组、阵列准直透镜、分光镜，二极管阵列模组通过各自对应的阵列准直透镜后平行输出激光光场，激光光场通过分光镜耦合成共孔径的激光光场，并进入望远缩束系统；望远缩束系统对激光光场进行孔径压缩，压缩后的激光光场输出至激光消散斑‑匀化器，激光消散斑‑匀化器对压缩后的光场进行匀化、消散斑处理并在其光棒出口处产生均匀的方形光场。
一种段式激光光源系统

[实用新型]激光束匀化模组、光路系统及激光投影设备-CN202221344453.2有效
发明人：陈飞;李文峰 -专利权人：深圳市中科创激光技术有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G03B21/20 文献下载
摘要：本申请属于激光投影技术领域，提供了一种激光束匀化模组、光路系统及激光投影设备；其中，激光束匀化模组包括光棒、第一匀化片及第二匀化片，第一匀化片及第二匀化片分别设于光棒的两端侧，光棒的相对两端分别为入光端及出光端，第一匀化片与入光端对应间隔设置，第二匀化片与出光端对应间隔设置，经第一匀化片匀化后的激光束从入光端入射至光棒内，并从出光端射出，而后经第二匀化片再次匀化；光路系统包括激光束匀化模组；激光投影设备包括光路系统本申请提供的激光束匀化模组可以供经第一匀化片匀化后的激光束从入光端入射至光棒内，然后从出光端射出，并入射至第二匀化片进行再次匀化，使激光束得到充分匀化，使光场分布较均匀。
激光束模组系统激光投影设备

[发明专利]激光投射模组-CN202110220184.2在审
发明人：范真涛 -专利权人：嘉兴驭光光电科技有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光投射模组，其包括激光光源和衍射光学元件，其中，激光投射模组具有第一工作模式和第二工作模式，在第一工作模式下，来自激光光源的激光光束以第一入射状态照射衍射光学元件，并且衍射光学元件投射出第一光场，第一光场至少包括图案化的光场；在第二工作模式下，来自激光光源的激光光束以不同于第一入射状态的第二入射状态照射衍射光学元件，并且衍射光学元件投射出第二光场，第二光场包括匀光光场。根据本发明实施例，提供了一种具有不同工作模式的激光投射模组，其将投射图案化光场和投射匀光光场的功能集于一身。
激光投射模组

[发明专利]一种匀场及消相干装置-CN201510645640.2有效
发明人：王栋栋;张文平;孙敏远;毕勇;刘新厚;王东周;高伟男 -专利权人：杭州虹视科技有限公司
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2015-12-02 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明涉及一种匀场及消相干装置，该装置包括：用于将激光整形成平行光束的前透镜；用于将所述平行光束进行匀场的匀光片和用于固定匀光片的匀光片支架。匀光片支架包括内环支架和外环支架，匀光片固定设置在内环支架上，内环支架通过间隔均匀的至少两个弹性连接件与外环支架连接。通过采用上述结构，激光束被匀光片匀化光强的同时，由于匀光片的振动，激光束的相位会被扰乱，从而实现在消相干的同时对激光进行匀场。
一种相干装置

[实用新型]一种匀场及消相干装置-CN201520776738.7有效
发明人：王栋栋;张文平;孙敏远;毕勇;刘新厚;王东周;高伟男 -专利权人：杭州虹视科技有限公司
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种匀场及消相干装置，该装置包括：用于将激光整形成平行光束的前透镜；用于将所述平行光束进行匀场的匀光片和用于固定匀光片的匀光片支架。匀光片支架包括内环支架和外环支架，匀光片固定设置在内环支架上，内环支架通过间隔均匀的至少两个弹性连接件与外环支架连接。通过采用上述结构，激光束被匀光片匀化光强的同时，由于匀光片的振动，激光束的相位会被扰乱，从而实现在消相干的同时对激光进行匀场。
一种相干装置

[发明专利]光场调制器及其调制方法-CN202010802247.0有效
发明人：孟玉凰;黄河;楼歆晔;郑旭君;林涛 -专利权人：上海鲲游光电科技有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：一种光场调制器及其调制方法。该光场调制器包括：至少一匀光元件和一曲面透光基板。该曲面透光基板具有至少一曲面，并且该匀光元件被对应地设置于该曲面透光基板的该曲面，以使该匀光元件的微结构沿着该曲面透光基板的该曲面排布，用于对光源发出的光进行匀化，使得该光能够均匀高效地照亮对应的该目标区域
调制器及其调制方法

[实用新型]激光匀场装置及具有该装置的显示系统-CN201820638184.8有效
发明人：许焕坤;李文峰 -专利权人：深圳市中科创激光技术有限公司
申请日： 2018-04-28 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：本实用新型属于光学技术领域，旨在提供一种激光匀场装置及具有该装置的显示系统，该激光匀场装置包括透镜、匀光棒和散射层。在本实用新型中，激光的入射光束经透镜汇聚到匀光棒的入射面的前方，因匀光棒的入射面上设置有散射层，汇聚后的光线在散射层处先发生散射，然后在匀光棒内经多次反射，以极大地破坏入射光束的干涉作用，使得从匀光棒的出射面射出的出射光束的强度分布均匀，故而，实现激光光束的匀化效果，对应地，散斑现象减轻。另外，通过散射层和匀光棒的合理组合，省去了常规的散射片，减少了显示系统中光路器件的数量，光路调试得到简化。
匀光棒散射层显示系统匀场装置激光透镜本实用新型入射光束入射光学技术领域汇聚出射光束多次反射光路调试光路器件激光光束强度分布散斑现象常规的出射面散射片散射光棒和匀射出匀化干涉

[发明专利]一种激光电视投影系统-CN201910491333.1有效
发明人：张金旺;曹腾;林威志;王先炉;刘志刚 -专利权人：北京一数科技有限公司
申请日： 2019-06-06 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种激光电视投影系统，包括：投影光源模组、匀化与起偏模组、位相片、PBS棱镜、第一LCOS光阀、第二LCOS光阀和投影镜头；投影光源模组，提供第一白光光场；匀化与起偏模组，将第一白光光场起偏，得到第二白光光场；位相片，对第二白光光场中的分时耦合光场和第三基色光中的一个进行位相转换，得到第三白光光场；第三白光光场中的P偏振光透射PBS棱镜后经第一LCOS光阀反射得到的第一反射光场以及将第三白光光场中的S偏振光在PBS棱镜处反射后经第二LCOS光阀反射得到的第二反射光场均经过PBS棱镜后传导至投影镜头，避免了三片式光阀架构由于中继光路的分光折叠因素导致透镜元件过多的情况。
一种激光电视投影系统

[发明专利]一种匀化倍频光光场分布的装置-CN202010144501.2有效
发明人：宗楠;温宁;王志敏;薄勇;彭钦军;许祖彦 -专利权人：中国科学院理化技术研究所
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G02F1/35 文献下载
摘要：一种匀化倍频光光场分布的装置，包括：基频光模块(1)，用于提供基频光源；光束整形模块(2)，设置在基频光源的行进方向上，用于调整基频光源的尺寸；倍频模块(3)，其包括至少一个形成为曲面的通光端面，通光端面设置在调整尺寸后的基频光的行进方向上，以将基频光变频为倍频光。通过设计倍频晶体通光端面的曲面参数，可实现由高斯基频光经倍频晶体后直接输出平顶或近平顶倍频光，即实现倍频光光场分布的匀化。本发明结构紧凑、体积小，不需要多个装置，降低了系统的复杂性，并且其输出的匀化倍频光用于大能量激光变频技术中，可实现器件损伤抑制，提高变频光功率和能量。
一种倍频光光分布装置

[发明专利]用于水下激光照明的全半导体激光光源装置-CN201611226129.X在审
发明人：张俊;彭航宇;宁永强;王立军 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2016-12-27 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： H01S5/40 文献下载
摘要：用于水下激光照明的全半导体激光光源装置，该装置包括激光驱动器、蓝绿光半导体激光阵列、准直镜、匀光镜和变焦光学镜组；所述激光驱动器激励蓝绿光半导体激光阵列输出蓝绿激光，经过准直镜准直输出准直激光，由匀光镜将输出光场均匀化，输出匀化激光，经过变焦光学镜组调节输出发射激光，照射目标。根据不同的水质透过率条件，选用匹配的输出波长进行照明，具有输出波长与传输窗口匹配、输出功率及光场分布稳定、输出光场分布均匀、可靠性高、转换效率高等优势。
用于水下激光照明半导体光源装置

[发明专利]匀光片-CN202010200190.7有效
发明人：夏良平;王乡 -专利权人：珠海迈时光电科技有限公司
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明公开了一种匀光片，包括多个微透镜，至少一个所述微透镜包括交替叠加的折射型曲面和衍射型台阶结构。当激光入射到该匀光片上时，入射光被微透镜分割，并通过微透镜折射型曲面的发散作用在远场形成发散的光斑，同时通过微透镜表面的衍射型台阶结构调节发散光斑的均匀性和边界截止性，可以提升远场匀化光斑的形状控制能力客服了传统的衍射型匀光结构中零级衍射对结构深度的敏感性和大角度匀光问题，同时克服了传统的折射型匀光结构中光斑均匀性不足和边界截止性差的问题。
匀光片

[实用新型]LED聚光匀光系统及使用其的LED灯具-CN201520530643.7有效
发明人：韦鑫;高增军;栗大伟 -专利权人：韦鑫;高增军;栗大伟
申请日： 2015-07-22 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： F21V5/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及LED聚光匀光系统及使用其的LED灯具，一种LED聚光匀光系统，包括准直透镜阵列、格面匀光场镜，其中，所述准直透镜阵列位于LED阵列的出光端；所述格面匀光场镜位于所述准直透镜阵列的出光端。本实用新型专利，通过准直透镜对LED出射光准直后由格面匀光场镜均匀投射到目标照射平面，光学利用率高，结构简单、成本低，出射光均匀。
led 聚光系统使用灯具

[发明专利]一种激光显示用侧入式激光背光源合色匀场器件-CN202110737228.9在审
发明人：许江珂;许江临 -专利权人：许江珂
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光显示用侧入式激光背光源的合色匀场器件，合色匀场器件为平面结构，合色匀场器件的侧面由多个全反射面和一个全透射面合围形成，全透射面采用具有全透射和全反射功能的表面组成，合色匀场器件的内部具有至少一个锥形反射面，锥形反射面的中心轴线与合色匀场器件的上下表面互相垂直，外部入射的激光束经过全反射面和全透射面的多次反射最终实现合色匀场。本发明使用一个器件就能够解决激光束扩束、光场能量匀化、合色及提升激光光源的利用率问题，使激光光源能够用于液晶显示器的背光源照明。
一种激光显示用侧入式背光源合色匀场器件

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