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[发明专利]一种面板的激光修复方法和激光修复装置-CN202110719475.6有效
发明人：黄俊辉 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B33Y50/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种面板的激光修复方法和激光修复装置。该激光修复方法包括在面板上设置的激光测试区的不同位置处按照不同的激光能量值进行激光修复测试；获取各激光能量值对应形成的测试修复图案；将各测试修复图案与预先设置的标准修复图案进行灰度值对比，并获取在预设的灰度差范围内与标准修复图案最接近的测试修复图案，确定该测试修复图案对应的激光能量值为目标激光能量值；按照目标激光能量值调节激光能量，对所述面板执行激光修复。本发明解决了现有面板缺陷修复时激光能量值不稳定的问题，不仅能自动调节激光能量值，确保批量生产时激光修复的良率，还能节省人工调节工序，降低调校难度，提高批量修复的效率。
一种面板激光修复方法装置

[发明专利]一种光罩的缺陷修复方法及光罩-CN201810779833.0在审
发明人：林大伟;张健澄;吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2018-07-16 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩，所述方法包括：提供待修复光罩，所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案，所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案；在所述待修复图案的外侧形成透光的若干散射条，以对所述待修复图案进行光补偿。本发明的方法过程更加容易控制，降低产生二次损伤缺陷的风险，可以提高修复合格率，降低修复循环次数。
光罩修复图案修复透光图案遮光层二次损伤缺陷修复光补偿散射条透光合格率

[发明专利]一种光掩模图案的修复方法-CN201410222368.2在审
发明人：吴苇;王云海 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模图案的修复方法，所述修复方法包括步骤：提供光掩模，所述光掩模包括透明基板和位于所述透明基板上且具有掩模图案的遮光层，所述掩模图案具有待修复部分；刻蚀所述透明基板，在与所述待修复部分对应的位置形成与待修复部分图案相同的沟槽；沉积修复材料至所述沟槽中，修复所述光掩模图案。本发明通过在所述透明基板中制作沟槽并将修复材料填充在沟槽中，确保修复完成后，修复材料与透明基板稳定结合，使之可以经受高强度的清洗工艺，避免修复材料再次缺损，保证光掩模的可靠性，提高光掩模的产率。
一种光掩模图案修复方法

[发明专利]修复平面显示面板中的缺陷部分的方法-CN200710128055.0有效
发明人：赵壮镐;辛圭珹 -专利权人：查目&CI股份公司
申请日： 2007-06-25 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：公开了一种用于修复平面显示面板缺陷部分的方法。所述方法包括：(1)检测基板上线缺陷，(2)使用激光CVD技术，在缺陷部分上形成修复图案，和(3)在步骤(2)后用保护膜涂覆修复图案。优选地，使用气压的分配器系统用保护膜涂覆修复图案。在LCD装置基板的缺陷部分上形成激光CVD修复图案并且之后在其上涂覆保护膜，从而提高被修复部分的稳定性，因此消除在完成修复之后产生的修复缺陷。
修复平面显示面板中的缺陷部分方法

[发明专利]一种光罩的缺陷修复方法及光罩-CN201810457978.9在审
发明人：张晨波;张健澄 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩，所述方法包括：提供待修复光罩，所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案，所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案；在邻近所述缺陷的部分所述遮光层上形成散射图案本发明的方法过程更加容易控制，能够对小尺寸的挑战性缺陷进行补救，并且该方法不会对光罩上的正常图案造成损伤，可以提高修复合格率，降低修复循环次数。
光罩遮光层修复透光图案缺陷修复散射图案修复图案正常图案补救损伤合格率邻近

[发明专利]一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板-CN201910002579.8在审
发明人：朱海鹏;李云泽;吴海龙;但艺;冉敏;江鹏;付剑波;周焱;毛大龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-01-02 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板，该制备方法中，包括检测形成的透明电极图案是否存在缺陷；在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案；在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层；剥离光刻胶图案的同时去除修复层位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成理想透明电极图案上述透明电极层的制备方法中，通过在存在图案残缺的透明电极图案上制备修复层以构成理想透明电极图案，实现对残缺的透明电极图案进行修复，提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
透明电极图案光刻胶图案修复层制备触控显示面板修复残缺透明电极层图案化处理光刻胶层终端产品刻胶层良率去除剥离屏幕图案保留暴露检测

[发明专利]转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮-CN202010406627.2在审
发明人：林刘恭 -专利权人：光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：本发明公开一种转印式滚轮及其修复方法。所述转印式滚轮的修复方法包含前置步骤、置料步骤及成形步骤。在所述前置步骤中，提供一转印式滚轮与一修复模具。所述转印式滚轮形成有一纹路图案层，其具有一缺陷区域。所述修复模具的外形能与所述纹路图案层的局部互补。在所述置料步骤中，在所述缺陷区域设置有一修复材料，其能用来与所述纹路图案层产生共晶反应。在所述成形步骤中，加热所述转印式滚轮以软化所述修复材料，并将所述修复模具压迫于所述修复材料以使所述修复材料在所述缺陷区域形成补齐所述纹路图案层的一修补构造。所述转印式滚轮的修复方法能在不需更换整个现有的转印式滚轮的情况下，对现有的转印式滚轮的表面进行修复。
转印式滚轮修复方法

[发明专利]修复光掩模的方法-CN201611017298.2在审
发明人：蔡尚纶;李岳勋;朱远志;秦圣基 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-11-14 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本公开提供一种修复光掩模的方法。上述方法包括接收一光掩模，其包括一图案化特征部件。图案化特征部件产生一相移且具有一透光率。辨识光掩模上的一缺陷区。形成一修复特征部件于光掩模上的缺陷区上方。形成修复特征部件包括形成一第一图案化材料层于缺陷区上方以及形成一第二图案化材料层于第一图案化材料层上方，以形成修复特征部件。修复特征部件产生上述相移且具有上述透光率。
修复光掩模方法

[发明专利]硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置-CN201110025366.0无效
发明人：西村荣一;田原慈;山下扶美子 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-01-19 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： C23F1/12 文献下载
摘要：本发明提供一种硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置，能够将在通过蚀刻形成于硅基板上的图案之间生长的异物除去，使该图案的形状恢复。该硅基板上的图案修复方法，具有将硅基板收容于腔室内，将硅基板加热到160℃以上的加热工序。
硅基板上图案修复方法装置

[发明专利]光刻胶图案化方法、半导体结构及其制备方法-CN202210932765.3在审
发明人：和娟娟;王景皓;盛薄辉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本公开涉及一种光刻胶图案化方法、半导体结构及其制备方法。所述光刻胶图案化方法，包括：对光刻胶进行曝光显影，于光刻胶内形成图案初始形貌；形成至少覆盖所述图案初始形貌的修复膜；采用氧化性气体对修复膜及光刻胶进行氧化，以修复所述图案初始形貌为图案光滑形貌；其中，修复膜的氧化速率与光刻胶的氧化速率相同或相近本公开可以有效改善光刻胶图案化形貌的表面质量，以提升半导体结构的产品良率。
光刻图案方法半导体结构及其制备

[发明专利]一种激光除痕系统的除痕方法-CN201810605346.2在审
发明人：颜勇 -专利权人：佛山市嘉懿行农业科技有限公司
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： B23P6/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光除痕系统的除痕方法，包括以下步骤：a.修复图案确定步骤，b.表面清理步骤，c.填平步骤，d.激光修复步骤，e.收尾步骤；本发明通过采用了激光修复图案数据制作的工序，提取了凹陷位置周围的图案形貌数据及凹陷面积尺寸数据，制作为激光修复图案数据，最终修复工件的凹陷位置；在经过本发明采用的方法处理之后，能够重新使用，延长其使用寿命，保证生产的质量，节约企业生产成本，减少浪费，并且使用本发明中的激光除痕系统，修复快速高效。
激光修复凹陷位置图案数据激光表面清理尺寸数据企业生产使用寿命图案形貌修复工件修复图案凹陷制作收尾填平修复节约保证生产

[发明专利]基板的激光修复装置以及激光修复方法-CN201110236274.7无效
发明人：赵海生;白国晓;杨魏松 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-08-16 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： B23K26/36 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基板的激光修复装置以及激光修复方法，属于激光切割技术领域。解决了现有技术修复电极的速度太慢的技术问题。该基板的激光修复装置，包括激光发射器和带有遮光图案的透光片；其中，激光发射器发射的激光用于切割基板上电极的多余残留；透光片位于激光发射器与基板之间，且透光片上的遮光图案与基板上电极的图案形状相同、大小成一定比例该基板的激光修复方法，包括：选取带有与电极的图案相同的遮光图案的透光片；将透光片放置于激光发射器与基板之间；调节透光片或基板的位置，使遮光图案在激光下的投影与电极的图案重合；激光发射器向电极上的多余残留发射激光本发明应用于改进基板的激光修复技术。
激光修复装置以及方法

[发明专利]用于光学邻近修正修复的方法-CN201510121332.X有效
发明人：杜杳隽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种用于光学邻近修正修复的方法，所述方法包括：选择包含问题图案的特定图案；对整个芯片进行扫描以定位与所述特定图案相匹配的特定区域；以及在所述特定区域内实施光学邻近修正修复。本发明所提供的用于光学邻近修正修复的方法基于图案匹配使得光学邻近修正修复可以在错误标记指定的较小区域内高效执行，不对其他区域造成不期望的影响。
用于光学邻近修正修复方法

[发明专利]一种薄膜图案修复装置及其修复方法、清洗方法-CN201510023988.8有效
发明人：李娟 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-08-03 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种薄膜图案修复装置及其修复方法、清洗方法，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中采用颜料修复法时，修复后的薄膜层厚度不均匀的问题。其中，所述薄膜图案修复装置包括物料供给控制器、至少一个物料瓶、至少一个修复部以及修复驱动器。在修复驱动器的驱动下，修复部平行于待修复表面移动，并将在物料供给控制器的控制下，从物料瓶供给至修复部的物料涂覆于待修复区域。
一种薄膜图案修复装置及其方法清洗

[发明专利]缺陷修复装置和缺陷修复方法-CN200910204215.4无效
发明人：筒井亚希子 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-10-14 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明涉及缺陷修复装置和缺陷修复方法。该缺陷修复装置包括缺陷检测单元、数据库、缺陷修复单元和控制单元。缺陷检测单元检查其上形成有重复图案的多层基板，并且提取关于重复图案中的缺陷的位置信息和关于缺陷的特征信息。多个缺陷修复技术被登记在数据库中。缺陷修复单元利用指定的缺陷修复技术来修复多层基板的缺陷。控制单元读取针对缺陷检测单元检测出的缺陷的缺陷修复技术，并且利用该缺陷修复技术来控制修复缺陷的缺陷修复单元。
缺陷修复装置方法

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