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- [发明专利]半导体结构及其制作方法-CN202310104747.0有效
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汪逸航;匡定东;闫冬;韦钧;康佳;李伟
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长鑫存储技术有限公司
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2023-02-13
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2023-07-04
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H01L21/768
- 本公开提供了一种半导体结构及其制作方法,涉及半导体技术领域,半导体结构的制作方法包括:将目标结构置于反应腔中,向反应腔中通入第一反应气体和第二反应气体;将反应腔内的工艺条件调节为第一工艺条件,第一反应气体和第二反应气体在目标结构上形成低介电材料层;将第一工艺条件调节为第二工艺条件,第一反应气体和第二反应气体在低介电材料层上形成保护层。本公开在制作过程中无需转移目标结构,在同一反应腔中形成低介电材料层和保护层,不仅节省了一个沉积腔室,还减少了沉积步骤,提高了制程效率、减少了制程时间,降低了生产成本;保护层能够保护低介电材料层的顶面轮廓,避免刻蚀过程中在低介电材料层的顶面形成“尖角”轮廓。
- 半导体结构及其制作方法
- [实用新型]改进的介电共振子-CN99205269.6无效
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张宏宜;庄冠铮;钟运桢
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凯宣科技股份有限公司
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1999-04-05
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2000-05-31
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H01P7/00
- 一种改进的介电共振子,主要是用单一高介电常数、低介电损失的微波介电共振材料,一体成形制成的介电共振子,该介电共振子设有一高度极小的圆柱状或圆筒状凸起,藉以将其撑立于微波电路的基板上,由此避免原来的介电共振子因不同材料之间造成的电磁场偏折,以及制作时,不同材料定位于同一轴心及粘合的困难,以便在形状完全相同的情况下,提供较原来的介电共振子更佳的共振效果,并降低其生产成本。
- 改进共振
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