[发明专利]一种薄膜沉积设备

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积设备，包括：气体传输装置，其一端连接供气设备，以获取气态反应源，另一端连接反应腔；过滤装置，设置于所述气体传输装置中，用以过滤所述气态反应源中的杂质颗粒，向所述反应腔输送所述气态反应源中的反应气体；以及所述反应腔，获取所述反应气体以进行半导体沉积工艺。上述薄膜沉积设备能够及时收集气态反应源中的杂质颗粒，尤其是针对微小的杂质颗粒对其设有二次过滤，避免微小的杂质颗粒随着气流一并前行，长时间后堵塞管路中的气动阀门，不仅延长了过滤装置的使用时间，而且也延长了气动阀门的使用寿命，保证了反应腔内真空吸附功能的稳定性，进而优化薄膜沉积的颗粒度表现。