[发明专利]一种光刻设备照明用光源系统在审
| 申请号： | 202310919171.3 | 申请日： | 2023-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN116909107A | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 张俊杰 | 申请（专利权）人： | 上海图双精密装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海互顺专利代理事务所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 韦志刚;曹月明 |
| 地址： | 201208 上海市浦东新区中国(*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备照明用光源系统，涉及光刻光源相关领域，包括光源机构、光加强机构、滤波机构和匀光机构，所述光源机构左端固定连接有光加强机构，所述光加强机构顶部固定连接有滤波机构，所述滤波机构左端固定连接有匀光机构，设置光源机构，通过第一柱面聚焦镜将入射光聚焦在一条线上，再通过两组光反射层、两组聚焦层和第一四十五度反射镜使光源反射到垂直方向，防止光源发散，影响后期光处理，然后通过多层防护层对光反射层进行防护，延长光反射层的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 设备 照明 用光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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