[发明专利]一种原子层沉积涂布设备在审
申请号: | 202310758815.5 | 申请日: | 2023-06-26 |
公开(公告)号: | CN116904967A | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 宋广伟;张远昊;刘载安 | 申请(专利权)人: | 东领科技装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京中企讯专利代理事务所(普通合伙) 11677 | 代理人: | 刘自亮 |
地址: | 215212 江苏省苏州市吴江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种原子层沉积涂布设备,涉及金属材料镀覆技术领域。本发明包括底板,所述底板的顶面中部设置有转动控制组件,所述转动控制组件顶部设置有安装筒,所述安装筒表面设置有高度控制组件,所述高度控制组件的顶部设置有支撑板,所述支撑板顶部固定连接有放置台,所述底板的顶部固定连接有反应室,所述反应室底部贯通开设有与支撑板相适配的出入口,所述反应室表面设置有原子层沉积组件,所述底板的顶面前侧固定连接有固定架,在使用中实现了便于对基材进行自动化原子层沉积加工的效果,能够对基材进行自动化上下料,有效提升了加工效率,也避免了人工拿取基材时导致掉落损坏的情况,使得加工过程中更加便捷。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 布设 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东领科技装备有限公司,未经东领科技装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310758815.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的