[发明专利]一种原子层沉积涂布设备在审

专利信息
申请号: 202310758815.5 申请日: 2023-06-26
公开(公告)号: CN116904967A 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 宋广伟;张远昊;刘载安 申请(专利权)人: 东领科技装备有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京中企讯专利代理事务所(普通合伙) 11677 代理人: 刘自亮
地址: 215212 江苏省苏州市吴江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种原子层沉积涂布设备,涉及金属材料镀覆技术领域。本发明包括底板,所述底板的顶面中部设置有转动控制组件,所述转动控制组件顶部设置有安装筒,所述安装筒表面设置有高度控制组件,所述高度控制组件的顶部设置有支撑板,所述支撑板顶部固定连接有放置台,所述底板的顶部固定连接有反应室,所述反应室底部贯通开设有与支撑板相适配的出入口,所述反应室表面设置有原子层沉积组件,所述底板的顶面前侧固定连接有固定架,在使用中实现了便于对基材进行自动化原子层沉积加工的效果,能够对基材进行自动化上下料,有效提升了加工效率,也避免了人工拿取基材时导致掉落损坏的情况,使得加工过程中更加便捷。
搜索关键词: 一种 原子 沉积 布设
【主权项】:
暂无信息
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