[发明专利]基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法在审
| 申请号： | 202310202362.8 | 申请日： | 2023-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN116779404A | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 深泽润一;边见笃;大上胜行 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本公开提供一种抑制基板处理在与升降销相对应的位置处变得不均匀的基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其中，该基板载置台具备：基材，其位于所述载置面的下方，由导体构成；升降销，其由导体构成，相对于所述载置面升降；以及销孔，其具有在所述载置面开口的开口部，该销孔形成于所述基材的内部，供所述升降销突出没入，所述升降销包括能够与所述基板接触的上部和与所述上部的下侧连接的下部，在所述上部具有空腔部。 | ||
| 搜索关键词： | 基板载置台 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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