[发明专利]一种高温稳定的DMD结构太阳光谱选择性吸收涂层

摘要

本发明涉及一种高性能DMD结构太阳光谱选择性吸收涂层。具有五层膜结构，从底层到表面依次为扩散阻挡层、红外反射层、电介质干涉层、金属吸收层和减反射层。减反射层、金属吸收层、电介质干涉层组成了电介质‑金属‑电介质串联结构(Dielectric‑Metal‑Dielectric，DMD)。以AlN/TiB2/AlN/Mo/AlN/基片为例，扩散阻挡层、电介质干涉层和减反射层均为AlN，红外反射层为Mo，金属吸收层为TiB2。利用DMD结构形成谐振腔产生等离激元效应和多层干涉增强太阳波段的吸收。由于AlN和TiB2具有较高的扩散激活能和较低的扩散速率使得涂层在高温下(600℃～900℃)长时间稳定。该发明采用磁控溅射技术只需三块靶材便可制备，工艺简便、易于控制、显著降低成本、缩短生产周期，适合作为高温热发电的太阳光谱选择性吸收涂层。