[发明专利]外延处理腔室中的多区灯加热和温度监测在审

专利信息
申请号: 202280017051.8 申请日: 2022-04-23
公开(公告)号: CN116940719A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 石川哲也;斯瓦米纳坦•T•斯里尼瓦桑;卡蒂克•布彭德拉•仙;阿拉•莫拉迪亚;曼朱纳特•苏班纳;马蒂亚斯·鲍尔;彼得·赖默;迈克尔·R·赖斯 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C30B25/10 分类号: C30B25/10
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;吴启超
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本公开内容一般涉及用于处理半导体基板的外延腔室。在一个示例中,该外延腔室具有腔室主体组件。该腔室主体组件包括下部窗口和上部窗口,其中该腔室主体组件、该下部窗口和该上部窗口包围内部空间。基座组件设置在该内部空间中。该外延腔室也具有多个温度控制元件。该多个温度控制元件包括上部灯模块、下部灯模块、上部加热器、下部加热器或加热气体通道中的一者或多者。
搜索关键词: 外延 处理 中的 多区灯加 热和 温度 监测
【主权项】:
暂无信息
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