[发明专利]外延处理腔室中的多区灯加热和温度监测在审
申请号: | 202280017051.8 | 申请日: | 2022-04-23 |
公开(公告)号: | CN116940719A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 石川哲也;斯瓦米纳坦•T•斯里尼瓦桑;卡蒂克•布彭德拉•仙;阿拉•莫拉迪亚;曼朱纳特•苏班纳;马蒂亚斯·鲍尔;彼得·赖默;迈克尔·R·赖斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C30B25/10 | 分类号: | C30B25/10 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;吴启超 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本公开内容一般涉及用于处理半导体基板的外延腔室。在一个示例中,该外延腔室具有腔室主体组件。该腔室主体组件包括下部窗口和上部窗口,其中该腔室主体组件、该下部窗口和该上部窗口包围内部空间。基座组件设置在该内部空间中。该外延腔室也具有多个温度控制元件。该多个温度控制元件包括上部灯模块、下部灯模块、上部加热器、下部加热器或加热气体通道中的一者或多者。 | ||
搜索关键词: | 外延 处理 中的 多区灯加 热和 温度 监测 | ||
【主权项】:
暂无信息
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