[实用新型]一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽

摘要

本实用新型公开了一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽，包括配液槽和出液口，配液槽内设有用于对刻蚀液进行中和的反应区、对刻蚀液进行混合的混流区和用于对刻蚀液内粘性沉淀物进行沉淀的沉淀区，反应区、混流区和沉淀区依次设置在配液槽内部，反应区包括用于对配液进行导入的入液管，混流区包括用于对配液进行混合的混合隔板，沉淀区包括用于对配液进行沉淀的沉淀板，混合隔板和沉淀板均与配液槽可拆洗连接，反应区能够对导入放入刻蚀液和添加补充剂进行中和反应，使得添加剂能够与刻蚀液进行混合，混流区能够带动刻蚀配液充分的进行混合导流，沉淀区能够对配液进行沉淀检测，提高刻蚀配液的效率和质量，从而提高硅片在蚀刻后的背面反射率。