[发明专利]像素结构及制备方法、图像传感器、电子设备在审

专利信息
申请号: 202210332958.5 申请日: 2022-03-31
公开(公告)号: CN116936582A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 郭同辉;石文杰;邵泽旭 申请(专利权)人: 思特威(上海)电子科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N25/79;H04N25/76
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 周伟锋
地址: 200120 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种像素结构及制备方法、图像传感器、电子设备,像素结构包括半导体衬底、设置半导体衬底中的光电转换区及浮动扩散区、传输门电极及电场调制结构。本发明的像素结构设计中,在传输控制门电极与浮动扩散区之间形成电场调制结构,可以基于设置的电场调制结构对传输控制门电极与浮动扩散区之间形成的电场进行调制;另外,当电荷传输晶体管的栅极与漂浮扩散有源区之间构成高电势差时,可以减小或降低的是栅极与漂浮扩散有源区交叠区的电场强度,从而减小栅极诱导漏电(GIDL),改善CIS图像白点坏像素的问题,提高CIS的图像质量。
搜索关键词: 像素 结构 制备 方法 图像传感器 电子设备
【主权项】:
暂无信息
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